Eine Vakuum-Depositionsanlage für Schichten zwecks Herstellung von Perowskit Solarzellen. Die Anlage soll als Cluster-Mehrkammer-System alle Schichten ohne Vakuumbruch auf einer Fläche von (200 x 200) mm (Silizium Wafergrößen M2-M6) abscheiden. Es sind die folgenden Depositionskammern notwendig:
1) Thermisches Aufdampfen von Perowskit Absorberschichten, wobei 5 oder mehr verschiedene organische und anorganische Precursor-Materialien separat oder gleichzeitig homogen aufgedampft werden können;
2) Thermisches Aufdampfen von organischen und anorganischen Kontaktschichten (HTL und ETL), aus vier oder mehr Quellen;
3) Thermische Atomic-Layer-Deposition (ALD) von Metalloxid Pufferschichten, Schichten von SnO2 abgeschieden bei 100C als Referenzprozess;
4) Magnetron Sputtern bei Temperaturen von bis zu 250C mit einem industrienahen Prozess, d. h. dynamisch, idealerweise von Rohrkathoden. Es soll vorgesehen werden:
a) Sputtern von TCO Materialien mit minimaler Schädigung der darunterliegenden Perowskit Solarzelle durch Ionen-, Strahlungs- oder thermischen Einfluss, mit z. B. ITO als Referenzprozess;
b) Pulsed-DC Sputtern von TCOs und anderen Metalloxiden, z. B. NiOx 4 a. und b. sollen entweder optional angeboten werden als 2 getrennte Sputterzonen oder als austauschbare Quelle in einer Sputterzone. Außerdem soll in die Sputterzone(n) optional separat geschleust werden können (also nicht über den zentralen Roboter).
5) Elektronenstrahl-Verdampfen von Metalloxiden, z. B. NiOx ist optional vorzusehen bzw. muss nachrüstbar sein.
Die Anlage soll mit einer automatischen Steuerung incl. Rezeptverwaltung und einem kontaminationsfrei Probenhandlings-System, integrierten Carrier-Cassetten zum Prozessieren von mind. 10 Proben sowie einem abgestimmten Sicherheitskonzept angeboten werden. Für die Be- und Entladung der organischen Materialien (Quellen) müssen Gloveboxen vorgesehen werden.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2020-01-27.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2019-12-20.
Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: A741 PVD Anlage Koala
Produkte/Dienstleistungen: Instrumente zum Prüfen von physikalischen Eigenschaften📦
Kurze Beschreibung:
“Eine Vakuum-Depositionsanlage für Schichten zwecks Herstellung von Perowskit Solarzellen. Die Anlage soll als Cluster-Mehrkammer-System alle Schichten ohne...”
Kurze Beschreibung
Eine Vakuum-Depositionsanlage für Schichten zwecks Herstellung von Perowskit Solarzellen. Die Anlage soll als Cluster-Mehrkammer-System alle Schichten ohne Vakuumbruch auf einer Fläche von (200 x 200) mm (Silizium Wafergrößen M2-M6) abscheiden. Es sind die folgenden Depositionskammern notwendig:
1) Thermisches Aufdampfen von Perowskit Absorberschichten, wobei 5 oder mehr verschiedene organische und anorganische Precursor-Materialien separat oder gleichzeitig homogen aufgedampft werden können;
2) Thermisches Aufdampfen von organischen und anorganischen Kontaktschichten (HTL und ETL), aus vier oder mehr Quellen;
3) Thermische Atomic-Layer-Deposition (ALD) von Metalloxid Pufferschichten, Schichten von SnO2 abgeschieden bei 100C als Referenzprozess;
4) Magnetron Sputtern bei Temperaturen von bis zu 250C mit einem industrienahen Prozess, d. h. dynamisch, idealerweise von Rohrkathoden. Es soll vorgesehen werden:
a) Sputtern von TCO Materialien mit minimaler Schädigung der darunterliegenden Perowskit Solarzelle durch Ionen-, Strahlungs- oder thermischen Einfluss, mit z. B. ITO als Referenzprozess;
b) Pulsed-DC Sputtern von TCOs und anderen Metalloxiden, z. B. NiOx 4 a. und b. sollen entweder optional angeboten werden als 2 getrennte Sputterzonen oder als austauschbare Quelle in einer Sputterzone. Außerdem soll in die Sputterzone(n) optional separat geschleust werden können (also nicht über den zentralen Roboter).
5) Elektronenstrahl-Verdampfen von Metalloxiden, z. B. NiOx ist optional vorzusehen bzw. muss nachrüstbar sein.
Die Anlage soll mit einer automatischen Steuerung incl. Rezeptverwaltung und einem kontaminationsfrei Probenhandlings-System, integrierten Carrier-Cassetten zum Prozessieren von mind. 10 Proben sowie einem abgestimmten Sicherheitskonzept angeboten werden. Für die Be- und Entladung der organischen Materialien (Quellen) müssen Gloveboxen vorgesehen werden.
