VPD Tool zur Kontaminierungsbestimmung auf Wafern
VPD Tool zur Kontaminierungsbestimmung auf Wafern.
Es soll eine VPD-Anlage zur Probenpräparation zur Bestimmung von metallischen Verunreinigungen auf Si-Wafern beschafft werden. Dazu wird der Wafer mit HF bedampft, wobei sich SiO2 auflöst und alle darin enthaltenen Verunreinigungen in die mobile Phase übergehen. Diese mobile Phase wird mit einem Scan-Tropfen (verdünnte HF+H2O2) aufgenommen, der z.B. spiralförmig über den Wafer geführt wird. Dieser Tropfen wird anschließend mittels ICP-MS analysiert. Die Anlage ist für den Betrieb in einem ISO 6 Reinraum vorgesehen und ist entsprechend reinraumkompatibel zu konzipieren. Die Anlage soll auf 200 mm/8“ und 300 mm/12“ Wafer ausgelegt sein,
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2018-03-23.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2018-02-21.
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
| 2018-02-21
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Auftragsbekanntmachung
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