Es soll eine Anlage zur Beschichtung von glatten Oberflächen mit Metallen, Halbleitern und Isolatoren beschafft werden. Die zu beschichtenden Oberflächen sind ebenfalls Halbleiter, Isolatoren oder Metalle, die in Stücken von 0,5 cm x 0,5 cm bis zu 6 Zoll Wafern vorliegen. Die Schichten sollen Dicken von 1 nm bis zu einigen μm haben und mit hoher Präzision und Reinheit aufgebracht werden. Für solche Prozesse hat sich die sogenannte Aufdampftechnik bewährt, bei der ein Material bis über seinen Schmelzpunkt erwärmt wird, so dass eine gasförmige Phase über dem Material entsteht, die sich dann auf dem zu beschichtenden Substrat niederschlägt. Die Heizung des Materials wird dabei, je nach Material, entweder durch einen Stromfluss durch den Probenhalter oder durch Beschuss des Materials mit hochenergetischen Elektronen durchgeführt. Diese beiden Arten des Verdampfungsprozesses werden thermisches und Elektronenstrahlverdampfen genannt.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2018-08-10.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2018-07-05.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Auftragsbekanntmachung (2018-07-05) Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Referenznummer: EUOV1802
Kurze Beschreibung:
Es soll eine Anlage zur Beschichtung von glatten Oberflächen mit Metallen, Halbleitern und Isolatoren beschafft werden. Die zu beschichtenden Oberflächen sind ebenfalls Halbleiter, Isolatoren oder Metalle, die in Stücken von 0,5 cm x 0,5 cm bis zu 6 Zoll Wafern vorliegen. Die Schichten sollen Dicken von 1 nm bis zu einigen μm haben und mit hoher Präzision und Reinheit aufgebracht werden. Für solche Prozesse hat sich die sogenannte Aufdampftechnik bewährt, bei der ein Material bis über seinen Schmelzpunkt erwärmt wird, so dass eine gasförmige Phase über dem Material entsteht, die sich dann auf dem zu beschichtenden Substrat niederschlägt. Die Heizung des Materials wird dabei, je nach Material, entweder durch einen Stromfluss durch den Probenhalter oder durch Beschuss des Materials mit hochenergetischen Elektronen durchgeführt. Diese beiden Arten des Verdampfungsprozesses werden thermisches und Elektronenstrahlverdampfen genannt.
Es soll eine Anlage zur Beschichtung von glatten Oberflächen mit Metallen, Halbleitern und Isolatoren beschafft werden. Die zu beschichtenden Oberflächen sind ebenfalls Halbleiter, Isolatoren oder Metalle, die in Stücken von 0,5 cm x 0,5 cm bis zu 6 Zoll Wafern vorliegen. Die Schichten sollen Dicken von 1 nm bis zu einigen μm haben und mit hoher Präzision und Reinheit aufgebracht werden. Für solche Prozesse hat sich die sogenannte Aufdampftechnik bewährt, bei der ein Material bis über seinen Schmelzpunkt erwärmt wird, so dass eine gasförmige Phase über dem Material entsteht, die sich dann auf dem zu beschichtenden Substrat niederschlägt. Die Heizung des Materials wird dabei, je nach Material, entweder durch einen Stromfluss durch den Probenhalter oder durch Beschuss des Materials mit hochenergetischen Elektronen durchgeführt. Diese beiden Arten des Verdampfungsprozesses werden thermisches und Elektronenstrahlverdampfen genannt.
Die zu beschaffende Anlage soll beide zuvor genannten Prozesse beherrschen, damit eine möglichst breite Auswahl an Materialien zur Verfügung steht. Viele der Schichten werden in einem sogenannten Lift-off Prozess hergestellt, bei dem zunächst mit lithographischen Methoden eine Maske hergestellt wird, die nach der Bedampfung wieder aufgelöst wird. Damit in diesem Prozess eine saubere Trennung zwischen Schichten, die auf dem Substrat verbleiben sollen, und Schichten, die gemeinsam mit der Maske abgelöst werden sollen, muss der Abstand zwischen Verdampfungsquelle und Substrat hoch sein. Die Anlage ersetzt eine bestehende Anlage, daher muss die Geometrie der Anlage an den bestehenden Platz angepasst werden können. Die Anlage wird von vielen (>50) Nutzern genutzt, muss daher einfach zu bedienen sein, und die Pumpzeiten sollten so niedrig wie möglich sein.
