Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Atomlagen-Depositionssystem mit Plasmaunterstützung (PEALD) für die atomlagengenaue Abscheidung dünner Filme von Metallen, Metall-Oxiden und -Nitriden sowie optional –Sulfiden definierter Stöchiometrie für Anwendungen als Tunnelbarrieren oder Elektroden in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als Ferroelektrika und als 2D-Materialien sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung zu beschaffen.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2019-04-18.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2019-03-13.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Auftragsbekanntmachung (2019-03-13) Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke
Referenznummer: TU-044/19-201-ZMN
Kurze Beschreibung:
Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Atomlagen-Depositionssystem mit Plasmaunterstützung (PEALD) für die atomlagengenaue Abscheidung dünner Filme von Metallen, Metall-Oxiden und -Nitriden sowie optional –Sulfiden definierter Stöchiometrie für Anwendungen als Tunnelbarrieren oder Elektroden in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als Ferroelektrika und als 2D-Materialien sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung zu beschaffen.
Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Atomlagen-Depositionssystem mit Plasmaunterstützung (PEALD) für die atomlagengenaue Abscheidung dünner Filme von Metallen, Metall-Oxiden und -Nitriden sowie optional –Sulfiden definierter Stöchiometrie für Anwendungen als Tunnelbarrieren oder Elektroden in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als Ferroelektrika und als 2D-Materialien sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung zu beschaffen.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke📦
Zusätzlicher CPV-Code: Oberflächenbehandlung📦 Ort der Leistung
NUTS-Region: Ilm-Kreis
🏙️
Verfahren
Verfahrensart: Wettbewerblicher Dialog
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot
Hinweis zum Ausfüllen der EEE: Dienst zum Ausfüllen und Wiederverwenden der EEE unter dem Link: Dazu „Ich bin ein Wirtschaftsteilnehmer“ https://ec.europa.eu anklicken und dann die Option „eine Antwort erstellen“ /tools/espd/filter?lang=de. anklicken. Dann kann die EEE ausgefüllt und im gleichen Format (xml) sowie als PDFDatei exportiert/ gespeichert werden. Zum Teilnahmewettbewerb (Erster Teil des Vergabeverfahrens): Der Teilnahmewettbewerb dient zur Ermittlung der Eignung der Bewerber. Es werden im zweiten Teil des Vergabeverfahrens (Angebotsverfahren) nur Bewerber mit festgestellter Eignung zugelassen. Wird mindestens eine der Mindestanforderungen nicht erfüllt, liegt keine Eignung vor. Entsprechend Abschnitt II 2.9 wird aus den geeigneten Bewerbern unter Berücksichtigung der Bewertungsgewichtung eine Auswahl von maximal 5 Bewerbern herbeiführen. Zum Angebotsverfahren (Zweiter Teil des Vergabeverfahrens): In einer ersten Phase werden die ausgewählten maximal 5 Bewerber zur Erstellung Lösungskonzeptes und eines ersten verbindlichen Angebots aufgefordert. Diese Angebote sind Grundlage der nächsten Phasen mit Verhandlungsrunden mit maximal 3 Bietern. Im Bedarfsfall können Prozesstests zur Bewertung von Lösungskonzepten vorgesehen werden. In diesen Phasen kann nach Bewertung der vorgelegten Lösungskonzepte und Testergebnisse eine weitere Reduzierung der Teilnehmerzahl erfolgen. Letztlich werden die im Verfahren verbleibenden Bieter final um ein Angebot gebeten, bevor die Vergabe mit der Auftragserteilung an den Bestbieter abgeschlossen wird. Die Ausschluss- und Bewertungskriterien werden mit den jeweiligen Aufforderungen zur Angebotserstellung bzw. Prozesstest mitgeteilt.