1️⃣
Ort der Leistung: Berlin🏙️
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 12489 Berlin
Kekuléstr. 5 (1. Etage, PVD Labor)
Beschreibung der Beschaffung:
“Eine Vakuum-Depositionsanlage für Schichten zwecks Herstellung von Perowskit Solarzellen. Die Anlage soll als Cluster-Mehrkammer-System alle Schichten ohne...”
Beschreibung der Beschaffung
Eine Vakuum-Depositionsanlage für Schichten zwecks Herstellung von Perowskit Solarzellen. Die Anlage soll als Cluster-Mehrkammer-System alle Schichten ohne Vakuumbruch auf einer Fläche von (200 x 200) mm (Silizium Wafergrößen M2-M6) abscheiden. Es sind die folgenden Depositionskammern notwendig:
1) Thermisches Aufdampfen von Perowskit Absorberschichten, wobei 5 oder mehr verschiedene organische und anorganische Precursor-Materialien separat oder gleichzeitig homogen aufgedampft werden können;
2) Thermisches Aufdampfen von organischen und anorganischen Kontaktschichten (HTL und ETL), aus vier oder mehr Quellen;
3) Thermische Atomic-Layer-Deposition (ALD) von Metalloxid Pufferschichten, Schichten von SnO2 abgeschieden bei 100C als Referenzprozess;
4) Magnetron Sputtern bei Temperaturen von bis zu 250C mit einem industrienahen Prozess, d. h. dynamisch, idealerweise von Rohrkathoden. Es soll vorgesehen werden:
a) Sputtern von TCO Materialien mit minimaler Schädigung der darunterliegenden Perowskit Solarzelle durch Ionen-, Strahlungs- oder thermischen Einfluss, mit z. B. ITO als Referenzprozess;
b) Pulsed-DC Sputtern von TCOs und anderen Metalloxiden, z. B. NiOx 4 a. und b. sollen entweder optional angeboten werden als 2 getrennte Sputterzonen oder als austauschbare Quelle in einer Sputterzone. Außerdem soll in die Sputterzone(n) optional separat geschleust werden können (also nicht über den zentralen Roboter).
5) Elektronenstrahl-Verdampfen von Metalloxiden, z. B. NiOx ist optional vorzusehen bzw. muss nachrüstbar sein.
Die Anlage soll mit einer automatischen Steuerung incl. Rezeptverwaltung und einem kontaminationsfrei Probenhandlings-System, integrierten Carrier-Cassetten zum Prozessieren von mind. 10 Proben sowie einem abgestimmten Sicherheitskonzept angeboten werden. Für die Be- und Entladung der organischen Materialien (Quellen) müssen Gloveboxen vorgesehen werden.
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Qualität
Qualitätskriterium (Gewichtung): 50 %
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Lieferzeit
Qualitätskriterium (Gewichtung): 20 %
Preis (Gewichtung): 30 %
Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems
Der nachstehende Zeitrahmen ist in Monaten ausgedrückt.
Beschreibung
Dauer: 10
Informationen über die Begrenzung der Zahl der einzuladenden Bewerber
Vorgesehene Mindestanzahl: 2
Maximale Anzahl: 5
Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Anzahl von Bewerbern:
“Erfüllung der genannten Eignungskriterien zur wirtschaflichen und fachlichen Eignung.”
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“— kurze Unternehmenspräsentation,
— Unterschriebene Eigenerklärung,
— Erklärung über den Gesamtumsatz des Unternehmens sowie den Umsatz bezüglich der...”
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien
— kurze Unternehmenspräsentation,
— Unterschriebene Eigenerklärung,
— Erklärung über den Gesamtumsatz des Unternehmens sowie den Umsatz bezüglich der besonderen Leistungsart, die Gegenstand der Vergabe ist, bezogen auf die letzten 2 Geschäftsjahre.
Mehr anzeigen Bedingungen für die Teilnahme
Mindestbedingung: Jahres-Umsatz > 2 x Auftragsvolumen
Technische und berufliche Fähigkeiten
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“Die Firma soll Referenzprojekten angeben, wo Systeme hergestellt wurden, die Erfahrungen mit allen in der Kurzbeschreibung aufgezählten Abscheidetechniken...”
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien
Die Firma soll Referenzprojekten angeben, wo Systeme hergestellt wurden, die Erfahrungen mit allen in der Kurzbeschreibung aufgezählten Abscheidetechniken darlegen.