Die zu beschaffende Anlage soll beide zuvor genannten Prozesse beherrschen, damit eine möglichst breite Auswahl an Materialien zur Verfügung steht. Viele der Schichten werden in einem sogenannten Lift-off Prozess hergestellt, bei dem zunächst mit lithographischen Methoden eine Maske hergestellt wird, die nach der Bedampfung wieder aufgelöst wird. Damit in diesem Prozess eine saubere Trennung zwischen Schichten, die auf dem Substrat verbleiben sollen, und Schichten, die gemeinsam mit der Maske abgelöst werden sollen, muss der Abstand zwischen Verdampfungsquelle und Substrat hoch sein. Die Anlage ersetzt eine bestehende Anlage, daher muss die Geometrie der Anlage an den bestehenden Platz angepasst werden können. Die Anlage wird von vielen (>50) Nutzern genutzt, muss daher einfach zu bedienen sein, und die Pumpzeiten sollten so niedrig wie möglich sein.
Es müssen folgende technische Mindestanforderungen erfüllt werden:
Vakuumkammer
— maximalen Abmessungen: Breite: 900 mm, Tiefe: 1950 mm, Höhe: 1 800 mm
— die Innenabmessungen sollen mindestens betragen: Breite: 600 mm, Tiefe: 600 mm, Höhe: 800 mm
— Es werden folgende Flansche benötigt:
Hinten: 1x DN250 ISO-K für Pumpsystem, 2x DN40 KF, 2x DN25 KF, 2x DN16 KF (blind geflanscht, wenn nicht belegt)
Oben: 1x DN250 ISO-K für Substrat-Drehantrieb, ca. 4 Installationsbohrungen, Durchmesser 34,5 mm (blind geflanscht, wenn nicht belegt)
Unten: ca. 8-10 Installationsbohrungen, Durchmesser 34,5 mm (blind geflanscht, wenn nicht belegt)
— Edelstahl-Schutzbleche zur Verhinderung unerwünschter Beschichtung der inneren Kammerwände und Tür, herausnehmbar
Vakuumsystem
— Trockene, wartungsfreie Rootspumpe mit Nennsaugvermögen ≥ 55 m
— Magnetgelagerte Turbomolekularpumpe mit Saugleistung ≥ 2100 l/s,
— Kombiniertes Vakuummessystem im Bereich von 1 000 mbar bis 5E-10 mbar mit einer Genauigkeit von mindestens 15 % (Bereich 1E-2 mbar bis 1 E-8 mbar)
Elektronenstrahlverdampfer
— der Abstand zwischen Quelle und Substrat muss mindestens 40 cm betragen,
— die Leistung des Elektronenstrahlverdampfers muss mindestens 6 kW betragen,
— es müssen mindestens 6 Positionen für Tiegel zur Aufnahme der Aufdampfmaterialien vorgesehen werden, die ohne Öffnung der Vakuumkammer gewechselt werden können,
— Elektro-pneumatische Verdampferblende, Edelstahl, Blenden-Durchmesser ca. 100 mm
Thermischer Verdampfer
— Ausgangsspannung/-strom: max. 5V/max. 400A, Ausgangsleistung: max. 2 kVA
— Thermischer Einzelverdampfer, bestehend aus zwei wassergekühlten Hochstrom-Durchführungen mit universeller Klemmverschraubung für Verdampfer-Schiffchen oder -Wendel
— Dünnschichtmessgeräte mittels Schwingquarzmessungen für 4 Sensoren, Genauigkeit besser 0,1 Å/s, Genaue Position der Sensoren: 3 Messköpfe direkt an den Verdampferquellen, 1 Messkopf auf Substrathöhe zentral in der rotierenden Hohlwelle
Probenhalter
— Substratteller aus Edelstahl, Durchmesser ca. 500 mm, zur Aufnahme von 4 Substraten je 100 mm Durchmesser,
— Substrat-Einlegering aus Edelstahl, für ein Einzelsubstrat mit 100 mm Durchmesser,
— Pneumatische Substratblende, zum Abschatten einer Substratposition unter dem Drehteller, Blenden-Durchmesser ca. 130 mm
Systemsteuerung
— Farb-Touchscreen, Tastatur und Maus zur Anlagenbedienung
— grafische Benutzer-Oberfläche zur Darstellung des Vakuumsystems mit Prozessparametern, Status- und Fehlermeldungen
— manueller Bedienmodus zur Aktivierung der einzelnen Anlagenfunktionen
— automatischer Bedienmodus zur schrittgesteuerten Bearbeitung (Pumpen, Belüften, rezepturgesteuerter Bedampfungsablauf)
— Data-Logging der relevanten Prozessparameter
Substratheizung (Option)
— Prozesstemperatur bis 550
Ionenquelle (Option)
— Ionenquelle zur Reinigung der Substrate Plasma-Neutralisierung durch Filament, montiert innerhalb der Vakuumkammer
Dauer: 238 Tage
Beschreibung der Optionen:
Option 1 Substratheizung:
Heizbarer Substratheizer, Prozesstemperatur bis 550
