Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien
Zum Nachweis der fachlichen Kompetenz muss der Bieter mindestens 3 Referenz-Projekte des Unternehmens für ähnliche Anlagen mit fachlichem Zusammenhang zur ausgeschriebenen Leistung benennen. (bestehend aus mind.: XPS/UPS/IPES-Analytik-Kammer; PVD-Kammer zur Präparation / Schichtdeposition im HV oder UHV für Anwendungen wie z. B. organische Halbleiter).
— Es muss die Möglichkeit zur Kontaktaufnahme mit Nutzern solcher Anlagen bestehen.
Im fachlichen Zusammenhang im Sinne der Ausschreibung sind Referenzen die die folgenden Punkte erfüllen:
Gesamtsystem:
— für mind. 4 Proben der Größe 2,54 x 2,54 mm (1x1“) – typ. Glassubstrate von 1-4 mm Dicke, aber auch Silizium-Wafer mit typ. Dicke 150-250 μm,
— Schleuse zw. Glovebox und mit eigenem Pumpsystem für schnelles Einschleusen, bis zu 4 Proben in weniger als 10 Minuten,
— Druckmanagement einschließlich Druck-Anzeige, Ventilsteuerung und Load-Lock-Entlüftung vollständig in die Messsoftware integriert,
— Alle Funktionen zur Vakuumsteuerung zusätzlich auch außerhalb der Messsoftware leicht zugänglich (z. B. Touchscreen).
Analytik-Kammer:
— Ausgelegt für XPS-, UPS-, AES- Messungen, vorbereitet für CFSYS-Messungen (HZB-Eigenentwicklung – benötigt 2 einander gegenüberliegende Ports ISO CF 40 im „magic angle“ relativ zur Probe),
— 4-Achsen-Probenmanipulator mit x/y/z-Bewegung, Kippen und Probenheiz- / Kühlmöglichkeit. Temperaturbereich von -100 C bis 1 200 C
— Kippen, Heizen, Kühlen und Anlegen der elektrischen Vorspannung auf demselben Probentisch, kein Austausch erforderlich,
— Leistungsstarke monochromatische Röntgenquelle mit Doppelanoden (Al/Ag), mehr als 10E11 Photonen pro Sekunde, großer Spotmodus bis zu 4 mm,
— Scanning-Ionenkanone für Sputter-Tiefenprofilierung, Energiebereich 200 - 5 000 eV, Scanbereich 10 x 10 mm, Emissionsstrom bis zu 10 mA,
— Hochleistungs-UV-Quelle für UPS, zur Verwendung mit Gasen wie H, He, Ne, Ar, Kr und Xe. Maximale Betriebsspannung / Strom: 1 500 V / 125 mA,
— Laserpointer markiert eindeutig den Messfleck durch die optische Achse des halbkugelförmigen Analysators,
— Vakuumsystem für Analysenkammerdruck im Bereich von 10 E-10 mbar,
— Ladungskompensation durch fernsteuerbare Elektronenflutkanone,
— In-Vakuum-Probenlagerung in der Analysenkammer.
Energieanalysator (in die Analytik-Kammer integriert):
— 1 D-Multichannel-Detektor, mind. 500 Kanäle,
— Detektor auswechselbar gegen 2D-Detektor (CMOS / DLD, verfügbar vom gleichen Anbieter),
— „snapshot“-Fähigkeit für 10eV breite UPS-Spektren mit mind. 500 Kanälen,
— sehr niedrige Dunkelzählrate (~10 counts/s über alle Kanäle),
— max. Zählrate >12Mcounts/s,
— Passenergie mind. 1 eV – 500 eV,
— max. Energieauflösung besser als 2 m eV,
— bipolar, sowohl negativ als auch positiv geladene Teilchen detektierbar,
— max. kinetische Energie mind. 3 500 eV,
— Linsen-Modi für hohe Transmission / winkelaufgelöste Messungen / ortsaufgelöste Messungen,
— „Zoom“-Linsenmodus für Sichtfeld (field of view) bis hinunter zu 100 μm,
— Arbeitsabstand 40 mm.
Mess-Software:
— Volle Automatisierung aller analytischen Funktionen,
— Die folgenden Funktionen können von einer externen Software über gut dokumentierte APIs und LabView-VIs, die vom Hersteller bereitgestellt werden, eingestellt / gelesen / gesteuert werden:
— 1) Analysator: alle wichtigen softwaregesteuerten Funktionen (elektrostatische Linsen, Analysator- & Detektoreinstellungen; Parameter, die sich auf die Spektrenaufnahme beziehen, wie Energiebereiche, Schrittweite, ...)
— 2) Die XPS-Quelle kann ein- und ausgeschaltet werden, Anoden können umgeschaltet und die Leistung kann eingestellt werden,
— 3) Es können Mess-„Rezepte“/„Regionen“ definiert und getriggert werden, und die Messdaten (Spektren) können ausgelesen und über gut dokumentierte APIs und LabView-VIs des Herstellers an eine externe Steuersoftware (HZB-Eigenentwicklung) übergeben werden,
— 4) Probenmanipulator: x/y/z-Bewegung, Kippen und Probenheizung / -kühlung.
PVD-Kammer:
— Basisdruck < 5,0 E-08 mbar,
— Abpumpzeit nach Prozess bis < 1,0 E-07 mbar: < 15 min,
— Beheizte Substrataufnahme für die oben definierten Substrate, Tmax 600C,
— Abschirmbleche an den inneren Wänden zum Austausch, mind. 2 Sätze werden mitgeliefert,
— 4 unabhängige thermische Verdampfer-Quellen, wobei 2 beliebige Quellen zur Co-Verdampfung nutzbar sind:
— 2 x Tiegel-Beschichtungsquelle mit erweitertem Temperaturbereich (mind. 50 C bis 1 000 C) o 2x Boot-Beschichtungsquelle - RF-/DC-Magnetron-Sputterquelle für TCOs wie ITO, IZO, ZnO:Al,
— Hierzu als Teil des Vakuumsystems: Regelbare Saugleistung der Pumpe über Butterfly-Ventil, automatische Druckregelung im Bereich 1-20 mbar, mindestens jedoch bis 12 mbar. Regelgenauigkeit besser als +/- 5 %,
— Gaszuführung: Massenfluss-Controller (MFC) für Ar, O, und ein weiteres Gas (inert / nicht explosiv),
— den Quellen individuell zugeordnete Ratensensoren sowie ein Ratensensor in Substratnähe,
— Substratshutter, individuell steuerbare Quellenshutter,
— Schichtdickenhomogenität: Besser 3,0 % für jede einzelne Quelle,
— Die Substrattemperatur darf im Verdampferbetrieb ohne Heizung unter maximal anzunehmender, thermischer Last (2 Quellen mit maximaler Betriebstemperatur und geöffneten Shuttern) 80C nicht überschreiten,
— Restgas-Analyse mittels QMS,
— 2 Blindstutzen KF 40 an noch zu spezifizierenden Positionen,
— Sichtfenster mit Beschichtungsblende und integrierte Kammerbeleuchtung.
UHV-Vakuum-Transfer-System:
— Zum Transfer zwischen PVD-, Analytik- und Schleusenkammer,
— Basisdruck < 1,0 E-08 mbar,
— Integriert in die Automatisierung des Vakuumsystems.
Glovebox:
— zum Beladen der Schleusenkammer,
— N 2-Glovebox mit 2 Handschuhen und O- und HO-Überwachung O und HO < 1 ppm (kontrolliert)