Hinweis zum Ausfüllen der EEE: Dienst zum Ausfüllen und Wiederverwenden der EEE unter dem Link: Dazu „Ich bin ein Wirtschaftsteilnehmer“ https://ec.europa.eu anklicken und dann die Option „eine Antwort erstellen“ /tools/espd/filter?lang=de. anklicken. Dann kann die EEE ausgefüllt und im gleichen Format (xml) sowie als PDFDatei exportiert/ gespeichert werden. Zum Teilnahmewettbewerb (Erster Teil des Vergabeverfahrens): Der Teilnahmewettbewerb dient zur Ermittlung der Eignung der Bewerber. Es werden im zweiten Teil des Vergabeverfahrens (Angebotsverfahren) nur Bewerber mit festgestellter Eignung zugelassen. Wird mindestens eine der Mindestanforderungen nicht erfüllt, liegt keine Eignung vor. Entsprechend Abschnitt II 2.9 wird aus den geeigneten Bewerbern unter Berücksichtigung der Bewertungsgewichtung eine Auswahl von maximal 5 Bewerbern herbeiführen. Zum Angebotsverfahren (Zweiter Teil des Vergabeverfahrens): In einer ersten Phase werden die ausgewählten maximal 5 Bewerber zur Erstellung Lösungskonzeptes und eines ersten verbindlichen Angebots aufgefordert. Diese Angebote sind Grundlage der nächsten Phasen mit Verhandlungsrunden mit maximal 3 Bietern. Im Bedarfsfall können Prozesstests zur Bewertung von Lösungskonzepten vorgesehen werden. In diesen Phasen kann nach Bewertung der vorgelegten Lösungskonzepte und Testergebnisse eine weitere Reduzierung der Teilnehmerzahl erfolgen. Letztlich werden die im Verfahren verbleibenden Bieter final um ein Angebot gebeten, bevor die Vergabe mit der Auftragserteilung an den Bestbieter abgeschlossen wird. Die Ausschluss- und Bewertungskriterien werden mit den jeweiligen Aufforderungen zur Angebotserstellung bzw. Prozesstest mitgeteilt.
Objekt Umfang der Beschaffung
Geschätzter Gesamtwert: 575 000 EUR 💰
Kurze Beschreibung:
Benötigt wird ein flexibel einsetzbares Atomlagen-Depositionssystem mit Plasmaunterstützung (PEALD) für die atomlagengenaue Abscheidung dünner Filme von Metallen, Metall-Oxiden und Nitriden sowie optional -Sulfiden definierter Stöchiometrie für Anwendungen als Tunnelbarrieren oder Elektroden in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als Ferroelektrika und als 2D-Materialien sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung.
Benötigt wird ein flexibel einsetzbares Atomlagen-Depositionssystem mit Plasmaunterstützung (PEALD) für die atomlagengenaue Abscheidung dünner Filme von Metallen, Metall-Oxiden und Nitriden sowie optional -Sulfiden definierter Stöchiometrie für Anwendungen als Tunnelbarrieren oder Elektroden in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als Ferroelektrika und als 2D-Materialien sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung.
Dauer: 24 Monate Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Zusätzlicher CPV-Code: FG11
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: TU-Ilmenau
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:
Nachweis über die Befähigung zur Berufsausübung durch Abgabe der EEE – Teil IV Abschnitt A. (Siehe Abschnitt VI.3 dieser Bekanntmachung – zusätzliche Angaben: Link und Erläuterungen zum Dienst zum Ausfüllen und Wiederverwenden der EEE). Die Nichterfüllung mindestens eines dieser Mindestanforderungen gilt als Ausschlusskriterium.
Nachweis über die Befähigung zur Berufsausübung durch Abgabe der EEE – Teil IV Abschnitt A. (Siehe Abschnitt VI.3 dieser Bekanntmachung – zusätzliche Angaben: Link und Erläuterungen zum Dienst zum Ausfüllen und Wiederverwenden der EEE). Die Nichterfüllung mindestens eines dieser Mindestanforderungen gilt als Ausschlusskriterium.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
Nachweis über die wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit durch Abgabe der EEE – Teil IV Abschnitt B. (Siehe Abschnitt VI.3 dieser Bekanntmachung – zusätzliche Angaben: Link und Erläuterungen zum Dienst zum Ausfüllen und Wiederverwenden der EEE).
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Nachweis über die wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit durch Abgabe der EEE – Teil IV Abschnitt B. (Siehe Abschnitt VI.3 dieser Bekanntmachung – zusätzliche Angaben: Link und Erläuterungen zum Dienst zum Ausfüllen und Wiederverwenden der EEE).
Mindeststandards:
(W1) über die wirtschaftliche Gesamtsituation des Bieters;
(W2) den Umsatz von Systemen zur Atomlagenabscheidung in Forschungseinrichtungen in den letzten 3 Jahren sowie;
(W3) die aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Bereich R&D für Atomlagenabscheidungssysteme.
