Plasmabeschichtungsanlage

Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal deutsche e-Vergabe

Die Anwendung beinhaltet das plasmaunterstützte (plasma ion assited deposition – PIAD) Abscheiden (physical vapor deposition – PVD) von glasartigen Schichten und Metallen mit hohen Abscheideraten (einige μm/min) und großen Schichtdicken im Bereich 100 nm bis 100μm in einem Forschungs- und Entwicklungsumfeld.Die physikalische Zerstäubung geschieht durch Verdampfung mittels Elektronenstrahl
(e-beam deposition). Bedampft werden vorgefertigte Substrate in einer geeigneten Halterung. Als Substrate gelten u. a. Glas- und Halbleiterwafer, Leiterplatten, Kühlkörper, DCB-Substrate und Halbleiterbauelemente, die in ihrer Form, Größe und Oberflächenbeschaffenheit unterschiedlich sind.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2018-07-20. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2018-06-21.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

Wer? Wie? Wo?
Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2018-06-21 Auftragsbekanntmachung
2018-12-11 Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Auftragsbekanntmachung (2018-06-21)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Dampf- oder Sandstrahlmaschinen
Referenznummer: E_079_232249 schnal-golame
Kurze Beschreibung:
Die Anwendung beinhaltet das plasmaunterstützte (plasma ion assited deposition – PIAD) Abscheiden (physical vapor deposition – PVD) von glasartigen Schichten und Metallen mit hohen Abscheideraten (einige μm/min) und großen Schichtdicken im Bereich 100 nm bis 100μm in einem Forschungs- und Entwicklungsumfeld.Die physikalische Zerstäubung geschieht durch Verdampfung mittels Elektronenstrahl (e-beam deposition). Bedampft werden vorgefertigte Substrate in einer geeigneten Halterung. Als Substrate gelten u. a. Glas- und Halbleiterwafer, Leiterplatten, Kühlkörper, DCB-Substrate und Halbleiterbauelemente, die in ihrer Form, Größe und Oberflächenbeschaffenheit unterschiedlich sind.
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Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Dampf- oder Sandstrahlmaschinen 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Erlangen, Kreisfreie Stadt 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal deutsche e-Vergabe
Postanschrift: Hansastr. 27c
Postleitzahl: 80686
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de 🌏
E-Mail: fraunhofer@deutsche-evergabe.de 📧
URL der Dokumente: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
URL der Teilnahme: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2018-06-21 📅
Einreichungsfrist: 2018-07-20 📅
Veröffentlichungsdatum: 2018-06-22 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2018/S 118-267790
ABl. S-Ausgabe: 118
Zusätzliche Informationen
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden, — Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB), —- Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
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Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Die Anwendung beinhaltet das plasmaunterstützte (plasma ion assited deposition – PIAD) Abscheiden (physical vapor deposition – PVD) von glasartigen Schichten und Metallen mit hohen Abscheideraten (einige μm/min) und großen Schichtdicken im Bereich 100 nm bis 100μm in einem Forschungs- und Entwicklungsumfeld.Die physikalische Zerstäubung geschieht durch Verdampfung mittels Elektronenstrahl
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(e-beam deposition). Bedampft werden vorgefertigte Substrate in einer geeigneten Halterung. Als Substrate gelten u. a. Glas- und Halbleiterwafer, Leiterplatten, Kühlkörper, DCB-Substrate und Halbleiterbauelemente, die in ihrer Form, Größe und Oberflächenbeschaffenheit unterschiedlich sind.
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Dauer: 6 Monate
Beschreibung der Optionen:
Pumpen- und Messröhrenauswahl, Garantieverlängerung, Schichdickenmessung, Metall-Verdampfungstiegel, Substratkühlung Erweiterungen.
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 91058 Erlangen

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:
Die nachführend aufgeführten Unterlagen müssen mit dem Angebot vollständig vorgelegt werden. Unvollständige Unterlagen können zum Ausschluss vom Verfahren führen.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
(1) Firmenprofil mit Angabe der Anzahl der Mitarbeiter;
(2) Angaben zum Umsatz der letzten 3 Jahre;
(3) Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen (siehe Anlage);
(4) Auszug aus dem Gewerbezentralregister gemäß § 150a GewO (wird durch den Auftraggeber angefordert).
Technische und berufliche Fähigkeiten:
(1) Komplette Referenzen (Kontaktdaten) von vergleichbaren Systemen, nicht älter als 3 Jahre, für Plasmabeschichtungsanlagen
Auftragsausführung
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen, deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
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Verfahren
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 23:59
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Forschungsgesellschaft e. V.
Kontakt
Adresse des Käuferprofils: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Dokumente URL: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏

Referenz
Zusätzliche Informationen
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden,
— Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB),
—- Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
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Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf 10 Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
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Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal e-Vergabe
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postort: München
Postleitzahl: 80686
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de 📧
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de 🌏
Quelle: OJS 2018/S 118-267790 (2018-06-21)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2018-12-11)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Die Anwendung beinhaltet das plasmaunterstützte (plasma ion assited deposition – PIAD) Abscheiden (physical vapor deposition – PVD) von glasartigen Schichten und Metallen mit hohen Abscheideraten (einige μm/min) und großen Schichtdicken im Bereich 100 nm bis 100 μm in einem Forschungs- und Entwicklungsumfeld.Die physikalische Zerstäubung geschieht durch Verdampfung mittels Elektronenstrahl (e-beam deposition). Bedampft werden vorgefertigte Substrate in einer geeigneten Halterung. Als Substrate gelten u. a. Glas- und Halbleiterwafer, Leiterplatten, Kühlkörper, DCB-Substrate und Halbleiterbauelemente, die in ihrer Form, Größe und Oberflächenbeschaffenheit unterschiedlich sind.
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Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Angebotsart: Entfällt

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe

Referenz
Daten
Absendedatum: 2018-12-11 📅
Veröffentlichungsdatum: 2018-12-14 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2018/S 241-550047
Verweist auf Bekanntmachung: 2018/S 118-267790
ABl. S-Ausgabe: 241
Zusätzliche Informationen
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden, — Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB) – Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
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Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Die Anwendung beinhaltet das plasmaunterstützte (plasma ion assited deposition – PIAD) Abscheiden (physical vapor deposition - PVD) von glasartigen Schichten und Metallen mit hohen Abscheideraten (einige μm/min) und großen Schichtdicken im Bereich 100 nm bis 100 μm in einem Forschungs- und Entwicklungsumfeld.Die physikalische Zerstäubung geschieht durch Verdampfung mittels Elektronenstrahl (e-beam deposition). Bedampft werden vorgefertigte Substrate in einer geeigneten Halterung. Als Substrate gelten u. a. Glas- und Halbleiterwafer, Leiterplatten, Kühlkörper, DCB-Substrate und Halbleiterbauelemente, die in ihrer Form, Größe und Oberflächenbeschaffenheit unterschiedlich sind.
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Verfahren
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Technische Spezifikation gem. Leistungsverzeichnis
Qualitätskriterium (Gewichtung): 65
Preis (Gewichtung): 35

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2018-12-10 📅
Name: creavac Creative Vakuumbeschichtung GmbH
Postanschrift: Löbtauer Str. 67-69
Postort: Dresden
Postleitzahl: 01159
Land: Deutschland 🇩🇪
Dresden, Kreisfreie Stadt 🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 3

Referenz
Zusätzliche Informationen
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden,
— Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB) – Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
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Ergänzende Informationen
Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe
Quelle: OJS 2018/S 241-550047 (2018-12-11)
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