Beim Beschaffungsgegenstand handelt es sich um eine UHV-Sputteranlage, welche speziell für die Nanotechnologien konzipiert ist. Die Anlage verfügt über mehrere Sputterkathoden in konfokaler Anordnung sowie einen beheizbaren Wafertisch und dient der Abscheidung sehr dünner Mehrkomponentenschichten mit spezieller Stöchiometrie und Kristallinität sowie komplexen Multilagensystemen. Ihr Haupteinsatz soll im Bereich der spintronischen Schichtsysteme, der memristiven Bauelemente sowie der NEMS erfolgen. Die Anlage ist zur Beschichtung von Siliziumwafern mit 200 mm Durchmesser vorgesehen.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2019-09-17.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2019-08-15.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: PVD-Abscheideanlage für Nanomaterialien
3.2-014/19EU
Produkte/Dienstleistungen: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)📦
Kurze Beschreibung:
“Beim Beschaffungsgegenstand handelt es sich um eine UHV-Sputteranlage, welche speziell für die Nanotechnologien konzipiert ist. Die Anlage verfügt über...”
Kurze Beschreibung
Beim Beschaffungsgegenstand handelt es sich um eine UHV-Sputteranlage, welche speziell für die Nanotechnologien konzipiert ist. Die Anlage verfügt über mehrere Sputterkathoden in konfokaler Anordnung sowie einen beheizbaren Wafertisch und dient der Abscheidung sehr dünner Mehrkomponentenschichten mit spezieller Stöchiometrie und Kristallinität sowie komplexen Multilagensystemen. Ihr Haupteinsatz soll im Bereich der spintronischen Schichtsysteme, der memristiven Bauelemente sowie der NEMS erfolgen. Die Anlage ist zur Beschichtung von Siliziumwafern mit 200 mm Durchmesser vorgesehen.
1️⃣
Zusätzliche Produkte/Dienstleistungen: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke📦
Ort der Leistung: Chemnitz, Kreisfreie Stadt🏙️
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Chemnitz
DE
Beschreibung der Beschaffung:
“Beim Beschaffungsgegenstand handelt es sich um eine UHV-Sputteranlage, welche speziell für die Nanotechnologien konzipiert ist. Die Anlage verfügt über...”
Beschreibung der Beschaffung
Beim Beschaffungsgegenstand handelt es sich um eine UHV-Sputteranlage, welche speziell für die Nanotechnologien konzipiert ist. Die Anlage verfügt über mehrere Sputterkathoden in konfokaler Anordnung sowie einen beheizbaren Wafertisch und dient der Abscheidung sehr dünner Mehrkomponentenschichten mit spezieller Stöchiometrie und Kristallinität sowie komplexen Multilagensystemen. Ihr Haupteinsatz soll im Bereich der spintronischen Schichtsysteme, der memristiven Bauelemente sowie der NEMS erfolgen. Die Anlage ist zur Beschichtung von Siliziumwafern mit 200 mm Durchmesser vorgesehen.
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Preis
Dauer
Datum des Endes: 2020-11-30 📅
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien: Eignungskriterien gemäß Auftragsunterlagen
Bedingungen für die Teilnahme
Technische und berufliche Fähigkeiten
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien: Eignungskriterien gemäß Auftragsunterlagen
Bedingungen für die Teilnahme
Bedingungen für die Teilnahme (technische und berufliche Fähigkeiten)
Verfahren Art des Verfahrens
Offenes Verfahren
Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2019-09-17
16:00 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Das Angebot muss gültig sein bis: 2019-10-31 📅
Bedingungen für die Öffnung der Angebote: 2019-09-18
10:00 📅
Bedingungen für die Öffnung der Angebote (Informationen über die befugten Personen und das Öffnungsverfahren): Nach § 55 Abs. 2 VgV sind Bieter nicht zugelassen.
“Aus gegebenem Anlass weisen wir darauf hin, dass eine Einrichtung der elektronischen Angebote via E-Mail nicht zugelassen ist. Zur Einreichung der Angebote...”
Aus gegebenem Anlass weisen wir darauf hin, dass eine Einrichtung der elektronischen Angebote via E-Mail nicht zugelassen ist. Zur Einreichung der Angebote nutzen Sie bitte die Vergabeplattform eVergabe.de.
