Nanolithographiegerät

Helmholtz-Zentrum Dresden – Rossendorf e. V.

Das Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung betreibt ein Nanostrukturlabor, in dem elektronische Materialien strukturiert und kontaktiert werden können. In diesem Rahmen wurde in den letzten Jahren eine Anlage entwickelt, mit der 2dimensionale Halbleiter unter inerter Atmosphäre deponiert und kontaktiert werden können. Für die elektrische Kontaktierung auf der Nanoskala soll ein Lithografiegerät beschafft werden, dass Nanostrukturen herstellen kann, ohne dass diese inerte Atmosphäre verlassen werden muss.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2020-02-04. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2019-12-20.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• SwissLitho AG

Wer?

• Helmholtz-Zentrum Dresden – Rossendorf e. V.

Wie?

• Dunkelfeld- und Rastersondenmikroskope › Rastersondenmikroskope

Wo?

• Sachsen › Dresden

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2019-12-20	Auftragsbekanntmachung
2020-02-27	Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Auftragsbekanntmachung (2019-12-20)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Rastersondenmikroskope
Referenznummer: EUOV1911
Kurze Beschreibung:

Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Rastersondenmikroskope 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Dresden 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Niedrigster Preis

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Helmholtz-Zentrum Dresden – Rossendorf e. V.
Postanschrift: Bautzner Landstraße 400
Postleitzahl: 01328
Postort: Dresden
Kontakt
Internetadresse: http://www.hzdr.de 🌏
E-Mail: vergabe@hzdr.de 📧
Fax: +49 3512603166 📠
URL der Dokumente: https://tender24.de/NetServer/TenderingProcedureDetails?function=_Details&TenderOID=54321-Tender-16f0d88b89e-18c6247c783c3750 🌏
URL der Teilnahme: http://www.tender24.de 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2019-12-20 📅
Einreichungsfrist: 2020-02-04 📅
Veröffentlichungsdatum: 2019-12-23 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2019/S 247-608669
ABl. S-Ausgabe: 247
Zusätzliche Informationen
Entfällt

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Zu dem oben beschriebenen Zweck wird ein Gerät benötigt, das in der bereits vorhandenen Handschuhbox, die die inerte Atmosphäre sicherstellt, betrieben werden kann. Eine solche Methode ist die sogenannte thermische Nanolithographie (engl.: thermal nanolithography), die vor kurzem entwickelt wurde. Es hat sich erwiesen, dass Kontakte, die mit dieser Methode an 2d-Materialien hergestellt werden, weitaus geringere Schottky Barrieren aufweisen, als dies mit anderen Verfahren der Fall ist (X. Zheng, et al., Nat Electron 2, 17 (2019)). Da geringe Schottky Barrieren für die Entwicklung von elektronischen Bauelementen, die auf 2d-Halbleitern basieren, unerlässlich sind, muss das hier zu beschaffende Gerät Kontakte mit thermischer Nanolithographie herstellen können.

Zu der im Angebotspreis anzubietenden Leistung gehören:

— Aufbau, Installation und Einweisung der Bediener am Aufstellort,

— Abnahme auf Aufstellort (SAT), im Rahmen der Abnahme sind folgende Kriterien durch den Auftragnehmer (AN) nachzuweisen:

Nachweis der Funktion aller Komponenten wie Systemsteuerung, Temperaturkontrolle, optisches Mikroskop, Srukturierung und AFM. Die Funktionsweise der AFM und Struktrietungseinheit wird insbeondere durch Strukturierung und Charakterisierung von geeigneten Testmustern durchgeführt. Die Testmuster sollen folgende Eigenschaften demonstrieren:

Linienaarys mit Periodizitäten (half pitch) von 30 nm, 60 n, 120 nm in einer Lackdicke von mindestens 4 nm. Die Linien werden mit einer Pixelgröße ≤ 10 nm abgebildet. Die größeren Strukturen sollen mit einer Pixelgröße von 30 nm und einer Scangeschwindigkeit von 30μs/Pixel (entsprechend einer Geschwindikeit von 0,5 mm/s) abgebildet werden. Die Rotation des Substrats soll keinen Einfluss auf die Abbildung haben, dies soll an Hand von Aufnahmen unter 0

Die Topografie in AFM Aufnahmen soll mit einer vertikalen Genauigkeit von 0,4 nm bestimmt werden.

— 12 Monate Garantie ab Abnahme,

— CE-Kennzeichnung.

Dauer: 168 Tage
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:

Nöthnitzer Str. 61

01187 Dresden

Deutschland

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:

Eigenerklärung über den Eintrag in einem Berufs- oder Handelsregister nach Maßgabe der Rechtsvorschriftendes Staats, in dem der Bieter niedergelassen ist.

Eigenerklärung zu den in §§ 123, 124 GWB genannten Ausschlussgründen.

