Sputtercluster

Technische Universität Ilmenau, Dezernat Finanzen, SG Beschaffung

Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichstungssystem für die Abscheidung dünner Filme aus Metallen, Metall-Oxiden, und -Nitriden zu beschaffen. Die abgeschiedenen Schichten sollen als Tunnelbarrieren, Elektroden, sowie als aktive Schichten in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als auch in Ferroelektrika Verwendung finden. Ferner, soll das System zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung verwendet werden.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2020-04-07. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2020-03-10.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• Polyteknik AS

Wer?

• Technische Universität Ilmenau, Dezernat Finanzen, SG Beschaffung

Wie?

• Industrielle Maschinen › Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke

Wo?

• Thüringen › Ilm-Kreis

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2020-03-10	Auftragsbekanntmachung
2020-03-26	Ergänzende Angaben
2021-02-05	Ergänzende Angaben
2021-03-23	Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Auftragsbekanntmachung (2020-03-10)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke
Referenznummer: TU-009/20-201-ZMN
Kurze Beschreibung:

Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Ilm-Kreis 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Wettbewerblicher Dialog
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Einrichtung des öffentlichen Rechts
Name des öffentlichen Auftraggebers: Technische Universität Ilmenau, Dezernat Finanzen, SG Beschaffung
Postanschrift: Max Planck Ring 14
Postleitzahl: 98693
Postort: Ilmenau
Kontakt
Internetadresse: http://www.tu-ilmenau.de 🌏
E-Mail: beschaffung@tu-ilmenau.de 📧
URL der Dokumente: https://www.evergabe-online.de/tenderdetails.html?id=317179 🌏
URL der Teilnahme: https://www.evergabe-online.de/tenderdetails.html?id=317179 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2020-03-10 📅
Einreichungsfrist: 2020-04-07 📅
Veröffentlichungsdatum: 2020-03-11 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2020/S 050-118205
ABl. S-Ausgabe: 50
Zusätzliche Informationen

Zum Teilnahmewettbewerb (Erster Teil des Vergabeverfahrens): Der Teilnahmewettbewerb dient zur Ermittlung der Eignung der Bewerber. Es werden im zweiten Teil des Vergabeverfahrens (Angebotsverfahren) nur Bewerber mit festgestellter Eignung zugelassen. Wird mindestens eine der Mindestanforderungen nicht erfüllt, liegt keine Eignung vor. Entsprechend Abschnitt IV.1.2) wird aus den geeigneten Bewerbern unter Berücksichtigung der Bewertungsgewichtung eine Auswahl von maximal 5 Bewerbern herbeiführen. Zum Angebotsverfahren (Zweiter Teil des Vergabeverfahrens): In einer ersten Phase werden die ausgewählten maximal 5 Bewerber zur Erstellung Lösungskonzeptes und eines ersten verbindlichen Angebots aufgefordert. Diese Angebote sind Grundlage der nächsten Phasen mit Verhandlungsrunden mit maximal 3 Bietern. Im Bedarfsfall können Prozesstests zur Bewertung von Lösungskonzepten vorgesehen werden. In diesen Phasen kann nach Bewertung der vorgelegten Lösungskonzepte und Testergebnisse eine weitere Reduzierung der Teilnehmerzahl erfolgen. Letztlich werden die im Verfahren verbleibenden Bieter final um ein Angebot gebeten, bevor die Vergabe mit der Auftragserteilung an den Bestbieter abgeschlossen wird. Die Ausschluss- und Bewertungskriterien werden mit den jeweiligen Aufforderungen zur Angebotserstellung bzw. Prozesstest mitgeteilt.

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Benötigt wird ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichtungssystem mit 2 getrennten Beschichtungskammern sowie weiteren davon getrennten Oxidations- und Reinigungspositionen zur Abscheidung dünner Filme aus Metallen, Metall-Oxiden, -Nitriden für Anwendungen als Tunnelbarrieren, funktionalen Schichten oder Elektroden in memristiven Bauelementen und als Ferroelektrika sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung.

