Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine hohe Abscheiderate (> 2-6 nm/ min) ist erwünscht.
Substrat Größe:
— Länge/Breite/Höhe = 700/500/300 mm,
— Länge/Breite/Höhe = 900/250/200 mm.
Eine sehr gute Schichtdickenverteilung (Schichtdickenabweichung ≤ 2 %) über die gesamte Substrat Oberfläche wird gefordert. Die Anlage soll so aufgebaut werden, dass sowohl thermische Prozesse als auch plasma-unterstützte ALD-Prozesse durchgeführt werden können. Es können sowohl sequentielle als auch räumlich separierte (spatial) ALD-Anlagen angeboten werden.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2020-03-06.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2020-02-04.
Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Fraunhofer IOF- E_066_246474 – ALD Beschichtungsanlage
E_066_246474 migl-bla
Produkte/Dienstleistungen: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke📦
Kurze Beschreibung:
“Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine...”
Kurze Beschreibung
Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine hohe Abscheiderate (> 2-6 nm/ min) ist erwünscht.
Substrat Größe:
— Länge/Breite/Höhe = 700/500/300 mm,
— Länge/Breite/Höhe = 900/250/200 mm.
Eine sehr gute Schichtdickenverteilung (Schichtdickenabweichung ≤ 2 %) über die gesamte Substrat Oberfläche wird gefordert. Die Anlage soll so aufgebaut werden, dass sowohl thermische Prozesse als auch plasma-unterstützte ALD-Prozesse durchgeführt werden können. Es können sowohl sequentielle als auch räumlich separierte (spatial) ALD-Anlagen angeboten werden.
1️⃣
Ort der Leistung: Jena, Kreisfreie Stadt🏙️
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 07745 Jena
Beschreibung der Beschaffung:
“Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine...”
Beschreibung der Beschaffung
Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine hohe Abscheiderate (> 2-6 nm/ min) ist erwünscht.
Substrat Größe:
— Länge/Breite/Höhe = 700/500/300 mm,
— Länge/Breite/Höhe = 900/250/200 mm.
Eine sehr gute Schichtdickenverteilung (Schichtdickenabweichung ≤ 2 %) über die gesamte Substrat Oberfläche wird gefordert. Die Anlage soll so aufgebaut werden, dass sowohl thermische Prozesse als auch plasma-unterstützte ALD-Prozesse durchgeführt werden können. Es können sowohl sequentielle als auch räumlich separierte (spatial) ALD-Anlagen angeboten werden.
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium, und alle Kriterien werden nur in den Auftragsunterlagen genannt
Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems
Der nachstehende Zeitrahmen ist in Monaten ausgedrückt.
Beschreibung
Dauer: 10
Informationen über Optionen
Optionen ✅
Beschreibung der Optionen:
“— Wartungsvertrag für 12 Monate mit einer Verlängerungsoption für 2 mal 12 Monate.”
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“(1) Firmenprofil;
(2) Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre;
(3) Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen nach § 123 und § 124...”
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien
(1) Firmenprofil;
(2) Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre;
(3) Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen nach § 123 und § 124 des Gesetzes gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB);
(5) Reaktionszeit innerhalb von 2 Arbeitstagen telefonisch, Reparatur innerhalb von 5 Werktagen Vorort;
(6) Schriftliche Erklärung Ihrer Bank, das nach Zuschlagserteilung, eine Bankbürgschaft gemäß Ausschreibungsmuster, ausgestellt wird.
„Achtung“
Dieser Punkt gilt nicht bei einem Einsatz von Subunternehmern
Mehr anzeigen Technische und berufliche Fähigkeiten
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“4) Referenz von mindestens 3 vergleichbaren Projekten, nicht älter als 3 Jahre (Kurzbeschreibung Gerät, Kundennennung).
„Achtung“:
Sollten Sie aus...”
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien
4) Referenz von mindestens 3 vergleichbaren Projekten, nicht älter als 3 Jahre (Kurzbeschreibung Gerät, Kundennennung).
„Achtung“:
Sollten Sie aus Datenschutzrechtlichen Gründen Ihre Ansprechpartner nicht benennen dürfen, so kategorisieren Sie bitte Ihren Auftraggeber (Forschung, Industrie, andere öffentliche Auftraggeber) und bestätigen die Vergleichbarkeit der Referenzen mit der ausgeschriebenen Leistung.
Mehr anzeigen Bedingungen für den Vertrag
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
“Bei evtl. Einsatz von Subunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der aufgeführten Unterlagen nachzuweisen. Ferner ist zu...”
Bedingungen für die Vertragserfüllung
Bei evtl. Einsatz von Subunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der aufgeführten Unterlagen nachzuweisen. Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen; deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
Verfahren Art des Verfahrens
Offenes Verfahren
Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2020-03-06
09:00 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Englisch 🗣️
Das Angebot muss gültig sein bis: 2020-05-05 📅
Bedingungen für die Öffnung der Angebote: 2020-03-06
09:30 📅
“Anforderung Unterlagen – gem. § 9 Abs. 3 S. 2 VgV stehen die Auftragsbekanntmachung und die Vergabeunterlagen bei der deutschen eVergabe für Sie auch ohne...”
