Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER - E_019_250426

Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf und Gerätewirtschaft C2

E_019_250426 MalOle-bla Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER (Hoch Ionisierte Plasmen zur Schichtabscheidung für Tribo-Anwendungen und Materials Engineering)

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2021-09-15. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2021-08-16.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• Aurion Anlagentechnik GmbH

Wer?

• Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf und Gerätewirtschaft C2

Wie?

• Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke › Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

Wo?

• Freiburg › Freiburg im Breisgau, Stadtkreis
• Oberbayern › München, Kreisfreie Stadt

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2021-08-16	Auftragsbekanntmachung
2022-02-09	Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Auftragsbekanntmachung (2021-08-16)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Referenznummer: E_019_250426
Kurze Beschreibung:

E_019_250426 MalOle-bla Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER (Hoch Ionisierte Plasmen zur Schichtabscheidung für Tribo-Anwendungen und Materials Engineering)

Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Freiburg im Breisgau, Stadtkreis 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf und Gerätewirtschaft C2
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postleitzahl: 80686
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/ 🌏
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de 📧
URL der Dokumente: https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/TenderingProcedureDetails?function=_Details&TenderOID=54321-Tender-17b2ac0ee7b-4ab91fda28e19b58 🌏
URL der Teilnahme: https://vergabe.fraunhofer.de 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2021-08-16 📅
Einreichungsfrist: 2021-09-15 📅
Veröffentlichungsdatum: 2021-08-20 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2021/S 161-422329
ABl. S-Ausgabe: 161

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Kurzbeschreibung

Multifunktionale Beschichtungsanlage mit modernster Quellentechnologie (Arc, HIPIMS, PA-CVD, Ionenquelle). Geforderte Kernkomponenten der Anlage:

-Probenheizer bis 250 °C Substrattemperatur für Precleaning

-PACVD-Beschichtungsquelle

-2 x HiPIMS-Quellen HiPIMS peak current > 1 A/cm²; peak voltage > 1kV; umschaltbar auf HF > 5W/cm² / DC > 6W/cm²;

-Ionenquelle/Ionenätzer zur Substratreinigung und ionengestützter Abscheidung (IBAD)

-1 x ARC-Quelle

-Mindestens 1 Position als 'Reserve', nachrüstbar mit weiterer Quelle

-Heizer an einer Magnetron-Quellenposition, Tmax >= 800 °C am Substrat

-Einlass für Reaktivgase O2, N2, CH4, H2

-Downstream-Druckregelung über Schieberventil

-Prozesskontrolle: glasfaserspektrometrische Beobachtung der Plasmaentladung o.ä., Sichtfenster für optische Beobachtung

-Separate Kammer für Schichtanalytik über Ramananalyse, XPS-Analyse o.Ä. (die Analytik selbst ist nicht Bestandteil der Ausschreibung)

-Umfangreiche Möglichkeiten zum Substrathandling

-Substrat HF-biasfähig, Flächenleistung > 0,5 W/cm²

-Software/Steuerung: Erfassung aller relevanten Prozessparameter (Druck- Leistung, Temperatur, etc.); Erzeugung Datenfiles als Excel o.ä.; grafische Darstellung, Schnittstelle der Steuerung zu z.B. Labview

Dauer: 10 Monate
Beschreibung der Optionen:

I. 2. Heizer im Kammer 2, analog zu erstem Heizer (Pos 32)

II. Rohrmagnetron für eine freie Quellenposition

III. in Kammer 2: aktive Kühlmöglichkeit für Substrat während der Arc-Beschichtung, z.B. über ausfahrbaren Kühlfinger. Kann je nach Anlagenkonzept neben dem vorhandenen Heizer oder im Austausch für den Heizer ausgeführt werden

IV. weitere HiPims-Quelle, dabei beschichtbare Fläche bis zu 350 mm x 350 mm mit Dickenkonstanz ±5%

V. Mimik zum Verfahren der HiPIMS-Quellen zum Einstellen des Abstandes Quelle-Substrat; Verfahrweg mind. 80 mm

VI. Zusätzlich in Kammer 1 eine induktiv gekoppelte, impedanzangepasste PA-CVD Quelle, 13,56 MHz mit wassergekühlter Spule, Leistung > 1000 W

VII. statt Arc-Quelle: filtered arc-Quelle. Dabei können mehrere kleine Quellen zu einer großen Quelle zusammengefasst werden

VIII. Möglichkeit zur Abkopplung von Kammer 3 ohne Vakuumunterbrechung.

IX. Weiteres Chargierfahrzeug für planare oder rotationssymmetrische Substrate

X. Chargierfahrzeug mit herausnehmbarer Kassette zum erleichterten Handling kleiner Proben, passend zur Transferstange in der Analytik-Kammer

Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:

IWM

Wöhlerstraße 11

79108 Freiburg

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:

Direktlink auf Dokument mit Eignungskriterien: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-17b2ac0ee7b-4ab91fda28e19b58

Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:

Direktlink auf Dokument mit Eignungskriterien: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-17b2ac0ee7b-4ab91fda28e19b58

Technische und berufliche Fähigkeiten:

Direktlink auf Dokument mit Eignungskriterien: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-17b2ac0ee7b-4ab91fda28e19b58

Auftragsausführung
Bedingungen für die Vertragserfüllung:

Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen. Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen; deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.

Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 11:00
Datum der Absendung der Aufforderungen: 2021-10-01 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2022-02-03 📅
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): technische Merkmale
Qualitätskriterium (Gewichtung): 65,00
Preis (Gewichtung): 35,00

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Forschung und Entwicklung
Kontakt
Kontaktperson: Einkauf IT, FM, Leasing, Beraterverträge
Dokumente URL: https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/TenderingProcedureDetails?function=_Details&TenderOID=54321-Tender-17b2ac0ee7b-4ab91fda28e19b58 🌏

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB) . Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).

Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postort: München
Postleitzahl: 80686
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de 📧
Internetadresse: https://www.fraunhofer.de 🌏
Quelle: OJS 2021/S 161-422329 (2021-08-16)

Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2022-02-09)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Angebotsart: Entfällt

Referenz
Daten
Absendedatum: 2022-02-09 📅
Veröffentlichungsdatum: 2022-02-14 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2022/S 031-079258
Verweist auf Bekanntmachung: 2021/S 161-422329
ABl. S-Ausgabe: 31

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Kurzbeschreibung Multifunktionale Beschichtungsanlage mit modernster Quellentechnologie (Arc, HIPIMS, PA-CVD, Ionenquelle). Geforderte Kernkomponenten der Anlage: -Probenheizer bis 250 °C Substrattemperatur für Precleaning -PACVD-Beschichtungsquelle -2 x HiPIMS-Quellen HiPIMS peak current > 1 A/cm²; peak voltage > 1kV; umschaltbar auf HF > 5W/cm² / DC > 6W/cm²; -Ionenquelle/Ionenätzer zur Substratreinigung und ionengestützter Abscheidung (IBAD) -1 x ARC-Quelle -Mindestens 1 Position als 'Reserve', nachrüstbar mit weiterer Quelle -Heizer an einer Magnetron-Quellenposition, Tmax >= 800 °C am Substrat -Einlass für Reaktivgase O2, N2, CH4, H2 -Downstream-Druckregelung über Schieberventil -Prozesskontrolle: glasfaserspektrometrische Beobachtung der Plasmaentladung o.ä., Sichtfenster für optische Beobachtung -Separate Kammer für Schichtanalytik über Ramananalyse, XPS-Analyse o.Ä. (die Analytik selbst ist nicht Bestandteil der Ausschreibung) -Umfangreiche Möglichkeiten zum Substrathandling -Substrat HF-biasfähig, Flächenleistung > 0,5 W/cm² -Software/Steuerung: Erfassung aller relevanten Prozessparameter (Druck- Leistung, Temperatur, etc.); Erzeugung Datenfiles als Excel o.ä.; grafische Darstellung, Schnittstelle der Steuerung zu z.B. Labview

Beschreibung der Optionen:

I. 2. Heizer im Kammer 2, analog zu erstem Heizer (Pos 32) II. Rohrmagnetron für eine freie Quellenposition III. in Kammer 2: aktive Kühlmöglichkeit für Substrat während der Arc-Beschichtung, z.B. über ausfahrbaren Kühlfinger. Kann je nach Anlagenkonzept neben dem vorhandenen Heizer oder im Austausch für den Heizer ausgeführt werden IV. weitere HiPims-Quelle, dabei beschichtbare Fläche bis zu 350 mm x 350 mm mit Dickenkonstanz ±5% V. Mimik zum Verfahren der HiPIMS-Quellen zum Einstellen des Abstandes Quelle-Substrat; Verfahrweg mind. 80 mm VI. Zusätzlich in Kammer 1 eine induktiv gekoppelte, impedanzangepasste PA-CVD Quelle, 13,56 MHz mit wassergekühlter Spule, Leistung > 1000 W VII. statt Arc-Quelle: filtered arc-Quelle. Dabei können mehrere kleine Quellen zu einer großen Quelle zusammengefasst werden VIII. Möglichkeit zur Abkopplung von Kammer 3 ohne Vakuumunterbrechung. IX. Weiteres Chargierfahrzeug für planare oder rotationssymmetrische Substrate X. Chargierfahrzeug mit herausnehmbarer Kassette zum erleichterten Handling kleiner Proben, passend zur Transferstange in der Analytik-Kammer

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2022-02-02 📅
Name: Aurion Anlagentechnik GmbH
Postanschrift: Am Sandborn 14
Postort: Seligenstadt
Postleitzahl: 63500
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: neue_wege@aurion.de 📧
Land: Offenbach, Landkreis 🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Quelle: OJS 2022/S 031-079258 (2022-02-09)

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