Option 2 Ionenquelle
Ionenquelle zur Reinigung der Substrate, Plasma-Neutralisierung durch Filament, montiert innerhalb der Vakuumkammer
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:
Helmholtz-Zentrum Dresden Rossendorf
Bautzner Landstrasse 400
01328 Dresden
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:
Eigenerklärung über den Eintrag in einem Berufs- oder Handelsregister nach Maßgabe der Rechtsvorschriften des Staats, in dem der Bieter niedergelassen ist.
Eigenerklärung zu den in §§ 123, 124 GWB genannten Ausschlussgründen.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
Eigenerklärung zum Gesamtumsatz der letzten 3 abgeschlossenen Geschäftsjahre sowie zum Umsatz der letzten 3 abgeschlossenen Geschäftsjahre bezogen auf Leistungen, die mit der zu vergebenden Leistung vergleichbar sind.
Mindeststandards: Geforderter Mindestumsatz besondere Leistungsart: pro Jahr 500 000 EUR netto.
Technische und berufliche Fähigkeiten:
Angabe der wesentlichen in den letzten 3 Jahren erbrachten Leistungen vergleichbar mit der ausgeschriebenen Leistung.
Mindeststandards:
Es werden zwei Referenzsysteme gefordert, die thermisches Verdampfen und Elektronenstrahlverdampfen verschiedener Materialien unter HV-Bedingungen ermöglichen. Dabei müssen die Dimensionen des Gesamtsystems, erreichbarer Enddruck, Abpumpzeiten, Aufdampfraten, Leistungen der Verdampfer und die Zahl der Verdampferquellen vergleichbar (d.h. ±10 % der im Leistungsverzeichnis geforderten Werte) sein.
Es werden zwei Referenzsysteme gefordert, die thermisches Verdampfen und Elektronenstrahlverdampfen verschiedener Materialien unter HV-Bedingungen ermöglichen. Dabei müssen die Dimensionen des Gesamtsystems, erreichbarer Enddruck, Abpumpzeiten, Aufdampfraten, Leistungen der Verdampfer und die Zahl der Verdampferquellen vergleichbar (d.h. ±10 % der im Leistungsverzeichnis geforderten Werte) sein.
Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 14:00
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2018-09-30 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2018-08-10 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 14:15
Zusätzliche Informationen: Nur Bevollmächtigte des Auftraggebers.
Öffentlicher Auftraggeber Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Großforschungseinrichtung
Kontakt
Kontaktperson: Abteilung Vergabe- und Beschaffungswesen
Dokumente URL: https://www.hzdr.de/VOL_EUOV1802🌏
Ergänzende Informationen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes
Postanschrift: Villemomblerstr. 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 2289499-0📞
Fax: +49 2289499-163 📠
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Rechtsbehelfe gemäß § 160 GWB:
1) Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein;
2) Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse an dem öffentlichen Auftrag oder der Konzession hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Absatz 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht;
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren
2) Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse an dem öffentlichen Auftrag oder der Konzession hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Absatz 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht;
3) Der Antrag ist unzulässig, soweit:
(1) Der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Absatz 2 GWB bleibt unberührt;
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren
(1) Der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Absatz 2 GWB bleibt unberührt;
(2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden;
(3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden;
(4) Mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind.
Satz 1 gilt nicht bei einem Antrag auf Feststellung der Unwirksamkeit des Vertrags nach § 135 Absatz 1 Nummer 2. § 134 Absatz 1 Satz 2 bleibt unberührt.
Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können Wie: Körper überprüfen
Quelle: OJS 2018/S 129-293623 (2018-07-05)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2018-09-17) Objekt Umfang der Beschaffung
Gesamtwert des Auftrags: 1 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Verfahren
Angebotsart: Entfällt
Öffentlicher Auftraggeber Identität
Name des öffentlichen Auftraggebers: Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e. V.
Der Gesamtwert der Beschaffung unter II.1.7) und der Gesamtwert des Auftrages unter V.2.4) werden zur Wahrung der Betriebs- und Geschäftsgeheimnisse des vorgesehenen Auftragnehmers nicht bekannt gegeben. Daher wurde der fiktive Wert 1 EUR eingetragen.
Der Gesamtwert der Beschaffung unter II.1.7) und der Gesamtwert des Auftrages unter V.2.4) werden zur Wahrung der Betriebs- und Geschäftsgeheimnisse des vorgesehenen Auftragnehmers nicht bekannt gegeben. Daher wurde der fiktive Wert 1 EUR eingetragen.
Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
— maximalen Abmessungen: Breite: 900 mm, Tiefe: 1 950 mm, Höhe: 1 800 mm,
— die Innenabmessungen sollen mindestens betragen: Breite: 600 mm, Tiefe: 600 mm, Höhe: 800 mm,
— es werden folgende Flansche benötigt:
— Edelstahl-Schutzbleche zur Verhinderung unerwünschter Beschichtung der inneren Kammerwände und Tür, herausnehmbar Vakuumsystem,
— Magnetgelagerte Turbomolekularpumpe mit Saugleistung ≥ 2 100 l/s,
— Kombiniertes Vakuummessystem im Bereich von 1000 mbar bis 5E-10 mbar mit einer Genauigkeit von mindestens 15 % (Bereich 1E-2 mbar bis 1 E-8 mbar).
— Elektro-pneumatische Verdampferblende, Edelstahl, Blenden-Durchmesser ca. 100 mm.
— Ausgangsspannung/-strom: max. 5 V / max. 400 A, Ausgangsleistung: max. 2 kVA,
— Elektro-pneumatische Verdampferblende, Edelstahl, Blenden-Durchmesser ca. 100 mm,
— Thermischer Einzelverdampfer, bestehend aus zwei wassergekühlten Hochstrom-Durchführungen mit universeller Klemmverschraubung für Verdampfer-Schiffchen oder -Wendel,
— Dünnschichtmessgeräte mittels Schwingquarzmessungen für 4 Sensoren, Genauigkeit besser 0,1 Å/s, Genaue Position der Sensoren: 3 Messköpfe direkt an den Verdampferquellen, 1 Messkopf auf Substrathöhe zentral in der rotierenden Hohlwelle.
— Substratteller aus Edelstahl, Durchmesser ca. 500mm, zur Aufnahme von 4 Substraten je 100mm Durchmesser,
— Substrat-Einlegering aus Edelstahl, für ein Einzelsubstrat mit 100mm Durchmesser,
— Pneumatische Substratblende, zum Abschatten einer Substratposition unter dem Drehteller, Blenden-Durchmesser ca. 130 mm.
— Farb-Touchscreen, Tastatur und Maus zur Anlagenbedienung,
— grafische Benutzer-Oberfläche zur Darstellung des Vakuumsystems mit Prozessparametern, Status- und Fehlermeldungen,
— manueller Bedienmodus zur Aktivierung der einzelnen Anlagenfunktionen,
— automatischer Bedienmodus zur schrittgesteuerten Bearbeitung (Pumpen, Belüften, rezepturgesteuerter Bedampfungsablauf),
— Data-Logging der relevanten Prozessparameter.
— Ionenquelle zur Reinigung der Substrate Plasma-Neutralisierung durch Filament, montiert innerhalb der Vakuumkammer.
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Bautzner Landstraße 400
Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2018-09-17 📅
Name: Creavac GmbH
Postanschrift: Löbtauer Str. 56-71
Postort: Dresden
Postleitzahl: 01159
Land: Deutschland 🇩🇪 Dresden
🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 1 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 6
Ergänzende Informationen Körper überprüfen
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
(1) Der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Absatz 2 GWB bleibt unberührt,
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren
(1) Der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Absatz 2 GWB bleibt unberührt,
(2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabegegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
(3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,