UV Direct Laser Writer System

Helmholtz-Zentrum Geesthacht

Für unsere Werkstoffforschung soll ein neues Direct Laser Write Lithography System beschafft werden.
Direct Laser Write Lithography System für 8" x 8" Substrate mit 405 nm oder 375 nm Lasersystem zur Erzeugung von 300 nm Strukturen.
Das System muss die Möglichkeit zur Nutzung von mindestens 128 Graustufen bieten.
Das System muss über mehrere Spotgrößen des Lasers verfügen (0,3 μm, 0,6 μm und ca. 1 μm).
Eine zusätzliche 5 μm Spotgröße muss erreicht werden können.
Die Umschaltung zwischen den Spotgrößen muss vollautomatisch erfolgen.
Die Positionierung des Lasers in z-Richtung („Höheneinstellung") muss im Bereich von 0-10 mm automatisch erfolgen.
Für den Betrieb muss das System über eine real-time Z-Kontrolle („Autofocus") im Bereich von mindestens -0,3 mm bis 0,3 mm verfügen.
Der Focus Offset des Systems muss durch die Software gesetzt und kontrolliert werden können.
Das System muss über eine integrierte Kontrolle der Laserleistung verfügen.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2019-04-16. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2019-03-14.

Wer?

• Helmholtz-Zentrum Geesthacht

Wie?

• Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)

Wo?

• Schleswig-Holstein › Herzogtum Lauenburg

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2019-03-14	Auftragsbekanntmachung

Auftragsbekanntmachung (2019-03-14)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Referenznummer: 10088582
Kurze Beschreibung:

Für unsere Werkstoffforschung soll ein neues Direct Laser Write Lithography System beschafft werden. Direct Laser Write Lithography System für 8" x 8" Substrate mit 405 nm oder 375 nm Lasersystem zur Erzeugung von 300 nm Strukturen. Das System muss die Möglichkeit zur Nutzung von mindestens 128 Graustufen bieten. Das System muss über mehrere Spotgrößen des Lasers verfügen (0,3 μm, 0,6 μm und ca. 1 μm). Eine zusätzliche 5 μm Spotgröße muss erreicht werden können. Die Umschaltung zwischen den Spotgrößen muss vollautomatisch erfolgen. Die Positionierung des Lasers in z-Richtung („Höheneinstellung") muss im Bereich von 0-10 mm automatisch erfolgen. Für den Betrieb muss das System über eine real-time Z-Kontrolle („Autofocus") im Bereich von mindestens -0,3 mm bis 0,3 mm verfügen. Der Focus Offset des Systems muss durch die Software gesetzt und kontrolliert werden können. Das System muss über eine integrierte Kontrolle der Laserleistung verfügen.

Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) 📦
Zusätzlicher CPV-Code: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Herzogtum Lauenburg 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Helmholtz-Zentrum Geesthacht
Postanschrift: Max-Planck-Str. 1
Postleitzahl: 21502
Postort: Geesthacht
Kontakt
Internetadresse: http://www.hzg.de 🌏
E-Mail: einkauf@hzg.de 📧
Fax: +49 4152-871750 📠
URL der Dokumente: https://vergabemarktplatz.brandenburg.de/VMPSatellite/notice/CXP9YCQDLRR/documents 🌏
URL der Teilnahme: https://vergabemarktplatz.brandenburg.de/VMPSatellite/notice/CXP9YCQDLRR 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2019-03-14 📅
Einreichungsfrist: 2019-04-16 📅
Veröffentlichungsdatum: 2019-03-19 📅
Datum des Beginns: 2019-05-15 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2019/S 055-126401
ABl. S-Ausgabe: 55
Zusätzliche Informationen
Bekanntmachungs-ID: CXP9YCQDLRR

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Für unsere Werkstoffforschung soll ein neues Direct Laser Write Lithography System beschafft werden.

Direct Laser Write Lithography System für 8" x 8" Substrate mit 405 nm oder 375 nm Lasersystem zur Erzeugung von 300 nm Strukturen.

Das System muss die Möglichkeit zur Nutzung von mindestens 128 Graustufen bieten.

