1 St. Spray Accid Tool

Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe

Eine etwa 20 Jahre alte SAT Anlage soll durch eine moderne Anlage ersetzt werden und da-bei ähnliche geringe Anschluss- und Verbrauchswerte aufweisen. Eine genaue Chemikalien-dosierung soll durch Pumpen erreicht werden. Zur nasschemischen Entfernung von stark vernetzten Fotolacken ist eine zusätzliche Hochtemperatur Caro Reinigungslinie notwendig.
Lieferung und funktionsbereite Aufstellung eines neuen SAT zum nasschemischen Reinigen von Siliziumwafern. Die Reinigung hat in einer Kammer von trocken zu trocken zu erfolgen. Es müssen 2 Wafergrößen (150 und 200 mm) prozessierbar sein. Folgende Chemikalien sind zu verwenden: HF, HCl, H2SO4, NH4OH und H2O2, um die Reinigungen SC1, SC2, Caro (= Piranha) und HF-Dip durchführen zu können. Die Reinigungen SC1, SC2 und HF-Dip sind ohne Rezyklierung durchzuführen. Es sind zwei getrennte Caro Reinigungslinien not-wendig (Caro Lack und Caro fein). Die Wafer müssen in derselben Kammer prozessiert, gespült und getrocknet werden.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2018-06-14. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2018-05-15.

Wer?

• • Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe

Wie?

• • Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke › Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

Wo?

• • Oberbayern › München, Kreisfreie Stadt