Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: ICP-RIE plasma etch system - R228340-2270-W
R228340-2270-W
Produkte/Dienstleistungen: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke📦
Kurze Beschreibung: ICP-RIE plasma etch system
1️⃣
Ort der Leistung: München, Kreisfreie Stadt🏙️
Hauptstandort oder Erfüllungsort: EMFT
Hansastraße 27d
80686 München
Beschreibung der Beschaffung:
“1 pc of ICP-RIE plasma etch system with options:
3.7.4 Suitable exhaust silencer for pre-vacuum pump included
3.7.15 Additional vacuum gauge for pressure...”
Beschreibung der Beschaffung
1 pc of ICP-RIE plasma etch system with options:
3.7.4 Suitable exhaust silencer for pre-vacuum pump included
3.7.15 Additional vacuum gauge for pressure measurement in the chamber till atmosphere
3.7.16 Additional vacuum gauge for pressure measurement directly at the pre-vacuum pump (for pre-vacuum monitoring)
3.8.8 Helium backside cooling with included clamping function and controllable helium pressure/flow for wafer up to 200 mm diameter possible
3.8.9 Substrate electrode with widely adjustable temperature range of -150 °C till 350 °C at least
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium, und alle Kriterien werden nur in den Auftragsunterlagen genannt
Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems
Der nachstehende Zeitrahmen ist in Monaten ausgedrückt.
Beschreibung
Dauer: 7
Informationen über Optionen
Optionen ✅
Beschreibung der Optionen:
“3.7.4 Suitable exhaust silencer for pre-vacuum pump included
3.7.15 Additional vacuum gauge for pressure measurement in the chamber till atmosphere
3.7.16...”
Beschreibung der Optionen
3.7.4 Suitable exhaust silencer for pre-vacuum pump included
3.7.15 Additional vacuum gauge for pressure measurement in the chamber till atmosphere
3.7.16 Additional vacuum gauge for pressure measurement directly at the pre-vacuum pump (for pre-vacuum monitoring)
3.8.8 Helium backside cooling with included clamping function and controllable helium pressure/flow for wafer up to 200 mm diameter possible
3.8.9 Substrate electrode with widely adjustable temperature range of -150 °C till 350 °C at least
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Bedingungen für die Teilnahme
Liste und kurze Beschreibung der Bedingungen:
“Directlink to documents with Selection criteria: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-184d1b9385e-60ff39ba2b432e60” Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“Directlink to documents with Selection criteria: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-184d1b9385e-60ff39ba2b432e60” Technische und berufliche Fähigkeiten
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“Directlink to documents with Selection criteria: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-184d1b9385e-60ff39ba2b432e60” Bedingungen für den Vertrag
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
“In the event that subcontractors are used, they must be named and their suitability is likewise to be substantiated on the basis of the listed documents...”
Bedingungen für die Vertragserfüllung
In the event that subcontractors are used, they must be named and their suitability is likewise to be substantiated on the basis of the listed documents under III.1). Furthermore, it must be confirmed that they will be available if the order is placed; their share in the scope of the contractual object must be stated.
Verfahren Art des Verfahrens
Offenes Verfahren
Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2023-01-09
10:00 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Englisch 🗣️
Das Angebot muss gültig sein bis: 2023-03-09 📅
Bedingungen für die Öffnung der Angebote: 2023-01-09
10:00 📅
Bedingungen für die Öffnung der Angebote (Informationen über die befugten Personen und das Öffnungsverfahren): not applicable
Ergänzende Informationen Informationen über elektronische Arbeitsabläufe
Die elektronische Bestellung wird verwendet
Die elektronische Rechnungsstellung wird akzeptiert
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪 Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“A request for review is inadmissible if more than 15 calendar days have passed since the receipt of the notification from the ordering party indicating a...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
A request for review is inadmissible if more than 15 calendar days have passed since the receipt of the notification from the ordering party indicating a lack of willingness to help with the objection (§160 Par. 3 Clause 1 No. 4 GWB [German Act Against Restraints of Competition]). A request for review is additionally inadmissible if the contract has been awarded before the Vergabekammer (procurement review authority) has informed the ordering party of the request for review (§§ 168 Par. 2 Clause 1, 169 Par. 1 GWB). The award of the contract is possible 15 calendar days after the dispatch of the tenderer information pursuant to § 134 Par. 1 GWB. If the information is sent electronically or via fax, this time period is reduced to ten calendar days (§ 134 Par. 2 GWB). The time period begins on the day after the dispatch of the information by the ordering party; the day on which it is received at the concerned tenderer and applicant is not relevant. The admissibility of a request for review furthermore presupposes that a complaint has been made to the ordering party with regard to the asserted procurement violations within 10 days after knowledge was obtained of it (§ 160 Par. 3 Clause 1 No. 1 GWB). Complaints regarding violations of procurement rules that are apparent on the basis of the announcement must be made to the ordering party before the expiration of the time period named in the announcement for the application or for the tendering (§ 160 Par. 3 Clause 1 No. 1 GWB). Complaints regarding violations of procurement rules that do not become apparent until appearing in the award documents must be made to the ordering party no later than by the expiration of the time period for the application or for the tendering (§ 160 Par. 3 Clause 1 No. 1 GWB).
Mehr anzeigen Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de📧
URL: https://www.fraunhofer.de🌏
Quelle: OJS 2022/S 236-681444 (2022-12-02)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2023-02-08) Objekt Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung:
“1 pc of ICP-RIE plasma etch system with options: 3.7.4 Suitable exhaust silencer for pre-vacuum pump included 3.7.15 Additional vacuum gauge for pressure...”
Beschreibung der Beschaffung
1 pc of ICP-RIE plasma etch system with options: 3.7.4 Suitable exhaust silencer for pre-vacuum pump included 3.7.15 Additional vacuum gauge for pressure measurement in the chamber till atmosphere 3.7.16 Additional vacuum gauge for pressure measurement directly at the pre-vacuum pump (for pre-vacuum monitoring) 3.8.8 Helium backside cooling with included clamping function and controllable helium pressure/flow for wafer up to 200 mm diameter possible 3.8.9 Substrate electrode with widely adjustable temperature range of -150 °C till 350 °C at least
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Technische Ausführung
Qualitätskriterium (Gewichtung): 55,00
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Lieferzeit
Qualitätskriterium (Gewichtung): 10,00
Preis (Gewichtung): 35,00
Informationen über Optionen
Beschreibung der Optionen:
“3.7.4 Suitable exhaust silencer for pre-vacuum pump included 3.7.15 Additional vacuum gauge for pressure measurement in the chamber till atmosphere 3.7.16...”
Beschreibung der Optionen
3.7.4 Suitable exhaust silencer for pre-vacuum pump included 3.7.15 Additional vacuum gauge for pressure measurement in the chamber till atmosphere 3.7.16 Additional vacuum gauge for pressure measurement directly at the pre-vacuum pump (for pre-vacuum monitoring) 3.8.8 Helium backside cooling with included clamping function and controllable helium pressure/flow for wafer up to 200 mm diameter possible 3.8.9 Substrate electrode with widely adjustable temperature range of -150 °C till 350 °C at least
Verfahren Administrative Informationen
Frühere Veröffentlichungen zu diesem Verfahren: 2022/S 236-681444
Auftragsvergabe
1️⃣ Informationen über nicht gewährte Zuschüsse
Es sind keine Angebote oder Teilnahmeanträge eingegangen oder alle wurden abgelehnt
Quelle: OJS 2023/S 031-091323 (2023-02-08)