Das System muss über mehrere Spotgrößen des Lasers verfügen (0,3 μm, 0,6 μm und ca. 1 μm).

Eine zusätzliche 5 μm Spotgröße muss erreicht werden können.

Die Umschaltung zwischen den Spotgrößen muss vollautomatisch erfolgen.

Die Positionierung des Lasers in z-Richtung („Höheneinstellung") muss im Bereich von 0-10 mm automatisch erfolgen.

Für den Betrieb muss das System über eine real-time Z-Kontrolle („Autofocus") im Bereich von mindestens -0,3 mm bis 0,3 mm verfügen.

Der Focus Offset des Systems muss durch die Software gesetzt und kontrolliert werden können.

Das System muss über eine integrierte Kontrolle der Laserleistung verfügen.

Die Helmholtz-Zentrum Geesthacht Zentrum für Material- und Küstenforschung GmbH (HZG) ist eine gemeinnützige Forschungseinrichtung und eine der 18 Mitgliedseinrichtungen der Hermann von Helmholtz-Gemeinschaft Deutscher Forschungszentren e. V. Die Aufwendungen des HZG werden zu 90 % vom Bund (BMBF - Bundesministerium für Bildung und Forschung) und zu 10 % von den vier Konsortialländern (Schleswig-Holstein, Hamburg, Niedersachsen und Brandenburg) finanziert.

Die satzungsmäßige Aufgabe der Gesellschaft ist es, im multidisziplinären Verbund Forschung und Entwicklung, insbesondere auf dem Gebiet der Materialforschung, der Küsten-, Klima- und Umweltforschung sowie der regenerativen Medizin zu betreiben.

Für unsere Werkstoffforschung soll ein neues Direct Laser Write Lithography System beschafft werden:

— Direct Laser Write Lithography System für 8" x 8" Substrate mit 405 nm oder 375 nm Lasersystem zur Erzeugung von 300 nm Strukturen (Auflösung/kleinste schreibbare Linienbreite 300 nm oder besser),

— das System muss die Möglichkeit zur Nutzung von mindestens 128 Graustufen bieten,

— das System muss über mehrere Spotgrößen des Lasers verfügen (0,3 μm, 0,6 μm und ca. 1 μm),

— eine zusätzliche 5 μm Spotgröße muss erreicht werden können,

— die Umschaltung zwischen den Spotgrößen muss vollautomatisch erfolgen,

— die Positionierung des Lasers in z-Richtung („Höheneinstellung") muss im Bereich von 0-10 mm automatisch erfolgen,

— für den Betrieb muss das System über eine real-time Z-Kontrolle („Autofocus") im Bereich von mindestens -0,3 mm bis 0,3 mm verfügen,

— der Focus Offset des Systems muss durch die Software gesetzt und kontrolliert werden können,

— das System muss über eine integrierte Kontrolle der Laserleistung verfügen,

— das System muss über einen Raster- und einen Vektormodus verfügen,

— das System muss über eine hochauflösende Kamera (min. 5 Mpix) für das Top Side Alignment verfügen,

— das Top side Alignment muss mit einer Genauigkeit von mindestens 0,5 μm möglich sein,

— die Abweichung der Linienbreitenkonstanz des Systems muss kleiner 50 nm sein.

Mechanische Eigenschaften

— das System muss eine Encoding-Auflösung für x- und y- Richtung von 10 nm (oder besser) besitzen,

— die Repositionierungsgenauigkeit des Systems muss mindestens 20 nm (oder kleiner) sein,

— Substrate bis zu einer Dicke von 10 mm müssen bearbeitet werden können,

— das System muss über eine automatische Höheneinstellung von z-Richtung verfügen.

Klima-Kontrolle:

— die Klimakontrolle soll in das Stand-alone System integriert sein,

— die Temperatur während der Bearbeitung eines Substrats muss mindestens zwischen 20

— die Feuchtigkeit während der Bearbeitung eines Substrats muss zwischen 30%RH und 80%RH einstellbar sein. Die Regelung muss mit einer Genauigkeit von mindestens +/-1 % erfolgen.

