System zum Ionenätzen (RIE) mit Plasmaquelle Bei dem zu beschaffenden System muss es sich um ein erprobtes System handeln, da die Ätzprozesse für Forschungszwecke benötigt werden. Im Preis soll der Besuch eines Prozeßspezialisten (mind 3 Tage vor Ort) zum Prozessnachweis und zum Training enthalten sein. Darüber hinaus wird die kostenlose Prozessunterstützung für mind. 20 Jahre gefordert. Das HZG behält sich das Recht vor, im Rahmen der Angebotsauswertung sich das Gerät bzw. ein vergleichbares Gerät vorführen zu lassen (z.B. als Demo Gerät oder bei einem andren Kunden) um die geforderten mindest Anforderungen zu überprüfen. Der Platzbedarf des Systems soll kleiner als 80 cm x 95 cm sein (ohne Vorpumpen, PC, etc).
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2019-07-08.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2019-06-05.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Auftragsbekanntmachung (2019-06-05) Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Referenznummer: 10089068
Kurze Beschreibung:
System zum Ionenätzen (RIE) mit Plasmaquelle
Bei dem zu beschaffenden System muss es sich um ein erprobtes System handeln, da die Ätzprozesse für Forschungszwecke benötigt werden. Im Preis soll der Besuch eines Prozeßspezialisten (mind 3 Tage vor Ort) zum Prozessnachweis und zum Training enthalten sein.
Darüber hinaus wird die kostenlose Prozessunterstützung für mind. 20 Jahre gefordert.
Das HZG behält sich das Recht vor, im Rahmen der Angebotsauswertung sich das Gerät bzw. ein vergleichbares Gerät vorführen zu lassen (z.B. als Demo Gerät oder bei einem andren Kunden) um die geforderten mindest Anforderungen zu überprüfen.
Der Platzbedarf des Systems soll kleiner als 80 cm x 95 cm sein (ohne Vorpumpen, PC, etc).
Bei dem zu beschaffenden System muss es sich um ein erprobtes System handeln, da die Ätzprozesse für Forschungszwecke benötigt werden. Im Preis soll der Besuch eines Prozeßspezialisten (mind 3 Tage vor Ort) zum Prozessnachweis und zum Training enthalten sein.
Darüber hinaus wird die kostenlose Prozessunterstützung für mind. 20 Jahre gefordert.
Das HZG behält sich das Recht vor, im Rahmen der Angebotsauswertung sich das Gerät bzw. ein vergleichbares Gerät vorführen zu lassen (z.B. als Demo Gerät oder bei einem andren Kunden) um die geforderten mindest Anforderungen zu überprüfen.
Der Platzbedarf des Systems soll kleiner als 80 cm x 95 cm sein (ohne Vorpumpen, PC, etc).
Bei dem zu beschaffenden System muss es sich um ein erprobtes System handeln, da die Ätzprozesse für Forschungszwecke benötigt werden. Im Preis soll der Besuch eines Prozeßspezialisten (mind 3 Tage vor Ort) zum Prozessnachweis und zum Training enthalten sein.
Bei dem zu beschaffenden System muss es sich um ein erprobtes System handeln, da die Ätzprozesse für Forschungszwecke benötigt werden. Im Preis soll der Besuch eines Prozeßspezialisten (mind 3 Tage vor Ort) zum Prozessnachweis und zum Training enthalten sein.
Darüber hinaus wird die kostenlose Prozessunterstützung für mind. 20 Jahre gefordert.
Das HZG behält sich das Recht vor, im Rahmen der Angebotsauswertung sich das Gerät bzw. ein vergleichbares Gerät vorführen zu lassen (z.B. als Demo Gerät oder bei einem andren Kunden) um die geforderten mindest Anforderungen zu überprüfen.
Der Platzbedarf des Systems soll kleiner als 80 cm x 95 cm sein (ohne Vorpumpen, PC, etc).
Nähere Informationen gemäß Leitungsbeschreibung
Die Prozesskammer muss aus einem Aluminiumblock gefräst und ohne unnötigen Dichtungen gefertigt sein.
Das Design des Gesamtsystems (inkl. ICP-Quelle und Pumpsystem) muss radialsymmetrisch sein, um beste Gleichmäßigkeit über einen großen Parameterbereich zu gewährleisten.
Die Prozesskammer muss über Flansche für das Pumpsystem (min 100 mm) und ein Sichtfenster (min 40 mm) verfügen. Es muss zusätzlich mindestens ein 40 mm Flansch vorhanden sein (blindgeflanscht).
Die Kühlung der Substratelektrode muss durch flüssigen Stickstoff erfolgen.
Die Kühlung/Heizung der Substratelektrode muss mindestens in einem Temperaturbereich von 150
Die Substratelektrode muss einen Durchmesser von mindestens 240 mm aufweisen.
Eine Helium Rückseiten-Kühlung der Substratelektrode (mechanische Klemmung) zur Verbesserung des thermischen Kontaktes muss vorhanden sein. Der Heliumfluss muss gemessen werden und auf dem PC zur Anlagensteuerung angezeigt werden. Die Steuerung des Heliumflusses muss über den Druck als Regelparameter erfolgen.
