ALD Beschichtungsanlage zur Herstellung dielektrischer Schichten für die Optik
Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien, wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine hohe Abscheiderate (> 2-6 nm/ min) ist erwünscht. Die Wöchentliche zu erwartenden Abscheidedicke beträgt mehrere Mikrometer.
Substrat Größe:
— Länge/ Breite/ Höhe = 700/ 500/ 300 mm;
— Länge/ Breite/ Höhe = 900/ 250/ 200 mm.
Eine sehr gute Schichtdickenverteilung (Schichtdickenabweichung ≤ 2 %) über die gesamte Substrat Oberfläche wird gefordert. Die Anlage soll so aufgebaut sein, dass sowohl thermische Prozesse als auch plasmaunterstützte ALD-Prozesse durchgeführt werden können. Es können sowohl sequenzielle als auch räumlich separierte (spatial) ALD-Anlagen angeboten werden.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2020-10-22.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2020-09-22.
Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Fraunhofer IOF – E_066_249431 – ALD Beschichtungsanlage
E_066_249431 migl-bla
Produkte/Dienstleistungen: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke📦
Kurze Beschreibung:
“ALD Beschichtungsanlage zur Herstellung dielektrischer Schichten für die Optik
Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer...”
Kurze Beschreibung
ALD Beschichtungsanlage zur Herstellung dielektrischer Schichten für die Optik
Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien, wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine hohe Abscheiderate (> 2-6 nm/ min) ist erwünscht. Die Wöchentliche zu erwartenden Abscheidedicke beträgt mehrere Mikrometer.
Substrat Größe:
— Länge/ Breite/ Höhe = 700/ 500/ 300 mm;
— Länge/ Breite/ Höhe = 900/ 250/ 200 mm.
Eine sehr gute Schichtdickenverteilung (Schichtdickenabweichung ≤ 2 %) über die gesamte Substrat Oberfläche wird gefordert. Die Anlage soll so aufgebaut sein, dass sowohl thermische Prozesse als auch plasmaunterstützte ALD-Prozesse durchgeführt werden können. Es können sowohl sequenzielle als auch räumlich separierte (spatial) ALD-Anlagen angeboten werden.
1️⃣
Ort der Leistung: Jena, Kreisfreie Stadt🏙️
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 07745 Jena
Beschreibung der Beschaffung:
“ALD Beschichtungsanlage zur Herstellung dielektrischer Schichten für die Optik
Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer...”
Beschreibung der Beschaffung
ALD Beschichtungsanlage zur Herstellung dielektrischer Schichten für die Optik
Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage für die Abscheidung optischer Wechselschichtsysteme aus Materialien, wie z. B. SiO2, TiO2, Al2O3, HfO2, Ta2O5, etc. Eine hohe Abscheiderate (> 2-6 nm/ min) ist erwünscht. Die Wöchentliche zu erwartenden Abscheidedicke beträgt mehrere Mikrometer.
Substrat Größe:
— Länge/ Breite/ Höhe = 700/ 500/ 300 mm;
— Länge/ Breite/ Höhe = 900/ 250/ 200 mm.
Eine sehr gute Schichtdickenverteilung (Schichtdickenabweichung ≤ 2 %) über die gesamte Substrat Oberfläche wird gefordert. Die Anlage soll so aufgebaut sein, dass sowohl thermische Prozesse als auch plasmaunterstützte ALD-Prozesse durchgeführt werden können. Es können sowohl sequenzielle als auch räumlich separierte (spatial) ALD-Anlagen angeboten werden.
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium, und alle Kriterien werden nur in den Auftragsunterlagen genannt
Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems
Der nachstehende Zeitrahmen ist in Monaten ausgedrückt.
Beschreibung
Dauer: 9
Informationen über Optionen
Optionen ✅
Beschreibung der Optionen:
“3.16
Der Auftraggeber ist im Sinne eines einseitigen Optionsrechts berechtigt, folgende
Zusätzliche Leistungen/Leistungsänderungen zu verlangen:
2.1 2. oder...”
