Beschreibung der Beschaffung
Die Helmholtz-Zentrum Geesthacht Zentrum für Material- und Küstenforschung GmbH (HZG) ist eine gemeinnützige Forschungseinrichtung und eine der 18 Mitgliedseinrichtungen der Hermann von Helmholtz-Gemeinschaft Deutscher Forschungszentren e. V. Die Aufwendungen des HZG werden zu 90 % vom Bund (BMBF - Bundesministerium für Bildung und Forschung) und zu 10 % von den vier Konsortialländern (Schleswig-Holstein, Hamburg, Niedersachsen und Brandenburg) finanziert.
Die satzungsmäßige Aufgabe der Gesellschaft ist es, im multidisziplinären Verbund Forschung und Entwicklung, insbesondere auf dem Gebiet der Materialforschung, der Küsten-, Klima- und Umweltforschung sowie der regenerativen Medizin zu betreiben.
Für unsere Werkstoffforschung soll ein neues Direct Laser Write Lithography System beschafft werden:
— Direct Laser Write Lithography System für 8" x 8" Substrate mit 405 nm oder 375 nm Lasersystem zur Erzeugung von 300 nm Strukturen (Auflösung/kleinste schreibbare Linienbreite 300 nm oder besser),
— das System muss die Möglichkeit zur Nutzung von mindestens 128 Graustufen bieten,
— das System muss über mehrere Spotgrößen des Lasers verfügen (0,3 μm, 0,6 μm und ca. 1 μm),
— eine zusätzliche 5 μm Spotgröße muss erreicht werden können,
— die Umschaltung zwischen den Spotgrößen muss vollautomatisch erfolgen,
— die Positionierung des Lasers in z-Richtung („Höheneinstellung") muss im Bereich von 0-10 mm automatisch erfolgen,
— für den Betrieb muss das System über eine real-time Z-Kontrolle („Autofocus") im Bereich von mindestens -0,3 mm bis 0,3 mm verfügen,
— der Focus Offset des Systems muss durch die Software gesetzt und kontrolliert werden können,
— das System muss über eine integrierte Kontrolle der Laserleistung verfügen,
— das System muss über einen Raster- und einen Vektormodus verfügen,
— das System muss über eine hochauflösende Kamera (min. 5 Mpix) für das Top Side Alignment verfügen,
— das Top side Alignment muss mit einer Genauigkeit von mindestens 0,5 μm möglich sein,
— die Abweichung der Linienbreitenkonstanz des Systems muss kleiner 50 nm sein.
Mechanische Eigenschaften
— das System muss eine Encoding-Auflösung für x- und y- Richtung von 10 nm (oder besser) besitzen,
— die Repositionierungsgenauigkeit des Systems muss mindestens 20 nm (oder kleiner) sein,
— Substrate bis zu einer Dicke von 10 mm müssen bearbeitet werden können,
— das System muss über eine automatische Höheneinstellung von z-Richtung verfügen.
Klima-Kontrolle:
— die Klimakontrolle soll in das Stand-alone System integriert sein,
— die Temperatur während der Bearbeitung eines Substrats muss mindestens zwischen 20C und 30C einstellbar sein. Die Regelung muss mit einer Genauigkeit von mindestens +/-0,2C erfolgen,
— die Feuchtigkeit während der Bearbeitung eines Substrats muss zwischen 30%RH und 80%RH einstellbar sein. Die Regelung muss mit einer Genauigkeit von mindestens +/-1 % erfolgen.
Software:
— die Software zur Systemsteuerung muss über mehrere Userlevel verfügen,
— die Software des Systems muss GDSII, BMP und Gerber Dateien verarbeiten können,
— die Software des Systems muss CIF und DXF Dateien verarbeiten können,
— die Software soll die Parametrisierung einfacher Formen ohne Quelldateien ermöglichen,
— alle gemessenen Parameter eines Belichtungsprozesses müssen archiviert werden,
— ein Job Queuing sollte möglich sein,
— eine Verlaufsdatenbank sollte in der Software angelegt werden,
— die Software muss frei definierbare Prozess- und Substratrezepte unterstützen.
Optional anzubieten sind:
— Upgrade auf 375 nm Lasersystem
— ein kompletter benutzertauschbarer 375 nm bzw. 405 nm Laser, falls erforderlich mit den angegebenen Spotgrößen,
— ein kompletter benutzertauschbarer 405 nm bzw. 375 nm Laser, falls erforderlich mit den angegebenen Spotgrößen,
— Wartungsvertrag mit Angabe der Reaktionszeit; dieser ist separat anzubieten.
Die funktionalen Anforderungen müssen im Angebot in ihrer Ausführung beschrieben werden.