Geschätzter Wert ohne MwSt: 840 000 EUR 💰
Dauer: 1 Tage

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:

— (M1) Erklärung, dass sich das Unternehmen weder in Liquidation befindet, noch dass über das Vermögen des Unternehmens das Insolvenz- bzw. Vergleichsverfahren eröffnet oder die Eröffnung beantragt worden ist;

— (M2) Auszug aus dem Handelsregister/Gewerbezentralregister (nicht älter als 3 Monate);

— (M3) Unbedenklichkeitsbescheinigung des Finanzamtes, der Krankenkassen, der Sozialversicherungsträger, der Berufsgenossenschaften und der Haftpflichtversicherung.

Die Nichterfüllung mindestens eines dieser Mindestanforderungen gilt als Ausschlusskriterium.

Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:

Unterlagen, welche

— (W1) über die wirtschaftliche Gesamtsituation des Bieters;

— (W2) den Umsatz von Systemen zur Sputterdeposition in Forschungseinrichtungen in den letzten 3 Jahren sowie

— (W3) die aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Bereich R&D für Sputtercluster-Systeme Aussagekräftige Auskunft geben.

Technische und berufliche Fähigkeiten:

Mindestanforderung (Ausschlusskriterium):

(M4) Der Bewerber muss mindestens 3 Referenzinstallationen eines für Forschungszwecke entwickelten Sputtercluster-Systems in einer Forschungseinrichtung in den letzten 5 Jahren vorweisen können, wobei mindestens ein System die folgenden Anforderungen erfüllen muss:

— Clustersystem mit Zentralhändler und mindestens 2 unabhängigen Prozesskammern zur Prozessierung ohne Vakuumbruch;

— flexible Einstellbarkeit des Abstandes sowie des Neigungs- und Rotations-Winkels zwischen Sputterquellen und Substraten zur experimentellen Änderung der Sputter-Geometrie.

(M5) Vorhandensein eines eigenen Applikationslabors zur Sputterdeposition.

Bewertungskriterien:

— (T1) Komplette Referenzen von vergleichbaren Leistungen und Geräten in Europa, nicht älter als 5 Jahre;

— (T2) die aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Applikationslabor sowie

— (T3) nächstgelegener Servicestandort zum Erfüllungsort.

Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Voraussichtliche Anzahl von Bewerbern: 5
Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Anzahl von Bewerbern:

Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Zahl von Bewerbern: Mindestanforderungen, Kriteriengewichtung und Ermittlung des Ergebnisses

Zur Teilnahme berechtigt sind die maximal 5 Bewerber, die alle 5 Mindestanforderungen erfüllen haben und die 5 höchsten gewichteten und summierten Wertungen erhalten haben:

— (W1) wirtschaftliche Gesamtsituation des Bieters- Absteigende Bewertung der 5 umsatzstärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 10 %;

— (W2) Umsatz von Sputtercluster-Systemen in Forschungseinrichtungen in den letzten 3 Jahren – Absteigende Bewertung der 5 umsatzstärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 25 %;

— (W3) Mitarbeiter und deren Qualifikationsstruktur im Bereich R&D – Absteigende Bewertung der 5 R&D-stärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 15 %;

— (T1) Komplette Referenzen von vergleichbaren Leistungen und Geräten in Europa, nicht älter als 5 Jahre – Absteigende Bewertung der 5 referenzstärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 25 %;

— (T2) aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Applikationslabor – Absteigende Bewertung der 5 stärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 15 %;

— (T3) nächstgelegener Servicestandort – Absteigende Bewertung der Entfernung zum Erfüllungsort (5-1 Pkt.) 10 %.

Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 10:30
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️

Öffentlicher Auftraggeber
Kontakt
Adresse des Käuferprofils: https://www.evergabe-online.de 🌏
Dokumente URL: https://www.evergabe-online.de/tenderdetails.html?id=317179 🌏
Internetadresse: https://www.evergabe-online.de 🌏

Referenz
Zusätzliche Informationen

Zum Teilnahmewettbewerb (Erster Teil des Vergabeverfahrens):

Der Teilnahmewettbewerb dient zur Ermittlung der Eignung der Bewerber. Es werden im zweiten Teil des Vergabeverfahrens (Angebotsverfahren) nur Bewerber mit festgestellter Eignung zugelassen. Wird mindestens eine der Mindestanforderungen nicht erfüllt, liegt keine Eignung vor.

Entsprechend Abschnitt IV.1.2) wird aus den geeigneten Bewerbern unter Berücksichtigung der Bewertungsgewichtung eine Auswahl von maximal 5 Bewerbern herbeiführen.

