E_019_250426 MalOle-bla Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER (Hoch Ionisierte Plasmen zur Schichtabscheidung für Tribo-Anwendungen und Materials Engineering)
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2021-09-15.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2021-08-16.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER - E_019_250426
E_019_250426
Produkte/Dienstleistungen: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke📦
Kurze Beschreibung:
“E_019_250426 MalOle-bla Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER (Hoch Ionisierte Plasmen zur Schichtabscheidung für Tribo-Anwendungen und...”
Kurze Beschreibung
E_019_250426 MalOle-bla Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER (Hoch Ionisierte Plasmen zur Schichtabscheidung für Tribo-Anwendungen und Materials Engineering)
1️⃣
Ort der Leistung: Freiburg im Breisgau, Stadtkreis🏙️
Hauptstandort oder Erfüllungsort: IWM
Wöhlerstraße 11
79108 Freiburg
Beschreibung der Beschaffung:
“Kurzbeschreibung
Multifunktionale Beschichtungsanlage mit modernster Quellentechnologie (Arc, HIPIMS, PA-CVD, Ionenquelle). Geforderte Kernkomponenten der...”
Beschreibung der Beschaffung
Kurzbeschreibung
Multifunktionale Beschichtungsanlage mit modernster Quellentechnologie (Arc, HIPIMS, PA-CVD, Ionenquelle). Geforderte Kernkomponenten der Anlage:
-Probenheizer bis 250 °C Substrattemperatur für Precleaning
-PACVD-Beschichtungsquelle
-2 x HiPIMS-Quellen HiPIMS peak current > 1 A/cm²; peak voltage > 1kV; umschaltbar auf HF > 5W/cm² / DC > 6W/cm²;
-Ionenquelle/Ionenätzer zur Substratreinigung und ionengestützter Abscheidung (IBAD)
-1 x ARC-Quelle
-Mindestens 1 Position als 'Reserve', nachrüstbar mit weiterer Quelle
-Heizer an einer Magnetron-Quellenposition, Tmax >= 800 °C am Substrat
-Einlass für Reaktivgase O2, N2, CH4, H2
-Downstream-Druckregelung über Schieberventil
-Prozesskontrolle: glasfaserspektrometrische Beobachtung der Plasmaentladung o.ä., Sichtfenster für optische Beobachtung
-Separate Kammer für Schichtanalytik über Ramananalyse, XPS-Analyse o.Ä. (die Analytik selbst ist nicht Bestandteil der Ausschreibung)
-Umfangreiche Möglichkeiten zum Substrathandling
-Substrat HF-biasfähig, Flächenleistung > 0,5 W/cm²
-Software/Steuerung: Erfassung aller relevanten Prozessparameter (Druck- Leistung, Temperatur, etc.); Erzeugung Datenfiles als Excel o.ä.; grafische Darstellung, Schnittstelle der Steuerung zu z.B. Labview
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): technische Merkmale
Qualitätskriterium (Gewichtung): 65,00
Preis (Gewichtung): 35,00
Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems
Der nachstehende Zeitrahmen ist in Monaten ausgedrückt.
Beschreibung
Dauer: 10
Informationen über Optionen
Optionen ✅
Beschreibung der Optionen:
“I. 2. Heizer im Kammer 2, analog zu erstem Heizer (Pos 32)
II. Rohrmagnetron für eine freie Quellenposition
III. in Kammer 2: aktive Kühlmöglichkeit für...”
Beschreibung der Optionen
I. 2. Heizer im Kammer 2, analog zu erstem Heizer (Pos 32)
II. Rohrmagnetron für eine freie Quellenposition
III. in Kammer 2: aktive Kühlmöglichkeit für Substrat während der Arc-Beschichtung, z.B. über ausfahrbaren Kühlfinger. Kann je nach Anlagenkonzept neben dem vorhandenen Heizer oder im Austausch für den Heizer ausgeführt werden
IV. weitere HiPims-Quelle, dabei beschichtbare Fläche bis zu 350 mm x 350 mm mit Dickenkonstanz ±5%
V. Mimik zum Verfahren der HiPIMS-Quellen zum Einstellen des Abstandes Quelle-Substrat; Verfahrweg mind. 80 mm
VI. Zusätzlich in Kammer 1 eine induktiv gekoppelte, impedanzangepasste PA-CVD Quelle, 13,56 MHz mit wassergekühlter Spule, Leistung > 1000 W
VII. statt Arc-Quelle: filtered arc-Quelle. Dabei können mehrere kleine Quellen zu einer großen Quelle zusammengefasst werden
VIII. Möglichkeit zur Abkopplung von Kammer 3 ohne Vakuumunterbrechung.
IX. Weiteres Chargierfahrzeug für planare oder rotationssymmetrische Substrate
X. Chargierfahrzeug mit herausnehmbarer Kassette zum erleichterten Handling kleiner Proben, passend zur Transferstange in der Analytik-Kammer
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Bedingungen für die Teilnahme
Liste und kurze Beschreibung der Bedingungen:
“Direktlink auf Dokument mit Eignungskriterien: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-17b2ac0ee7b-4ab91fda28e19b58” Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“Direktlink auf Dokument mit Eignungskriterien: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-17b2ac0ee7b-4ab91fda28e19b58” Technische und berufliche Fähigkeiten
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“Direktlink auf Dokument mit Eignungskriterien: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-17b2ac0ee7b-4ab91fda28e19b58” Bedingungen für den Vertrag
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
“Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien...”
