Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichstungssystem für die Abscheidung dünner Filme aus Metallen, Metall-Oxiden, und -Nitriden zu beschaffen. Die abgeschiedenen Schichten sollen als Tunnelbarrieren, Elektroden, sowie als aktive Schichten in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als auch in Ferroelektrika Verwendung finden. Ferner, soll das System zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung verwendet werden.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2020-04-07.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2020-03-10.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Sputtercluster
TU-009/20-201-ZMN
Produkte/Dienstleistungen: Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke📦
Kurze Beschreibung:
“Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu...”
Kurze Beschreibung
Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichstungssystem für die Abscheidung dünner Filme aus Metallen, Metall-Oxiden, und -Nitriden zu beschaffen. Die abgeschiedenen Schichten sollen als Tunnelbarrieren, Elektroden, sowie als aktive Schichten in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als auch in Ferroelektrika Verwendung finden. Ferner, soll das System zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung verwendet werden.
1️⃣
Ort der Leistung: Ilm-Kreis🏙️
Beschreibung der Beschaffung:
“Benötigt wird ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichtungssystem mit 2 getrennten Beschichtungskammern sowie weiteren davon getrennten Oxidations- und...”
Beschreibung der Beschaffung
Benötigt wird ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichtungssystem mit 2 getrennten Beschichtungskammern sowie weiteren davon getrennten Oxidations- und Reinigungspositionen zur Abscheidung dünner Filme aus Metallen, Metall-Oxiden, -Nitriden für Anwendungen als Tunnelbarrieren, funktionalen Schichten oder Elektroden in memristiven Bauelementen und als Ferroelektrika sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung.
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium, und alle Kriterien werden nur in den Auftragsunterlagen genannt
Umfang der Beschaffung
Geschätzter Gesamtwert ohne MwSt: EUR 840 000 💰
Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems Beschreibung
Dauer: 1
Informationen über die Begrenzung der Zahl der einzuladenden Bewerber
Voraussichtliche Anzahl von Bewerbern: 5
Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Anzahl von Bewerbern:
“Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Zahl von Bewerbern: Mindestanforderungen, Kriteriengewichtung und Ermittlung des Ergebnisses
Zur...”
Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Anzahl von Bewerbern
Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Zahl von Bewerbern: Mindestanforderungen, Kriteriengewichtung und Ermittlung des Ergebnisses
Zur Teilnahme berechtigt sind die maximal 5 Bewerber, die alle 5 Mindestanforderungen erfüllen haben und die 5 höchsten gewichteten und summierten Wertungen erhalten haben:
— (W1) wirtschaftliche Gesamtsituation des Bieters- Absteigende Bewertung der 5 umsatzstärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 10 %;
— (W2) Umsatz von Sputtercluster-Systemen in Forschungseinrichtungen in den letzten 3 Jahren – Absteigende Bewertung der 5 umsatzstärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 25 %;
— (W3) Mitarbeiter und deren Qualifikationsstruktur im Bereich R&D – Absteigende Bewertung der 5 R&D-stärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 15 %;
— (T1) Komplette Referenzen von vergleichbaren Leistungen und Geräten in Europa, nicht älter als 5 Jahre – Absteigende Bewertung der 5 referenzstärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 25 %;
— (T2) aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Applikationslabor – Absteigende Bewertung der 5 stärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 15 %;
— (T3) nächstgelegener Servicestandort – Absteigende Bewertung der Entfernung zum Erfüllungsort (5-1 Pkt.) 10 %.
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Bedingungen für die Teilnahme
Liste und kurze Beschreibung der Bedingungen:
“— (M1) Erklärung, dass sich das Unternehmen weder in Liquidation befindet, noch dass über das Vermögen des Unternehmens das Insolvenz- bzw....”