Eine Helium Rückseiten-Kühlung der Substratelektrode (mechanische Klemmung) zur Verbesserung des thermischen Kontaktes muss vorhanden sein. Der Heliumfluss muss gemessen werden und auf dem PC zur Anlagensteuerung angezeigt werden. Die Steuerung des Heliumflusses muss über den Druck als Regelparameter erfolgen.
Halter/Klemmringe für verschiedene Wafer-Größen (8", 6", 4") müssen mitgeliefert werden. Halter für kleinere bzw. unregelmäßig geformte Proben sind optional anzubieten.
Die Temperatur ist als Prozessparameter in die Steuerung einzugeben.
Die Temperatur der Prozesse muss von -150
Die Systemsteuerung soll durch Speicherprogrammierbare Steuerung (SPS) mit digitalen und analogen I/O erfolgen.
Ein Datenlogging muss mit einer Geschwindigkeit von mindestens 250 ms erfolgen.
Es müssen Prozessschritte schneller oder gleich 10 ms möglich sein.
Eine LAN Anbindung zur Anlagensteuerung muss möglich sein.
Eine automatische Überwachung des Prozessablaufs mit vorgebbaren Grenzwerten für die Parameter muss möglich sein.
Eine Möglichkeit zur manuellen Steuerung des Prozesses am Computer muss möglich sein.
Das System muss automatische Lecktests und eine automatische MFC Kalibrierung durchführen können.
Das System muss über ein Userlevel Management (mindestens drei Stufen) verfügen.
Beim Betrieb des Systems mit optischer Emission zur Kontrolle muss über ein PC gesteuertes System das ganze Spektrum von 200 nm bis 800 nm (gleichzeitig) aufgezeichnet werden können. Die Kontrolle ist in die Systemsoftware zu integrieren.
Das RIE-System muss ohne mechanische Änderungen im RIE Mode und im ICP Mode betrieben werden können (ohne Umbau).
Das RIE-System muss über die notwendigen Anschlüsse/Flansche verfügen, um eine Endpunkterkennung mittels optischer Emission und Laserinterferometrie (incl. x/y-Tisch und CCD Kamera) nachzurüsten.
Substratelektrode:
Das System muss über einen 13,56 MHz Generator mit automatischer HF Abstimmung verfügen.
Die automatische Abstimmeinheit muss direkt an die Quelle gekoppelt sein (keine Kabel).
Die automatische Abstimmeinheit (reflektierte Leistung muss < 2 % der Vorwärtsleistung betragen, abstimmbar möglichst über den kompletten Bereich) muss über folgende Anlagensoftware-unterstützte Modi verfügen:
— die Kapazitäten bleiben in der letzten Position beim Wechsel auf einen neuen Prozessschritt (Arbeitsmodus 1)
— die Kapazitäten starten von einer festen, vorwählbaren Position (Arbeitsmodus 2)
— manuelle Einstellung der Kapazitätspositionen (Arbeitsmodus 3)
Die Leistung des Systems soll 300W (bei 13,56 MHz) betragen.
Das System muss über ein eigenes Datenlogging der Plasma- und Abstimmeinheit verfügen.
Die Plasmaquelle soll über Power/Bias Steuerung verfügen.
Die Startpositionen aller Kapazitäten der Matching Einheiten müssen unabhängig für jeden Prozessschritt gewählt werden können (auch ein voll manueller Betrieb muss möglich sein). Sie müssen auch im Datalogging erfasst werden. Das System muss für 200 mm Wafer homogen arbeiten.
Die Startpositionen aller Kapazitäten der Matching Einheiten müssen unabhängig für jeden Prozessschritt gewählt werden können (auch ein voll manueller Betrieb muss möglich sein). Sie müssen auch im Datalogging erfasst werden. Das System muss für 200 mm Wafer homogen arbeiten.
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:
Helmholtz-Zentrum Geesthacht
Max-Planck-Str. 1
21502 Geesthacht
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:
Eigenerklärung zur Eintragung ins Handelsregister:
Den Nachweis über die Eintragung in das Handelsregister führen wir über die folgenden Angaben:
Registerführendes Amtsgericht:
Handelsregisternummer:
oder vergleichbare Eintragung (EU):
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
1) Erklärung zum Umsatz des Unternehmens in den Jahren 2016 bis 2018:
Gesamtumsatz des Unternehmens sowie spezifischer Umsatz bezüglich der besonderen Leistungsart, die Gegenstand dieser Vergabe ist;
2) Nachweis einer Haftpflichtversicherung mit Angabe der Deckungssumme je Versicherungsfall für Personen-, Sach- und Vermögensschäden (zum Zeitpunkt des Schlusstermins für die Einreichung der Teilnahmeanträge nicht älter als sechs Monate).
Technische und berufliche Fähigkeiten:
Es sind drei vergleichbare Leistungen, jeweils unter Angabe des Auftraggebers, des Auftragsgegenstandes, der Leistungszeit, der Rechnungssumme in Euro sowie eines Ansprechpartners, anzugeben.
