Hochauflösendes Texturröntgendiffraktometer
Für Röntgenfeinstrukturuntersuchungen an Gruppe-III-Nitrid-Halbleiterschichtsystemen wird ein hochauflösendes Texturdiffraktometer benötigt. Ziel sind Textur- und Spannungsmessungen an polykristallinen/texturierten Schichten, sowie Hochauflösungsmessungen in schiefsymmetrischer/schiefwinkliger Geometrie an epitaktischem Material. Hinzu kommen ortsauflösende Röntgenfluoreszenzmessungen.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2018-02-19.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2018-01-16.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2018-01-16
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Auftragsbekanntmachung
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| 2018-05-23
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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