Es soll eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Metallisierung von Si Proben (typische Größe 4x4 cm, Dicke <1 mm) angeschafft werden. Es sollen mindestens vier Proben parallel beschichtet werden können. Die Anlage soll mindestens 3 Quellen besitzen, wobei sowohl Verdampferquellen als auch Sputterquellen möglich sind. Typische Materialien umfassen Aluminium, Titan, Platin und Nickel. Innerhalb eines Prozesses sollen die Möglichkeit bestehen mehrere Metalle nacheinander auf alle Proben abzuscheiden. Typische Schichtdicken betragen 10-1000 nm. Ein Beschichtungsrun sollte inklusive Probenwechsel/Schleusung bei einer Schichtdicke von 100 nm nicht länger als eine Stunde dauern. Außerdem soll die Möglichkeit vorgesehen werden über Schattenmasken eine strukturierte Metallschicht auf den Proben zu erzeugen. Die Schattenmaske muss sich außerhalb der Anlage (ggfs. mittels Mikroskop) relativ zur Probe justieren lassen und so fixiert sein, dass sie während des Beschichtungsprozesses nicht verrutscht.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2019-02-08.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2019-01-08.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Auftragsbekanntmachung (2019-01-08) Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Referenznummer: E_048_254909 ChrPat-golame FMD
Kurze Beschreibung:
Es soll eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Metallisierung von Si Proben (typische Größe 4x4 cm, Dicke <1 mm) angeschafft werden. Es sollen mindestens vier Proben parallel beschichtet werden können. Die Anlage soll mindestens 3 Quellen besitzen, wobei sowohl Verdampferquellen als auch Sputterquellen möglich sind. Typische Materialien umfassen Aluminium, Titan, Platin und Nickel. Innerhalb eines Prozesses sollen die Möglichkeit bestehen mehrere Metalle nacheinander auf alle Proben abzuscheiden. Typische Schichtdicken betragen 10-1000 nm. Ein Beschichtungsrun sollte inklusive Probenwechsel/Schleusung bei einer Schichtdicke von 100 nm nicht länger als eine Stunde dauern. Außerdem soll die Möglichkeit vorgesehen werden über Schattenmasken eine strukturierte Metallschicht auf den Proben zu erzeugen. Die Schattenmaske muss sich außerhalb der Anlage (ggfs. mittels Mikroskop) relativ zur Probe justieren lassen und so fixiert sein, dass sie während des Beschichtungsprozesses nicht verrutscht.
Es soll eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Metallisierung von Si Proben (typische Größe 4x4 cm, Dicke <1 mm) angeschafft werden. Es sollen mindestens vier Proben parallel beschichtet werden können. Die Anlage soll mindestens 3 Quellen besitzen, wobei sowohl Verdampferquellen als auch Sputterquellen möglich sind. Typische Materialien umfassen Aluminium, Titan, Platin und Nickel. Innerhalb eines Prozesses sollen die Möglichkeit bestehen mehrere Metalle nacheinander auf alle Proben abzuscheiden. Typische Schichtdicken betragen 10-1000 nm. Ein Beschichtungsrun sollte inklusive Probenwechsel/Schleusung bei einer Schichtdicke von 100 nm nicht länger als eine Stunde dauern. Außerdem soll die Möglichkeit vorgesehen werden über Schattenmasken eine strukturierte Metallschicht auf den Proben zu erzeugen. Die Schattenmaske muss sich außerhalb der Anlage (ggfs. mittels Mikroskop) relativ zur Probe justieren lassen und so fixiert sein, dass sie während des Beschichtungsprozesses nicht verrutscht.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke📦 Ort der Leistung
NUTS-Region: Dresden🏙️
Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot
Öffentlicher Auftraggeber Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe
Postanschrift: Hansastr. 27c
Postleitzahl: 80686
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de🌏
E-Mail: fraunhofer@deutsche-evergabe.de📧
URL der Dokumente: http://www.deutsche-evergabe.de🌏
URL der Teilnahme: http://www.deutsche-evergabe.de🌏
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden,
— Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB),
— Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden,
— Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB),
— Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Es soll eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Metallisierung von Si Proben (typische Größe 4x4 cm, Dicke <1 mm) angeschafft werden. Es sollen mindestens vier Proben parallel beschichtet werden können. Die Anlage soll mindestens 3 Quellen besitzen, wobei sowohl Verdampferquellen als auch Sputterquellen möglich sind. Typische Materialien umfassen Aluminium, Titan, Platin und Nickel. Innerhalb eines Prozesses sollen die Möglichkeit bestehen mehrere Metalle nacheinander auf alle Proben abzuscheiden. Typische Schichtdicken betragen 10-1000 nm. Ein Beschichtungsrun sollte inklusive Probenwechsel/Schleusung bei einer Schichtdicke von 100 nm nicht länger als eine Stunde dauern.