Liste und kurze Beschreibung der Bedingungen
— (M1) Erklärung, dass sich das Unternehmen weder in Liquidation befindet, noch dass über das Vermögen des Unternehmens das Insolvenz- bzw. Vergleichsverfahren eröffnet oder die Eröffnung beantragt worden ist;
— (M2) Auszug aus dem Handelsregister/Gewerbezentralregister (nicht älter als 3 Monate);
— (M3) Unbedenklichkeitsbescheinigung des Finanzamtes, der Krankenkassen, der Sozialversicherungsträger, der Berufsgenossenschaften und der Haftpflichtversicherung.
Die Nichterfüllung mindestens eines dieser Mindestanforderungen gilt als Ausschlusskriterium.
Mehr anzeigen Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“Unterlagen, welche
— (W1) über die wirtschaftliche Gesamtsituation des Bieters;
— (W2) den Umsatz von Systemen zur Sputterdeposition in...”
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien
Unterlagen, welche
— (W1) über die wirtschaftliche Gesamtsituation des Bieters;
— (W2) den Umsatz von Systemen zur Sputterdeposition in Forschungseinrichtungen in den letzten 3 Jahren sowie
— (W3) die aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Bereich R&D für Sputtercluster-Systeme Aussagekräftige Auskunft geben.
Mehr anzeigen Technische und berufliche Fähigkeiten
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“Mindestanforderung (Ausschlusskriterium):
(M4) Der Bewerber muss mindestens 3 Referenzinstallationen eines für Forschungszwecke entwickelten...”
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien
Mindestanforderung (Ausschlusskriterium):
(M4) Der Bewerber muss mindestens 3 Referenzinstallationen eines für Forschungszwecke entwickelten Sputtercluster-Systems in einer Forschungseinrichtung in den letzten 5 Jahren vorweisen können, wobei mindestens ein System die folgenden Anforderungen erfüllen muss:
— Clustersystem mit Zentralhändler und mindestens 2 unabhängigen Prozesskammern zur Prozessierung ohne Vakuumbruch;
— flexible Einstellbarkeit des Abstandes sowie des Neigungs- und Rotations-Winkels zwischen Sputterquellen und Substraten zur experimentellen Änderung der Sputter-Geometrie.
(M5) Vorhandensein eines eigenen Applikationslabors zur Sputterdeposition.
Bewertungskriterien:
— (T1) Komplette Referenzen von vergleichbaren Leistungen und Geräten in Europa, nicht älter als 5 Jahre;
— (T2) die aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Applikationslabor sowie
— (T3) nächstgelegener Servicestandort zum Erfüllungsort.
Verfahren Art des Verfahrens
Wettbewerblicher Dialog
Informationen über die Reduzierung der Anzahl von Lösungen oder Angeboten während der Verhandlungen oder des Dialogs
Rückgriff auf ein gestaffeltes Verfahren, um die Zahl der zu erörternden Lösungen oder zu verhandelnden Angebote schrittweise zu verringern
Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2020-04-07
10:30 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Ergänzende Informationen Informationen über elektronische Arbeitsabläufe
Die elektronische Bestellung wird verwendet
Die elektronische Rechnungsstellung wird akzeptiert
Elektronische Zahlung wird verwendet
Zusätzliche Informationen
“Zum Teilnahmewettbewerb (Erster Teil des Vergabeverfahrens):
Der Teilnahmewettbewerb dient zur Ermittlung der Eignung der Bewerber. Es werden im zweiten...”
Zum Teilnahmewettbewerb (Erster Teil des Vergabeverfahrens):
Der Teilnahmewettbewerb dient zur Ermittlung der Eignung der Bewerber. Es werden im zweiten Teil des Vergabeverfahrens (Angebotsverfahren) nur Bewerber mit festgestellter Eignung zugelassen. Wird mindestens eine der Mindestanforderungen nicht erfüllt, liegt keine Eignung vor.
Entsprechend Abschnitt IV.1.2) wird aus den geeigneten Bewerbern unter Berücksichtigung der Bewertungsgewichtung eine Auswahl von maximal 5 Bewerbern herbeiführen.