Beschreibung der Optionen
3.16
Der Auftraggeber ist im Sinne eines einseitigen Optionsrechts berechtigt, folgende
Zusätzliche Leistungen/Leistungsänderungen zu verlangen:
2.1 2. oder 14. Substartgröße: Verschiedene Prozesskammern mit unterschiedlicher Größe
(Diese müssen ohne großen Aufwand austauschbar sein)
46. Das Anlegen einer Bias Spannung im Prozess ist gewünscht.
56. Prozesskontrolle über insitu Ellipsometer/ Reflektometer oder insitu QCM zur Schichtdickenmonitorierung
74. Die Fläche kann mit 1‘‘ Glas-Substraten ausgelegt werden, wobei mindestens 10 Substrate gleichmäßig auf der Fläche verteilt sein müssen
75.Alternativ können Si-Wafer-Substrate mittels Ellipsometrie analysiert werden
121. Wartungsvertragsverlängerung von weiteren 2x12 Monaten.
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“5. Schriftliche Erklärung Ihrer Bank, das nach Zuschlagserteilung, eine Bankbürgschaft gemäß Ausschreibungsmuster, ausgestellt wird.
„Achtung“
Dieser Punkt...”
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien
5. Schriftliche Erklärung Ihrer Bank, das nach Zuschlagserteilung, eine Bankbürgschaft gemäß Ausschreibungsmuster, ausgestellt wird.
„Achtung“
Dieser Punkt gilt nicht bei einem Einsatz von Subunternehmer.
Mehr anzeigen Technische und berufliche Fähigkeiten
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“1. Firmenprofil
2. Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre
3. Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen nach § 123 und § 124 des...”
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien
1. Firmenprofil
2. Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre
3. Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen nach § 123 und § 124 des Gesetzes gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB)
4a. Abgabe einer Referenzliste mit der Ausweisung von min. 3 vergleichbaren Anlagen gemäß der Kurzbeschreibung in den letzten 5 Jahren
„Achtung“:
Sollten Sie aus Datenschutzrechtlichen Gründen Ihre Ansprechpartner nicht benennen dürfen, so kategorisieren Sie bitte Ihren Auftraggeber (Forschung, Industrie, andere öffentliche Auftraggeber) und bestätigen die Vergleichbarkeit der Referenzen mit der ausgeschriebenen Leistung.
Und/ oder
4b. Nachweis und Darstellung eines Be- und Entladeprozesses einer verleichbaren ALD-Anlage per Video- und/oder Fotodokumentation (z. B. per Link etc.). Dabei muss die Größe des Reaktors gut erkennbar sein.
6. Der Hersteller garantiert:
—— Telefon-Support während Bürozeiten (Reaktionszeit < 48h);
—— Reparatur im Fall von Störungen (Rufbereitschaft 5 Werktage);
—— Ersatzteile liefern zu können (10 Tage Lieferzeit für Standard-Teile,
30 Tage Lieferzeit für Spezialanfertigungen nach Eingang der Bestellung).
Mehr anzeigen Bedingungen für den Vertrag
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
“Bei evtl. Einsatz von Subunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der aufgeführten Unterlagen nachzuweisen. Ferner ist zu...”
Bedingungen für die Vertragserfüllung
Bei evtl. Einsatz von Subunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der aufgeführten Unterlagen nachzuweisen. Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen; deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
Verfahren Art des Verfahrens
Wettbewerbliches Verfahren mit Verhandlung
Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2020-10-22
09:00 📅
Voraussichtliches Datum der Versendung der Aufforderungen zur Angebotsabgabe oder zur Teilnahme an die ausgewählten Bewerber: 2020-11-03 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Englisch 🗣️
Das Angebot muss gültig sein bis: 2021-02-01 📅
“Anforderung Unterlagen – Gem. § 9 Abs. 3 S. 2 VgV stehen die Auftragsbekanntmachung und die Vergabeunterlagen bei der deutschen eVergabe für Sie auch ohne...”
Anforderung Unterlagen – Gem. § 9 Abs. 3 S. 2 VgV stehen die Auftragsbekanntmachung und die Vergabeunterlagen bei der deutschen eVergabe für Sie auch ohne Registrierung zur Verfügung.
Bitte beachten Sie, dass für Teilnahmeanträge, Angebotsabgaben und Bieterfragen eine Registrierung notwendig ist. Wir empfehlen daher eine frühzeitige Registrierung auch um evtl. Bieterinformationen zu erhalten; ansonsten tragen Sie das Risiko eines evtl. Angebotsausschlusses. – Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB) – Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden.
Mehr anzeigen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪 Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen,...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf 10 Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
Mehr anzeigen Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name:
“Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal eVergabe”
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de📧
URL: http://www.fraunhofer.de🌏
Quelle: OJS 2020/S 187-448994 (2020-09-22)