Anforderung Unterlagen – gem. § 9 Abs. 3 S. 2 VgV stehen die Auftragsbekanntmachung und die Vergabeunterlagen bei der deutschen eVergabe für Sie auch ohne Registrierung zur Verfügung.
Bitte beachten Sie, dass für Teilnahmeanträge, Angebotsabgaben und Bieterfragen eine Registrierung notwendig ist. Wir empfehlen daher eine frühzeitige Registrierung auch um evtl. Bieterinformationen zu erhalten; ansonsten tragen Sie das Risiko eines evtl. Angebotsausschlusses.
— Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB),
— Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1) genannte Kontaktstelle gerichtet werden.
Mehr anzeigen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪 Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen,...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf 10 Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
Mehr anzeigen Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name:
“Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe”
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de📧
URL: http://www.fraunhofer.de🌏
Quelle: OJS 2020/S 025-056090 (2020-02-04)
Ergänzende Angaben (2020-04-17) Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine...”
Kurze Beschreibung
Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine hohe Abscheiderate (> 2-6nm/ min) ist erwünscht.
Substrat Größe:
— Länge/ Breite/ Höhe = 700/ 500/ 300 mm,
— Länge/ Breite/ Höhe = 900/ 250/ 200 mm.
Eine sehr gute Schichtdickenverteilung (Schichtdickenabweichung ≤ 2 %) über die gesamte Substrat Oberfläche wird gefordert. Die Anlage soll so aufgebaut werden, dass sowohl thermische Prozesse als auch plasma-unterstützte ALD-Prozesse durchgeführt werden können. Es können sowohl sequentielle als auch räumlich separierte (spatial) ALD-Anlagen angeboten werden.
Ergänzende Informationen Referenz der ursprünglichen Mitteilung
Nummer der Bekanntmachung im Amtsblatt S: 2020/S 025-056090
Änderungen Zu berichtigender Text in der ursprünglichen Bekanntmachung
Nummer des Abschnitts: IV.2.6)
Ort des zu ändernden Textes: Bindefrist des Angebots
Alter Wert
Datum: 2020-05-05 📅
Neuer Wert
Datum: 2020-06-05 📅
Quelle: OJS 2020/S 079-186422 (2020-04-17)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2020-05-07) Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine...”
Kurze Beschreibung
Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine hohe Abscheiderate (> 2-6nm/ min) ist erwünscht.
Substrat Größe:
— Länge/Breite/Höhe = 700/ 500/300 mm,
— Länge/Breite/Höhe = 900/ 250/200 mm.
Eine sehr gute Schichtdickenverteilung (Schichtdickenabweichung ≤ 2 %) über die gesamte Substrat Oberfläche wird gefordert. Die Anlage soll so aufgebaut werden, dass sowohl thermische Prozesse als auch plasmaunterstützte ALD-Prozesse durchgeführt werden können. Es können sowohl sequentielle als auch räumlich separierte (spatial) ALD-Anlagen angeboten werden.
Mehr anzeigen Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung:
“Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine...”
Beschreibung der Beschaffung
Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine hohe Abscheiderate (> 2-6 nm/min) ist erwünscht.
Substrat Größe:
— Länge/ Breite/Höhe = 700/500/300 mm;
— Länge/ Breite/Höhe = 900/250/200 mm.
Eine sehr gute Schichtdickenverteilung (Schichtdickenabweichung ≤ 2 %) über die gesamte Substrat Oberfläche wird gefordert. Die Anlage soll so aufgebaut werden, dass sowohl thermische Prozesse als auch plasmaunterstützte ALD-Prozesse durchgeführt werden können. Es können sowohl sequentielle als auch räumlich separierte (spatial) ALD-Anlagen angeboten werden.
“Anforderung Unterlagen – Gem. § 9 Abs. 3 S. 2 VgV stehen die Auftragsbekanntmachung und die Vergabeunterlagen bei der deutschen eVergabe für Sie auch ohne...”
Anforderung Unterlagen – Gem. § 9 Abs. 3 S. 2 VgV stehen die Auftragsbekanntmachung und die Vergabeunterlagen bei der deutschen eVergabe für Sie auch ohne Registrierung zur Verfügung.
Bitte beachten Sie, dass für Teilnahmeanträge, Angebotsabgaben und Bieterfragen eine Registrierung notwendig ist. Wir empfehlen daher eine frühzeitige Registrierung auch um evtl. Bieterinformationen zu erhalten; ansonsten tragen Sie das Risiko eines evtl. Angebotsausschlusses. – Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB) – Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden.
Mehr anzeigen Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen,...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
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Quelle: OJS 2020/S 092-219283 (2020-05-07)