Zum Angebotsverfahren (Zweiter Teil des Vergabeverfahrens):
In einer ersten Phase werden die ausgewählten maximal 5 Bewerber zur Erstellung Lösungskonzeptes und eines ersten verbindlichen Angebots aufgefordert. Diese Angebote sind Grundlage der nächsten Phasen mit Verhandlungsrunden mit maximal 3 Bietern. Im Bedarfsfall können Prozesstests zur Bewertung von Lösungskonzepten vorgesehen werden. In diesen Phasen kann nach Bewertung der vorgelegten Lösungskonzepte und Testergebnisse eine weitere Reduzierung der Teilnehmerzahl erfolgen.
Letztlich werden die im Verfahren verbleibenden Bieter final um ein Angebot gebeten, bevor die Vergabe mit der Auftragserteilung an den Bestbieter abgeschlossen wird.
Die Ausschluss- und Bewertungskriterien werden mit den jeweiligen Aufforderungen zur Angebotserstellung bzw. Prozesstest mitgeteilt.
Mehr anzeigen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer beim Thüringer Landesverwaltungsamt
Postanschrift: Jorge-Sempún-Platz 4
Postort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 361-37700📞
Fax: +49 361-573321059 📠 Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren: Entsprechend der Regelung gemäß §160 GWB.
Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Technische Universität Ilmenau, Dezernat Finanzen, SG Beschaffung
Postanschrift: Max Planck Ring 14
Postort: Ilmenau
Postleitzahl: 98693
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: beschaffung@tu-ilmenau.de📧
URL: http://www.tu-ilmenau.de🌏
Quelle: OJS 2020/S 050-118205 (2020-03-10)
Ergänzende Angaben (2020-03-26) Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu...”
Kurze Beschreibung
Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichstungssystem für die Abscheidung dünner Filme aus Metallen, Metall-Oxiden, und –Nitriden zu beschaffen. Die abgeschiedenen Schichten sollen als Tunnelbarrieren, Elektroden, sowie als aktive Schichten in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als auch in Ferroelektrika Verwendung finden. Ferner, soll das System zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung verwendet werden.
Ergänzende Informationen Referenz der ursprünglichen Mitteilung
Nummer der Bekanntmachung im Amtsblatt S: 2020/S 050-118205
Änderungen Zu berichtigender Text in der ursprünglichen Bekanntmachung
Nummer des Abschnitts: IV.2.2)
Ort des zu ändernden Textes: Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge
Alter Wert
Datum: 2020-04-07 📅
Zeit: 10:30
Neuer Wert
Datum: 2020-05-05 📅
Zeit: 10:30
Quelle: OJS 2020/S 064-152938 (2020-03-26)
Ergänzende Angaben (2021-02-05)
Änderungen Zu berichtigender Text in der ursprünglichen Bekanntmachung
Nummer des Abschnitts: II.1.4)
Ort des zu ändernden Textes: Kurze Beschreibung:
Alter Wert
Text:
“Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu...”
Text
Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichstungssystem für die Abscheidung dünner Filme aus Metallen, Metall-Oxiden, und -Nitriden zu beschaffen. Die abgeschiedenen Schichten sollen als Tunnelbarrieren, Elektroden, sowie als aktive Schichten in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als auch in Ferroelektrika Verwendung finden. Ferner, soll das System zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung verwendet werden.
Mehr anzeigen Neuer Wert
Text:
“Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu...”
Text
Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichstungssystem für die Abscheidung dünner Filme aus Metallen, Metall-Oxiden, und -Nitriden zu beschaffen. Die abgeschiedenen Schichten sollen als Tunnelbarrieren, Elektroden, sowie als aktive Schichten in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als auch in Ferroelektrika Verwendung finden. Ferner, soll das System zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung verwendet werden.
Mehr anzeigen Zu berichtigender Text in der ursprünglichen Bekanntmachung
Nummer des Abschnitts: III.1.3)
Ort des zu ändernden Textes: Technische und berufliche Leistungsfähigkeit
Alter Wert
Text:
“Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:
Mindestanforderung (Ausschlusskriterium):
(M4) Der Bewerber muss mindestens 3...”