Software:

— die Software zur Systemsteuerung muss über mehrere Userlevel verfügen,

— die Software des Systems muss GDSII, BMP und Gerber Dateien verarbeiten können,

— die Software des Systems muss CIF und DXF Dateien verarbeiten können,

— die Software soll die Parametrisierung einfacher Formen ohne Quelldateien ermöglichen,

— alle gemessenen Parameter eines Belichtungsprozesses müssen archiviert werden,

— ein Job Queuing sollte möglich sein,

— eine Verlaufsdatenbank sollte in der Software angelegt werden,

— die Software muss frei definierbare Prozess- und Substratrezepte unterstützen.

Optional anzubieten sind:

— Upgrade auf 375 nm Lasersystem

— ein kompletter benutzertauschbarer 375 nm bzw. 405 nm Laser, falls erforderlich mit den angegebenen Spotgrößen,

— ein kompletter benutzertauschbarer 405 nm bzw. 375 nm Laser, falls erforderlich mit den angegebenen Spotgrößen,

— Wartungsvertrag mit Angabe der Reaktionszeit; dieser ist separat anzubieten.

Die funktionalen Anforderungen müssen im Angebot in ihrer Ausführung beschrieben werden.

Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:

Helmholtz-Zentrum Geesthacht

Max-Planck-Str. 1

21502 Geesthacht

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:

Eigenerklärung zur Eintragung ins Handelsregister:

Den Nachweis über die Eintragung in das Handelsregister führen wir über die folgenden Angaben:

Registerführendes Amtsgericht:

Handelsregisternummer:

Oder vergleichbare Eintragung (EU):

Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:

1) Erklärung zum Umsatz des Unternehmens in den Jahren 2016 bis 2018:

Gesamtumsatz des Unternehmens sowie spezifischer Umsatz bezüglich der besonderen Leistungsart, die Gegenstand dieser Vergabe ist;

2) Nachweis einer Haftpflichtversicherung mit Angabe der Deckungssumme je Versicherungsfall für Personen-, Sach- und Vermögensschäden (zum Zeitpunkt des Schlusstermins für die Einreichung der Teilnahmeanträge nicht älter als sechs Monate).

Technische und berufliche Fähigkeiten:

Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:

Es sind 3 vergleichbare Leistungen, jeweils unter Angabe des Auftraggebers, des Auftragsgegenstandes, der Leistungszeit, der Rechnungssumme in Euro sowie eines Ansprechpartners, anzugeben.

2) Angabe der durchschnittlichen Anzahl des beschäftigten Personals in den Jahren 2017 und 2018;

3) Einzureichender Nachweis: EG Konformitätserklärung;

4) Beschreibung der Maßnahmen des Unternehmens zur Gewährleistung der Qualität von Produkt und Auftragsabwicklung.

Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 13:00
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2019-05-15 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2019-04-16 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 13:00
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Wertungstabelle Hardware
Qualitätskriterium (Gewichtung): 50 %
Preis (Gewichtung): 50 %

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Forschungseinrichtung
Kontakt
Kontaktperson: Einkauf
Internetadresse: www.hzg.de 🌏
Dokumente URL: https://vergabemarktplatz.brandenburg.de/VMPSatellite/notice/CXP9YCQDLRR/documents 🌏

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemomblerstr. 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 2289499-0 📞
Fax: +49 2289499-163 📠
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Die Auftraggeberin weist ausdrücklich auf die Rügeobliegenheiten der Unternehmen/Bewerber/Bieter sowie auf die Präklusionsregelungen gemäß § 107 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1-4 GWB hinsichtlich der Behauptung von Verstößen gegen die Bestimmungen über das Vergabeverfahren hin. § 107 Abs. 3 Satz 1 GWB lautet: der Antrag (auf Nachprüfung) ist unzulässig, soweit der Antragsteller den gerügten Verstoß gegen Vergabevorschriften im Vergabeverfahren erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht unverzüglich gerügt hat.

Quelle: OJS 2019/S 055-126401 (2019-03-14)

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