Insbesondere müssen die Referenzen das Vorhandensein der folgenden Kenntnisse belegen:
— Erklärung, dass jeweils die Möglichkeit einer Bemusterung an einer vergleichbaren Anlage bzw. an einem Test-Stand jeweils für die 3 Abscheidetechniken gegeben ist. Der Hersteller der Anlagen- bzw. des Test-Stands muss identisch sein dem Lieferanten der geplanten Anlage bzw. des entsprechenden Prozess-Moduls,
— homogenes und reproduzierbares Aufdampfen von spezielle für Perowskit Solarzellen notwendigen Procursormaterialien über die gesamte spezifizierte Fläche,
— 2 Referenzen aus den letzten 3 Jahren für relevante PVD Produktionsanlagen.
2 Referenzen aus den letzten 3 Jahren für ähnliche/relevante PVD-Clusteranlage für F&E Anwendungen.
Mehr anzeigen Bedingungen für die Teilnahme
Bedingungen für die Teilnahme (technische und berufliche Fähigkeiten):
“Drei Referenzprojekten angeben, wo Systeme hergestellt wurden, die Erfahrungen mit allen in der Kurzbeschreibung aufgezählten Abscheidetechniken darlegen:
—...”
Bedingungen für die Teilnahme (technische und berufliche Fähigkeiten)
Drei Referenzprojekten angeben, wo Systeme hergestellt wurden, die Erfahrungen mit allen in der Kurzbeschreibung aufgezählten Abscheidetechniken darlegen:
— 2 Referenzen aus den letzten 3 Jahren für relevante PVD Produktionsanlagen,
— 2 Referenzen aus den letzten 3 Jahren für ähnliche/relevante PVD-Clusteranlage für F&E Anwendungen.
Verfahren Art des Verfahrens
Wettbewerbliches Verfahren mit Verhandlung
Informationen über die Reduzierung der Anzahl von Lösungen oder Angeboten während der Verhandlungen oder des Dialogs
Rückgriff auf ein gestaffeltes Verfahren, um die Zahl der zu erörternden Lösungen oder zu verhandelnden Angebote schrittweise zu verringern
Informationen zur Verhandlung
Der Auftraggeber behält sich das Recht vor, den Auftrag auf der Grundlage der ersten Angebote zu vergeben, ohne Verhandlungen zu führen
Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2020-01-27
23:45 📅
Voraussichtliches Datum der Versendung der Aufforderungen zur Angebotsabgabe oder zur Teilnahme an die ausgewählten Bewerber: 2020-02-04 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Das Angebot muss gültig sein bis: 2020-04-30 📅
Ergänzende Informationen Informationen über elektronische Arbeitsabläufe
Die elektronische Bestellung wird verwendet
Die elektronische Rechnungsstellung wird akzeptiert
Elektronische Zahlung wird verwendet
Zusätzliche Informationen
“Bitte registrieren Sie sich für Teilnahme an der elektronischen Ausschreibung kostenlos unter http://www.subreport.de/ und laden sich die Unterlagen für den...”
Bitte registrieren Sie sich für Teilnahme an der elektronischen Ausschreibung kostenlos unter http://www.subreport.de/ und laden sich die Unterlagen für den Teilnahmewettbewerb unter der Nummer E87855726 herunter.
Ihre Registrierung gewährleistet, dass Sie alle für den Teilnahmewettbewerb und die Ausschreibung relevanten Informationen, wie Antworten auf Bieterfragen und Änderungen bei den Fristen und Vergabeunterlagen, automatisch an Ihre dort eingetragene E-Mail-Adresse erhalten.
Sofern Sie bereit sind, an der Ausschreibung teilzunehmen, erbitten wir dazu Ihren Teilnahmeantrag in elektronischer Form.
Anmerkungen oder Technische Fragen senden Sie bitte ausschließlich über die Vergabeplattform unter Menüpunkt „Nachrichten (Bieterkommunikation)“ in Subreport Elvis Nach Auswertung der Teilnahmeanträge und deren Präsentation erhalten alle Teilnehmer die Ihre Leistungsfähigkeit nachweisen konnten die Aufforderung zur Abgabe eines Angebots und die dafür nötigen Vergabeunterlagen nebst Leistungsverzeichnis.
Mehr anzeigen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Land: Deutschland 🇩🇪 Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Land: Deutschland 🇩🇪 Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“Verstöße gegen Vergabebestimmungen sind gegenüber dem Auftraggeber innerhalb von 10 Kalendertagen zu rügen, bei Verstößen, die sich aus der Bekanntmachung...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
Verstöße gegen Vergabebestimmungen sind gegenüber dem Auftraggeber innerhalb von 10 Kalendertagen zu rügen, bei Verstößen, die sich aus der Bekanntmachung oder den Vergabeunterlagen ergeben, bis spätestens zum Ablauf der Angebotsfrist. Teilt der Auftraggeber mit, dass der Rüge nicht abgeholfen wird, kann innerhalb von 15 Kalendertagen ein Nachprüfungsantrag bei der zuständigen Vergabekammer gestellt werden.(§ 160 GWB).
Mehr anzeigen Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Land: Deutschland 🇩🇪
Quelle: OJS 2019/S 248-612183 (2019-12-20)