Text
Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:
Mindestanforderung (Ausschlusskriterium):
(M4) Der Bewerber muss mindestens 3 Referenzinstallationen eines für Forschungszwecke entwickelten Sputtercluster-Systems in einer Forschungseinrichtung in den letzten 5 Jahren vorweisen können, wobei mindestens ein System die folgenden Anforderungen erfüllen muss:
— Clustersystem mit Zentralhändler und mindestens 2 unabhängigen Prozesskammern zur Prozessierung ohne Vakuumbruch;
— flexible Einstellbarkeit des Abstandes sowie des Neigungs- und Rotations-Winkels zwischen Sputterquellen und Substraten zur experimentellen Änderung der Sputter-Geometrie.
(M5) Vorhandensein eines eigenen Applikationslabors zur Sputterdeposition.
Bewertungskriterien:
— (T1) Komplette Referenzen von vergleichbaren Leistungen und Geräten in Europa, nicht älter als 5 Jahre;
— (T2) die aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Applikationslabor sowie
— (T3) nächstgelegener Servicestandort zum Erfüllungsort.
Mehr anzeigen Neuer Wert
Text:
“Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:
Mindestanforderung (Ausschlusskriterium):
(M4) Der Bewerber muss mindestens 3...”
Text
Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:
Mindestanforderung (Ausschlusskriterium):
(M4) Der Bewerber muss mindestens 3 Referenzinstallationen eines für Forschungszwecke entwickelten Sputtercluster-Systems in einer Forschungseinrichtung in den letzten 5 Jahren vorweisen können, wobei mindestens ein System die folgenden Anforderungen erfüllen muss:
— Clustersystem mit Zentralhändler und mindestens 2 unabhängigen Prozesskammern zur Prozessierung ohne Vakuumbruch;
— flexible Einstellbarkeit des Abstandes sowie des Neigungs- und Rotations-Winkels zwischen Sputterquellen und Substraten zur experimentellen Änderung der Sputter-Geometrie.
(M5) Vorhandensein eines eigenen Applikationslabors zur Sputterdeposition.
Bewertungskriterien:
(T1) Komplette Referenzen von vergleichbaren Leistungen und Geräten in Europa, nicht älter als 5 Jahre,
(T2) die aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Applikationslabor sowie
(T3) nächstgelegener Servicestandort zum Erfüllungsort.
Mehr anzeigen
Quelle: OJS 2021/S 028-069132 (2021-02-05)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2021-03-23) Objekt Umfang der Beschaffung
Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.): EUR 839 700 💰
Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung:
“Benötigt wird ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichtungssystem mit zwei getrennten Beschichtungskammern sowie weiteren davon getrennten Oxidations- und...”
Beschreibung der Beschaffung
Benötigt wird ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichtungssystem mit zwei getrennten Beschichtungskammern sowie weiteren davon getrennten Oxidations- und Reinigungspositionen zur Abscheidung dünner Filme aus Metallen, Metall-Oxiden, -Nitriden für Anwendungen als Tunnelbarrieren, funktionalen Schichten oder Elektroden in memristiven Bauelementen und als Ferroelektrika sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung.
Verfahren Administrative Informationen
Frühere Veröffentlichungen zu diesem Verfahren: 2020/S 050-118205
Auftragsvergabe
1️⃣
Vertragsnummer: TU-009/20-201-ZMN
Titel: Sputtercluster
Datum des Vertragsabschlusses: 2021-03-22 📅
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 2
Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 2
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der auf elektronischem Wege eingegangenen Angebote: 2
Name und Anschrift des Auftragnehmers
Name: Polyteknik AS
Postort: Oestervraa
Land: Dänemark 🇩🇰
Region: Nordjylland 🏙️
Der Auftragnehmer ist ein KMU ✅ Angaben zum Wert des Auftrags/der Partie (ohne MwSt.)
Gesamtwert des Auftrags/Loses: EUR 839 700 💰
Ergänzende Informationen Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren: Entsprechend der Regelung gemäß §160 GWB
Quelle: OJS 2021/S 060-150087 (2021-03-23)