Es soll eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Metallisierung von Si Proben (typische Größe 4x4 cm, Dicke <1 mm) angeschafft werden. Es sollen mindestens vier Proben parallel beschichtet werden können. Die Anlage soll mindestens 3 Quellen besitzen, wobei sowohl Verdampferquellen als auch Sputterquellen möglich sind. Typische Materialien umfassen Aluminium, Titan, Platin und Nickel. Innerhalb eines Prozesses sollen die Möglichkeit bestehen mehrere Metalle nacheinander auf alle Proben abzuscheiden. Typische Schichtdicken betragen 10-1000 nm. Ein Beschichtungsrun sollte inklusive Probenwechsel/Schleusung bei einer Schichtdicke von 100 nm nicht länger als eine Stunde dauern.
Außerdem soll die Möglichkeit vorgesehen werden über Schattenmasken eine strukturierte Metallschicht auf den Proben zu erzeugen. Die Schattenmaske muss sich außerhalb der Anlage (ggfs. mittels Mikroskop) relativ zur Probe justieren lassen und so fixiert sein, dass sie während des Beschichtungsprozesses auch bei Wechsel des Beschichtungsmaterials nicht verrutscht.
Außerdem soll die Möglichkeit vorgesehen werden über Schattenmasken eine strukturierte Metallschicht auf den Proben zu erzeugen. Die Schattenmaske muss sich außerhalb der Anlage (ggfs. mittels Mikroskop) relativ zur Probe justieren lassen und so fixiert sein, dass sie während des Beschichtungsprozesses auch bei Wechsel des Beschichtungsmaterials nicht verrutscht.
Die Prozessierung soll nach der Bestückung mit Proben vollautomatisiert erfolgen (inkl. Pumpen, Beschichten und Belüften
Dauer: 10 Monate
Beschreibung der Optionen:
Siehe Punkt sechs „Optionale Anforderungen und Ausstattung“ des Leistungsverzeichnisses.
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 01099 Dresden
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:
Die nachführend aufgeführten Unterlagen müssen mit dem Angebot vollständig vorgelegt werden. Unvollständige Unterlagen können zum Ausschluss vom Verfahren führen.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
(1) Firmenprofil mit Angabe der Anzahl der Mitarbeiter;
(2) Angaben zum Umsatz der letzten 3 Jahre;
(3) Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen (siehe Anlage);
(4) Auszug aus dem Gewerbezentralregister gemäß § 150a GewO (wird durch den Auftraggeber angefordert).
Technische und berufliche Fähigkeiten:
(1) Komplette Referenzen (Kontaktdaten) von vergleichbaren Systemen, nicht älter als 3 Jahre.
Auftragsausführung
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen, deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen, deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 23:59
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden,
— Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB),
— Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
— Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
Ergänzende Informationen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf 10 Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf 10 Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postort: München
Postleitzahl: 80686
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de📧
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de🌏
Quelle: OJS 2019/S 008-013675 (2019-01-08)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2019-07-25) Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Es soll eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Metallisierung von Si Proben (typische Größe 4 x 4 cm, Dicke <1 mm) angeschafft werden. Es sollen mindestens 4 Proben parallel beschichtet werden können. Die Anlage soll mindestens 3 Quellen besitzen, wobei sowohl Verdampferquellen als auch Sputterquellen möglich sind. Typische Materialien umfassen Aluminium, Titan, Platin und Nickel. Innerhalb eines Prozesses sollen die Möglichkeit bestehen mehrere Metalle nacheinander auf alle Proben abzuscheiden. Typische Schichtdicken betragen 10-1 000 nm. Ein Beschichtungsrun sollte inklusive Probenwechsel/Schleusung bei einer Schichtdicke von 100 nm nicht länger als eine Stunde dauern. Außerdem soll die Möglichkeit vorgesehen werden über Schattenmasken eine strukturierte Metallschicht auf den Proben zu erzeugen. Die Schattenmaske muss sich außerhalb der Anlage (ggfs. mittels Mikroskop) relativ zur Probe justieren lassen und so fixiert sein, dass sie während des Beschichtungsprozesses nicht verrutscht.