Zum Angebotsverfahren (Zweiter Teil des Vergabeverfahrens):

In einer ersten Phase werden die ausgewählten maximal 5 Bewerber zur Erstellung Lösungskonzeptes und eines ersten verbindlichen Angebots aufgefordert. Diese Angebote sind Grundlage der nächsten Phasen mit Verhandlungsrunden mit maximal 3 Bietern. Im Bedarfsfall können Prozesstests zur Bewertung von Lösungskonzepten vorgesehen werden. In diesen Phasen kann nach Bewertung der vorgelegten Lösungskonzepte und Testergebnisse eine weitere Reduzierung der Teilnehmerzahl erfolgen.

Letztlich werden die im Verfahren verbleibenden Bieter final um ein Angebot gebeten, bevor die Vergabe mit der Auftragserteilung an den Bestbieter abgeschlossen wird.

Die Ausschluss- und Bewertungskriterien werden mit den jeweiligen Aufforderungen zur Angebotserstellung bzw. Prozesstest mitgeteilt.

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer beim Thüringer Landesverwaltungsamt
Postanschrift: Jorge-Sempún-Platz 4
Postort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 361-37700 📞
Fax: +49 361-573321059 📠
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren: Entsprechend der Regelung gemäß §160 GWB.
Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Technische Universität Ilmenau, Dezernat Finanzen, SG Beschaffung
Postanschrift: Max Planck Ring 14
Postort: Ilmenau
Postleitzahl: 98693
E-Mail: beschaffung@tu-ilmenau.de 📧
Internetadresse: http://www.tu-ilmenau.de 🌏
Quelle: OJS 2020/S 050-118205 (2020-03-10)

Ergänzende Angaben (2020-03-26)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichstungssystem für die Abscheidung dünner Filme aus Metallen, Metall-Oxiden, und –Nitriden zu beschaffen. Die abgeschiedenen Schichten sollen als Tunnelbarrieren, Elektroden, sowie als aktive Schichten in memristiven und kryoelektronischen Bauelementen, als auch in Ferroelektrika Verwendung finden. Ferner, soll das System zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung verwendet werden.

Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Ergänzende Angaben

Referenz
Daten
Absendedatum: 2020-03-26 📅
Einreichungsfrist: 2020-05-05 📅
Veröffentlichungsdatum: 2020-03-31 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2020/S 064-152938
Verweist auf Bekanntmachung: 2020/S 050-118205
ABl. S-Ausgabe: 64
Quelle: OJS 2020/S 064-152938 (2020-03-26)

Ergänzende Angaben (2021-02-05)
Referenz
Daten
Absendedatum: 2021-02-05 📅
Veröffentlichungsdatum: 2021-02-10 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2021/S 028-069132
ABl. S-Ausgabe: 28
Quelle: OJS 2021/S 028-069132 (2021-02-05)

Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2021-03-23)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Gesamtwert des Auftrags: 839 700 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Angebotsart: Entfällt

Referenz
Daten
Absendedatum: 2021-03-23 📅
Veröffentlichungsdatum: 2021-03-26 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2021/S 060-150087
ABl. S-Ausgabe: 60

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Benötigt wird ein flexibel einsetzbares Sputterbeschichtungssystem mit zwei getrennten Beschichtungskammern sowie weiteren davon getrennten Oxidations- und Reinigungspositionen zur Abscheidung dünner Filme aus Metallen, Metall-Oxiden, -Nitriden für Anwendungen als Tunnelbarrieren, funktionalen Schichten oder Elektroden in memristiven Bauelementen und als Ferroelektrika sowie zur wissenschaftlichen Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung.

Verfahren
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Technische Sezifikation
Qualitätskriterium (Gewichtung): 80
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Software/Steuerung
Qualitätskriterium (Gewichtung): 15
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Garantie
Qualitätskriterium (Gewichtung): 5
Preis (Gewichtung): 100

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2021-03-22 📅
Name: Polyteknik AS
Postort: Oestervraa
Land: Dänemark 🇩🇰
Nordjylland 🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 839 700 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 2

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren: Entsprechend der Regelung gemäß §160 GWB
Quelle: OJS 2021/S 060-150087 (2021-03-23)

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