Wafer-level Planarisiergerät für 300 mm Substrate
Wafer-level Planarisiergerät für 300 mm Substrate
Das Fraunhofer IZM benötigt einen halbautomatischen Planarisierer auf Wafer-Level-Ebene. Es sollen damit hauptsächlich in eine Polymermatrix eingebettete Metallstrukturen (Bumps, Umverdrahtungen) planarisiert werden. Weiterhin sollen auch Stacks aus mit Tape laminierten Si- und Glaswafern planarisiert werden können. Der Abtragungsprozess sollte wegen Vermeidung von Partikelgenerierung nass erfolgen. Die Anlage soll bzgl. der Wafergröße eine hohe Flexibilität haben: 300 mm und 200 mm Wafer sollen ohne größere Umbaumaßnahmen bearbeitet werden können.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2017-08-28.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2017-07-28.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
Datum |
Dokument |
2017-07-28
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Auftragsbekanntmachung
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2018-01-05
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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