Technische und berufliche Fähigkeiten:

Angabe der wesentlichen in den letzten 3 Jahren erbrachten Leistungen vergleichbar mit der ausgeschriebenenLeistung.

Mindeststandards:

Mindestens 2 Referenzen in Art und Umfang vergleichbar mit der ausgeschriebenen Leistung

Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 12:00
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2020-03-13 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2020-02-04 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 12:01
Zusätzliche Informationen: Entfällt

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Großforschungseinrichtung
Kontakt
Kontaktperson: Abteilung Vergabe- und Beschaffungswesen
Internetadresse: www.hzdr.de 🌏
Dokumente URL: https://tender24.de/NetServer/TenderingProcedureDetails?function=_Details&TenderOID=54321-Tender-16f0d88b89e-18c6247c783c3750 🌏
URL der Teilnahme: www.tender24.de 🌏

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes
Postanschrift: Villemomblerstr. 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 2289499-0 📞
Fax: +49 2289499-163 📠
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Rechtsbehelfe gemäß § 160 GWB:

(1) Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein;

(2) Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse an dem öffentlichen Auftrag oder der Konzession hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Absatz 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht;

(3) Der Antrag ist unzulässig, soweit:

1) Der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Absatz 2 GWB bleibt unberührt,

2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,

3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,

4) Mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind.

Satz 1 gilt nicht bei einem Antrag auf Feststellung der Unwirksamkeit des Vertrags nach § 135 Absatz 1 Nummer 2. § 134 Absatz 1 Satz 2 bleibt unberührt.

Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Wie: Körper überprüfen
Quelle: OJS 2019/S 247-608669 (2019-12-20)

Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2020-02-27)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Das Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung betreibt ein Nanostrukturlabor, in dem elektronische Materialien strukturiert und kontaktiert werden können. In diesem Rahmen wurde in den letzten Jahren eine Anlage entwickelt, mit der 2 dimensionale Halbleiter unter inerter Atmosphäre deponiert und kontaktiert werden können. Für die elektrische Kontaktierung auf der Nanoskala soll ein Lithografiegerät beschafft werden, dass Nanostrukturen herstellen kann, ohne dass diese inerte Atmosphäre verlassen werden muss.

Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Angebotsart: Entfällt

Referenz
Daten
Absendedatum: 2020-02-27 📅
Veröffentlichungsdatum: 2020-03-02 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2020/S 043-101425
Verweist auf Bekanntmachung: 2019/S 247-608669
ABl. S-Ausgabe: 43
Zusätzliche Informationen

Der Gesamtwert der Beschaffung unter II.1.7) und der Gesamtwert des Auftrages unter V.2.4) werden zur Wahrung der Betriebs- und Geschäftsgeheimnisse des vorgesehenen Auftragnehmers nicht bekannt gegeben. Daher wurde der fiktive Wert 0,01 EUR eingetragen.

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

— Aufbau, Installation und Einweisung der Bediener am Aufstellort

— Abnahme auf Aufstellort (SAT), im Rahmen der Abnahme sind folgende Kriterien durch den Auftragnehmer (AN) nachzuweisen: Nachweis der Funktion aller Komponenten wie Systemsteuerung, Temperaturkontrolle, optisches Mikroskop, Srukturierung und AFM. Die Funktionsweise der AFM und Struktrietungseinheit wird insbeondere durch Strukturierung und Charakterisierung von geeigneten Testmustern durchgeführt. Die Testmuster sollen folgende Eigenschaften demonstrieren: Linienaarys mit Periodizitäten (half pitch) von 30 nm, 60 n, 120 nm in einer Lackdicke von mindestens 4 nm. Die Linien werden mit einer Pixelgröße ≤ 10 nm abgebildet. Die größeren Strukturen sollen mit einer Pixelgröße von 30 nm und einer Scangeschwindigkeit von 30μs/Pixel (entsprechend einer Geschwindikeit von 0,5 mm/s) abgebildet werden. Die Rotation des Substrats soll keinen Einfluss auf die Abbildung haben, dies soll an Hand von Aufnahmen unter 0

— 12 Monate Garantie ab Abnahme

— CE-Kennzeichnung

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2020-02-24 📅
Name: SwissLitho AG
Postanschrift: Technoparkstrasse 1
Postort: Zurich
Postleitzahl: 8005
Land: Schweiz 🇨🇭
Telefon: +41 44/5003801 📞
E-Mail: sales-nano@himt.ch 📧
Land: Schweiz/Suisse/Svizzera 🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

1) Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein;

2) Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse an dem öffentlichen Auftrag oder der Konzession hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Absatz 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht;

3) Der Antrag ist unzulässig, soweit:

(1) Der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Absatz 2 GWB bleibt unberührt,

(2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,

(3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,

(4) Mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind.

Quelle: OJS 2020/S 043-101425 (2020-02-27)

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