Es soll eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Metallisierung von Si Proben (typische Größe 4 x 4 cm, Dicke <1 mm) angeschafft werden. Es sollen mindestens 4 Proben parallel beschichtet werden können. Die Anlage soll mindestens 3 Quellen besitzen, wobei sowohl Verdampferquellen als auch Sputterquellen möglich sind. Typische Materialien umfassen Aluminium, Titan, Platin und Nickel. Innerhalb eines Prozesses sollen die Möglichkeit bestehen mehrere Metalle nacheinander auf alle Proben abzuscheiden. Typische Schichtdicken betragen 10-1 000 nm. Ein Beschichtungsrun sollte inklusive Probenwechsel/Schleusung bei einer Schichtdicke von 100 nm nicht länger als eine Stunde dauern. Außerdem soll die Möglichkeit vorgesehen werden über Schattenmasken eine strukturierte Metallschicht auf den Proben zu erzeugen. Die Schattenmaske muss sich außerhalb der Anlage (ggfs. mittels Mikroskop) relativ zur Probe justieren lassen und so fixiert sein, dass sie während des Beschichtungsprozesses nicht verrutscht.
Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden. – Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§ 134 GWB) – Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden. – Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§ 134 GWB) – Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Es soll eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Metallisierung von Si Proben (typische Größe 4 x 4 cm, Dicke <1 mm) angeschafft werden. Es sollen mindestens 4 Proben parallel beschichtet werden können. Die Anlage soll mindestens 3 Quellen besitzen, wobei sowohl Verdampferquellen als auch Sputterquellen möglich sind. Typische Materialien umfassen Aluminium, Titan, Platin und Nickel. Innerhalb eines Prozesses sollen die Möglichkeit bestehen mehrere Metalle nacheinander auf alle Proben abzuscheiden. Typische Schichtdicken betragen 10-1 000 nm. Ein Beschichtungsrun sollte inklusive Probenwechsel/Schleusung bei einer Schichtdicke von 100 nm nicht länger als eine Stunde dauern.
Es soll eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Metallisierung von Si Proben (typische Größe 4 x 4 cm, Dicke <1 mm) angeschafft werden. Es sollen mindestens 4 Proben parallel beschichtet werden können. Die Anlage soll mindestens 3 Quellen besitzen, wobei sowohl Verdampferquellen als auch Sputterquellen möglich sind. Typische Materialien umfassen Aluminium, Titan, Platin und Nickel. Innerhalb eines Prozesses sollen die Möglichkeit bestehen mehrere Metalle nacheinander auf alle Proben abzuscheiden. Typische Schichtdicken betragen 10-1 000 nm. Ein Beschichtungsrun sollte inklusive Probenwechsel/Schleusung bei einer Schichtdicke von 100 nm nicht länger als eine Stunde dauern.
Beschreibung der Optionen:
Siehe Punkt 6 „Optionale Anforderungen und Ausstattung" des Leistungsverzeichnisses.
Verfahren Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Ergebnisse der Prozessdemonstrationnn Unterkriterien gem. Leistungsverzeichnis Demo: Abscheidung des definierten Schichtstapels mit strukturierten Flächen auf Wafer und Bruchstücke 50 % Demo: Abscheid
Qualitätskriterium (Gewichtung): 30
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Hauptkriterium: Technische Ausführung inkl. Erweiterungsoptionen Unterkriterien gem. Leistungsverzeichnis – Anzahl der möglichen Proben die pro h beschichtet werden können (Durchsatz) - Anzahl der mö
Qualitätskriterium (Gewichtung): 35
Preis (Gewichtung): 35
Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2019-06-07 📅
Name: Kurt J. Lesker Company Ltd.
Postort: Hastings
Land: Vereinigtes Königreich 🇬🇧
East Sussex CC 🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 3
Quelle: OJS 2019/S 144-354569 (2019-07-25)