2) Angabe der durchschnittlichen Anzahl des beschäftigten Personals in den Jahren 2017 und 2018;
4) Beschreibung der Maßnahmen des Unternehmens zur Gewährleistung der Qualität von Produkt und Auftragsabwicklung.
Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 13:00
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2019-08-31 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2019-07-08 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 13:00
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Wertungstabelle
Qualitätskriterium (Gewichtung): 50 %
Preis (Gewichtung): 50 %
Ergänzende Informationen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemomblerstr. 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 2289499-0📞
Fax: +49 2289499-163 📠
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Die Auftraggeberin weist ausdrücklich auf die Rügeobliegenheiten der Unternehmen/Bewerber/Bieter sowie auf die Präklusionsregelungen gemäß § 107 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1-4 GWB hinsichtlich der Behauptung von Verstößen gegen die Bestimmungen über das Vergabeverfahren hin. § 107 Abs. 3 Satz 1 GWB lautet: der Antrag (auf Nachprüfung) ist unzulässig, soweit der Antragsteller den gerügten Verstoß gegen Vergabevorschriften im Vergabeverfahren erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht unverzüglich gerügt hat.
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren
Die Auftraggeberin weist ausdrücklich auf die Rügeobliegenheiten der Unternehmen/Bewerber/Bieter sowie auf die Präklusionsregelungen gemäß § 107 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1-4 GWB hinsichtlich der Behauptung von Verstößen gegen die Bestimmungen über das Vergabeverfahren hin. § 107 Abs. 3 Satz 1 GWB lautet: der Antrag (auf Nachprüfung) ist unzulässig, soweit der Antragsteller den gerügten Verstoß gegen Vergabevorschriften im Vergabeverfahren erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht unverzüglich gerügt hat.
Für Mediationsverfahren zuständige Stelle Wie: Körper überprüfen
Quelle: OJS 2019/S 110-267776 (2019-06-05)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2019-08-13) Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
System zum Ionenätzen (RIE) mit Plasmaquelle
Bei dem zu beschaffenden System muss es sich um ein erprobtes System handeln, da die Ätzprozesse für Forschungszwecke benötigt werden. Im Preis soll der Besuch eines Prozeßspezialisten (mind 3 Tage vor Ort) zum Prozessnachweis und zum Training enthalten sein.
Darüber hinaus wird die kostenlose Prozessunterstützung für mind. 20 Jahre gefordert.
Das HZG behält sich das Recht vor, im Rahmen der Angebotsauswertung sich das Gerät bzw. ein vergleichbares Gerät vorführen zu lassen (z. B. als Demo Gerät oder bei einem andren Kunden) um die geforderten mindest Anforderungen zu überprüfen.
Der Platzbedarf des Systems soll kleiner als 80 cm x 95 cm sein (ohne Vorpumpen, PC, etc).
Bei dem zu beschaffenden System muss es sich um ein erprobtes System handeln, da die Ätzprozesse für Forschungszwecke benötigt werden. Im Preis soll der Besuch eines Prozeßspezialisten (mind 3 Tage vor Ort) zum Prozessnachweis und zum Training enthalten sein.
Darüber hinaus wird die kostenlose Prozessunterstützung für mind. 20 Jahre gefordert.
Das HZG behält sich das Recht vor, im Rahmen der Angebotsauswertung sich das Gerät bzw. ein vergleichbares Gerät vorführen zu lassen (z. B. als Demo Gerät oder bei einem andren Kunden) um die geforderten mindest Anforderungen zu überprüfen.
Der Platzbedarf des Systems soll kleiner als 80 cm x 95 cm sein (ohne Vorpumpen, PC, etc).
Gesamtwert des Auftrags: 373 050 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Das HZG behält sich das Recht vor, im Rahmen der Angebotsauswertung sich das Gerät bzw. ein vergleichbares Gerät vorführen zu lassen (z. B. als Demo Gerät oder bei einem andren Kunden) um die geforderten mindest Anforderungen zu überprüfen.
Das System muss über ein Userlevel Management (mindestens 3 Stufen) verfügen.
Das RIE-System muss über die notwendigen Anschlüsse / Flansche verfügen, um eine Endpunkterkennung mittels optischer Emission und Laserinterferometrie (incl. x/y-Tisch und CCD Kamera) nachzurüsten.
— die Kapazitäten bleiben in der letzten Position beim Wechsel auf einen neuen Prozessschritt (Arbeitsmodus 1),
— die Kapazitäten starten von einer festen, vorwählbaren Position (Arbeitsmodus 2),
— manuelle Einstellung der Kapazitätspositionen (Arbeitsmodus 3).
Die Leistung des Systems soll 300 W (bei 13,56 MHz) betragen.
Die Plasmaquelle soll über Power/ Bias Steuerung verfügen.
Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2019-08-06 📅
Name: Oxford Instruments GmbH
Postort: Wiesbaden
Postleitzahl: 65035
Land: Deutschland 🇩🇪 Wiesbaden, Kreisfreie Stadt🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 373 050 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 2
Quelle: OJS 2019/S 157-387433 (2019-08-13)