Bedingungen für die Vertragserfüllung
Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen. Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen; deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
Verfahren Art des Verfahrens
Wettbewerbliches Verfahren mit Verhandlung
Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2021-09-15
11:00 📅
Voraussichtliches Datum der Versendung der Aufforderungen zur Angebotsabgabe oder zur Teilnahme an die ausgewählten Bewerber: 2021-10-01 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Das Angebot muss gültig sein bis: 2022-02-03 📅
Ergänzende Informationen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪 Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen,...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB) . Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
Mehr anzeigen Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de📧
URL: https://www.fraunhofer.de🌏
Quelle: OJS 2021/S 161-422329 (2021-08-16)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2022-02-09) Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER
E_019_250426
Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.): EUR 0.01 💰
Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung:
“Kurzbeschreibung Multifunktionale Beschichtungsanlage mit modernster Quellentechnologie (Arc, HIPIMS, PA-CVD, Ionenquelle). Geforderte Kernkomponenten der...”
Beschreibung der Beschaffung
Kurzbeschreibung Multifunktionale Beschichtungsanlage mit modernster Quellentechnologie (Arc, HIPIMS, PA-CVD, Ionenquelle). Geforderte Kernkomponenten der Anlage: -Probenheizer bis 250 °C Substrattemperatur für Precleaning -PACVD-Beschichtungsquelle -2 x HiPIMS-Quellen HiPIMS peak current > 1 A/cm²; peak voltage > 1kV; umschaltbar auf HF > 5W/cm² / DC > 6W/cm²; -Ionenquelle/Ionenätzer zur Substratreinigung und ionengestützter Abscheidung (IBAD) -1 x ARC-Quelle -Mindestens 1 Position als 'Reserve', nachrüstbar mit weiterer Quelle -Heizer an einer Magnetron-Quellenposition, Tmax >= 800 °C am Substrat -Einlass für Reaktivgase O2, N2, CH4, H2 -Downstream-Druckregelung über Schieberventil -Prozesskontrolle: glasfaserspektrometrische Beobachtung der Plasmaentladung o.ä., Sichtfenster für optische Beobachtung -Separate Kammer für Schichtanalytik über Ramananalyse, XPS-Analyse o.Ä. (die Analytik selbst ist nicht Bestandteil der Ausschreibung) -Umfangreiche Möglichkeiten zum Substrathandling -Substrat HF-biasfähig, Flächenleistung > 0,5 W/cm² -Software/Steuerung: Erfassung aller relevanten Prozessparameter (Druck- Leistung, Temperatur, etc.); Erzeugung Datenfiles als Excel o.ä.; grafische Darstellung, Schnittstelle der Steuerung zu z.B. Labview
Mehr anzeigen Informationen über Optionen
Beschreibung der Optionen:
“I. 2. Heizer im Kammer 2, analog zu erstem Heizer (Pos 32) II. Rohrmagnetron für eine freie Quellenposition III. in Kammer 2: aktive Kühlmöglichkeit für...”
Beschreibung der Optionen
I. 2. Heizer im Kammer 2, analog zu erstem Heizer (Pos 32) II. Rohrmagnetron für eine freie Quellenposition III. in Kammer 2: aktive Kühlmöglichkeit für Substrat während der Arc-Beschichtung, z.B. über ausfahrbaren Kühlfinger. Kann je nach Anlagenkonzept neben dem vorhandenen Heizer oder im Austausch für den Heizer ausgeführt werden IV. weitere HiPims-Quelle, dabei beschichtbare Fläche bis zu 350 mm x 350 mm mit Dickenkonstanz ±5% V. Mimik zum Verfahren der HiPIMS-Quellen zum Einstellen des Abstandes Quelle-Substrat; Verfahrweg mind. 80 mm VI. Zusätzlich in Kammer 1 eine induktiv gekoppelte, impedanzangepasste PA-CVD Quelle, 13,56 MHz mit wassergekühlter Spule, Leistung > 1000 W VII. statt Arc-Quelle: filtered arc-Quelle. Dabei können mehrere kleine Quellen zu einer großen Quelle zusammengefasst werden VIII. Möglichkeit zur Abkopplung von Kammer 3 ohne Vakuumunterbrechung. IX. Weiteres Chargierfahrzeug für planare oder rotationssymmetrische Substrate X. Chargierfahrzeug mit herausnehmbarer Kassette zum erleichterten Handling kleiner Proben, passend zur Transferstange in der Analytik-Kammer
Verfahren Administrative Informationen
Frühere Veröffentlichungen zu diesem Verfahren: 2021/S 161-422329
Auftragsvergabe
1️⃣
Vertragsnummer: 1
Titel: Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER
Datum des Vertragsabschlusses: 2022-02-02 📅
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 1
Anzahl der auf elektronischem Wege eingegangenen Angebote: 1
Name und Anschrift des Auftragnehmers
Name: Aurion Anlagentechnik GmbH
Postanschrift: Am Sandborn 14
Postort: Seligenstadt
Postleitzahl: 63500
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: neue_wege@aurion.de📧
Region: Offenbach, Landkreis🏙️
Der Auftragnehmer ist ein KMU ✅ Angaben zum Wert des Auftrags/der Partie (ohne MwSt.)
Gesamtwert des Auftrags/Loses: EUR 0.01 💰
Quelle: OJS 2022/S 031-079258 (2022-02-09)