Mehr anzeigen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Freistaates Sachsen bei der Landesdirektion
Postanschrift: Braustraße 2
Postort: Leipzig
Postleitzahl: 04107
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: vergabekammer@ldl.sachsen.de📧 Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“Nach §160 Abs. 3 GWB ist ein Nachprüfungsantrag unzulässig, soweit:
1) Der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
Nach §160 Abs. 3 GWB ist ein Nachprüfungsantrag unzulässig, soweit:
1) Der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Absatz 2 GWB bleibt unberührt,
2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
4) Mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind. Die Unwirksamkeit der Zuschlagserteilung kann nach § 135 Abs. 2 GWB nur festgestellt werden, wenn sie im Nachprüfungsverfahren innerhalb von 30 Kalendertagen nach der Information der betroffenen Bieter und Bewerber durch den öffentlichen Auftraggeber über den Abschluss des Vertrags, jedoch nicht später als 6 Monate nach Vertragsschluss geltend gemacht worden ist. Hat der Auftraggeber die Auftragsvergabe im Amtsblatt der Europäischen Union bekannt gemacht, endet die Frist zur Geltendmachung der Unwirksamkeit 30 Kalendertage nach Veröffentlichung der Bekanntmachung der Auftragsvergabe im Amtsblatt der Europäischen Union.
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Quelle: OJS 2019/S 158-390193 (2019-08-15)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2019-11-22) Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Kurze Beschreibung: Beim Beschaffungsgegenstand handelt es sich um eine UHV-Sputteranlage, welche speziell für die Nanotechnologien konzipiert ist. Die...”
Kurze Beschreibung
Kurze Beschreibung: Beim Beschaffungsgegenstand handelt es sich um eine UHV-Sputteranlage, welche speziell für die Nanotechnologien konzipiert ist. Die Anlage verfügt über mehrere Sputterkathoden in konfokaler Anordnung sowie einen beheizbaren Wafertisch und dient der Abscheidung sehr dünner Mehrkomponentenschichten mit spezieller Stöchiometrie und Kristallinität sowie komplexen Multilagensystemen. Ihr Haupteinsatz soll im Bereich der spintronischen Schichtsysteme, der memristiven Bauelemente sowie der NEMS erfolgen. Die Anlage ist zur Beschichtung von Siliziumwafern mit 200 mm Durchmesser vorgesehen.
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Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.): EUR 1 💰
Beschreibung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Chemnitz
Deutschland
Beschreibung der Beschaffung:
“Kurze Beschreibung: Beim Beschaffungsgegenstand handelt es sich um eine UHV-Sputteranlage, welche speziell für die Nanotechnologien konzipiert ist. Die...”
Beschreibung der Beschaffung
Kurze Beschreibung: Beim Beschaffungsgegenstand handelt es sich um eine UHV-Sputteranlage, welche speziell für die Nanotechnologien konzipiert ist. Die Anlage verfügt über mehrere Sputterkathoden in konfokaler Anordnung sowie einen beheizbaren Wafertisch und dient der Abscheidung sehr dünner Mehrkomponentenschichten mit spezieller Stöchiometrie und Kristallinität sowie komplexen Multilagensystemen. Ihr Haupteinsatz soll im Bereich der spintronischen Schichtsysteme, der memristiven Bauelemente sowie der NEMS erfolgen. Die Anlage ist zur Beschichtung von Siliziumwafern mit 200 mm Durchmesser vorgesehen.
Verfahren Administrative Informationen
Frühere Veröffentlichungen zu diesem Verfahren: 2019/S 158-390193
Auftragsvergabe
1️⃣
Vertragsnummer: 01327-190012
Titel: PVD-Abscheideanlage für Nanomaterialien
Datum des Vertragsabschlusses: 2019-11-04 📅
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 2
Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der auf elektronischem Wege eingegangenen Angebote: 2
Name und Anschrift des Auftragnehmers
Name: Singulus Technologies AG
Postanschrift: Hanauer Landstraße 103
Postort: Kahl am Main
Postleitzahl: 63796
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: postmaster@singulus.de📧
Region: Aschaffenburg, Kreisfreie Stadt🏙️
Der Auftragnehmer ist ein KMU
Angaben zum Wert des Auftrags/der Partie (ohne MwSt.)
Gesamtwert des Auftrags/Loses: EUR 1 💰
Ergänzende Informationen Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“Nach §160 Abs. 3 GWB ist ein Nachprüfungsantrag unzulässig, soweit:
1) der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
Nach §160 Abs. 3 GWB ist ein Nachprüfungsantrag unzulässig, soweit:
1) der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Absatz 2 GWB bleibt unberührt,
2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
4) mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind. Die Unwirksamkeit der Zuschlagserteilung kann nach § 135 Abs. 2 GWB nur festgestellt werden, wenn sie im Nachprüfungsverfahren innerhalb von 30 Kalendertagen nach der Information der betroffenen Bieter und Bewerber durch den öffentlichen Auftraggeber über den Abschluss des Vertrags, jedoch nicht später als sechs Monate nach Vertragsschluss geltend gemacht worden ist. Hat der Auftraggeber die Auftragsvergabe im Amtsblatt der Europäischen Union bekannt gemacht, endet die Frist zur Geltendmachung der Unwirksamkeit 30 Kalendertage nach Veröffentlichung der Bekanntmachung der Auftragsvergabe im Amtsblatt der Europäischen Union.
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Quelle: OJS 2019/S 227-557017 (2019-11-22)