Technische und berufliche Fähigkeiten:
— Nachweis über die technische und berufliche Leistungsfähigkeit durch Abgabe der EEE – Teil IV Abschnitt Cund D (Hinweis: bezogen auf die letzten 3 abgeschlossenen Geschäftsjahre). (Siehe Abschnitt VI.3 dieser Bekanntmachung – zusätzliche Angaben: Link und Erläuterungen zum Dienst zumAusfüllen und Wiederverwenden der EEE).
— Nachweis über die technische und berufliche Leistungsfähigkeit durch Abgabe der EEE – Teil IV Abschnitt Cund D (Hinweis: bezogen auf die letzten 3 abgeschlossenen Geschäftsjahre). (Siehe Abschnitt VI.3 dieser Bekanntmachung – zusätzliche Angaben: Link und Erläuterungen zum Dienst zumAusfüllen und Wiederverwenden der EEE).
Mindeststandards:
(M4) Der Bewerber muss mindestens eine Referenzinstallation eines Systems zur Atomlagenabscheidung mit Plasmaunterstützung in einer Forschungseinrichtung vorweisen können;
(M5) Vorhandensein eines eigenen Applikationslabors zur Atomlagenabscheidung.
Bewertungskriterien:
(T1) Komplette Referenzen von vergleichbaren Leistungen und Geräten in Europa, nicht älter als 3 Jahre;
(T2) die aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Applikationslabor sowie;
(T3) nächstgelegener Servicestandort zum Erfüllungsort.
Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Mindestzahl der Bewerber: 3
Höchstzahl der Bewerber: 5
Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Anzahl von Bewerbern:
Zur Teilnahme berechtigt sind die maximal fünf Bewerber, die alle fünf Mindestanforderungen erfüllen haben und die fünf höchsten gewichteten und summierten Wertungen erhalten haben:
(W1) wirtschaftliche Gesamtsituation des Bieters - Absteigende Bewertung der fünf umsatzstärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 10 %,
(W2) Umsatz von Systemen zur Atomlagenabscheidung in Forschungseinrichtungen in den letzten 3 Jahren – Absteigende Bewertung der 5 umsatzstärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 25 %;
(W3) Mitarbeiter und deren Qualifikationsstruktur im Bereich R&D – Absteigende Bewertung der fünf R&D-stärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 15 %;
(T1) Komplette Referenzen von vergleichbaren Leistungen und Geräten in Europa, nicht älter als 3 Jahre – Absteigende Bewertung der fünf referenzstärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 25 %,
(T2) aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Applikationslabor – Absteigende Bewertung der fünf stärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 15 %,
(T3) nächstgelegener Servicestandort – Absteigende Bewertung der Entfernung zum Erfüllungsort (5-1 Pkt.) 10 %.
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 11:00
Datum der Absendung der Aufforderungen: 2019-05-13 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Ergänzende Informationen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer beim Thüringer Landesverwaltungsamt
Postanschrift: Weimar Platz 4
Postort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 361-37700📞
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren: Entsprechend der Regelungen gemäß § 160 GWB.
Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: TU Ilmenau, Dezernat Finanzen, SG Beschaffung
Postanschrift: Max-Planck-Ring 14
Postort: Ilmenau
Postleitzahl: 98693
Telefon: +49 3677-691744📞
E-Mail: beschaffung@tu-ilmenau.de📧
Fax: +49 3677-691931 📠
Internetadresse: http://www.tu-ilmenau.de🌏
Quelle: OJS 2019/S 054-124149 (2019-03-13)
Ergänzende Angaben (2019-04-18) Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Atomlagen-Depositionssystem mit Plasmaunterstützung (PEALD) für die atomlagengenaue Abscheidung dünner Filme von Metallen, Metall-Oxiden und -Nitriden sowie optional -Sulfiden definierter Stöchiometrie für Anwendungen als Tunnelbarrieren oder Elektroden in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als Ferroelektrika und als 2D-Materialien sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung zu beschaffen.
Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Atomlagen-Depositionssystem mit Plasmaunterstützung (PEALD) für die atomlagengenaue Abscheidung dünner Filme von Metallen, Metall-Oxiden und -Nitriden sowie optional -Sulfiden definierter Stöchiometrie für Anwendungen als Tunnelbarrieren oder Elektroden in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als Ferroelektrika und als 2D-Materialien sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung zu beschaffen.
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Ergänzende Angaben
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2020-08-07) Objekt Umfang der Beschaffung
Gesamtwert des Auftrags: 575 000 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge