Beschaffung einer hybriden Ultrahochvakuum-Beschichtungsanlage für Sputtern und Bedampfen

Ludwig-Maximilians-Universität München

Das hier beschriebene Vergabeverfahren betrifft die Beschaffung einer kombinierten Anlage zum Abscheiden von dünnen Schichten mittels Magnetron-Sputtern (DC und RF) und/oder Aufdampfen (Elektronenstrahlverdampfen und thermisches Verdampfen) von unterschiedlichen Reinstmetallen, Legierungen, Halbleitern und Isolatoren in Ultrahochvakuum (Restgas-druck p < 5 x 10-9 mbar) für die Erforschung zweidimensionaler Materialien in quantenphysikalischen Experimenten.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2023-11-09. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2023-10-05.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• Bestec GmbH

Wer?

• Ludwig-Maximilians-Universität München

Wie?

• Elektrische Ausrüstung › Maschinen, Apparate und Geräte mit eigener Funktion

Wo?

• Oberbayern › München, Kreisfreie Stadt

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2023-10-05	Auftragsbekanntmachung
2023-11-16	Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Auftragsbekanntmachung (2023-10-05)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Maschinen, Apparate und Geräte mit eigener Funktion
Referenznummer: MQV-UHV-Depo
Kurze Beschreibung:

Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Maschinen, Apparate und Geräte mit eigener Funktion 📦
Zusätzlicher CPV-Code: Maschinen, Apparate und Geräte mit eigener Funktion 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: München, Kreisfreie Stadt 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Einrichtung des öffentlichen Rechts
Name des öffentlichen Auftraggebers: Ludwig-Maximilians-Universität München
Postanschrift: Geschwister-Scholl-Platz 1
Postleitzahl: 80539
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: https://www.physik.lmu.de 🌏
E-Mail: philipp.altpeter@lmu.de 📧
Telefon: +49 8921803733 📞
URL der Dokumente: https://www.deutsche-evergabe.de/dashboards/dashboard_off/02889C17-2B6E-4871-B689-F213E7CDA1F9 🌏
URL der Teilnahme: https://www.deutsche-evergabe.de/dashboards/dashboard_off/02889C17-2B6E-4871-B689-F213E7CDA1F9 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2023-10-05 📅
Einreichungsfrist: 2023-11-09 📅
Veröffentlichungsdatum: 2023-10-10 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2023/S 195-611645
ABl. S-Ausgabe: 195

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Um nanoskalige Strukturen herstellen zu können, kommt das sogenannte Lift-Off-Verfahren zum Einsatz, bei dem die Abscheidung über einen strukturierten Polymerfilm, meist PMMA, erfolgt. Anschließendes Eintauchen in ein geeignetes Lösungsmittel bewirkt das Entfernen des Polymers und das Ablösen des darauf aufgebrachten Materials. Der Teil des abgeschiedenen Materials mit Kontakt zum Substrat bleibt haften.

Um diesen Prozess durchführen zu können, müssen die Beschichtungsquelle und die zu beschichtende Probe so zueinander angeordnet sein, dass die Abscheidung direktional / gerichtet erfolgt und ein Abschatten der Strukturen verhindert wird. Für den Sputter-Prozess bedeutet das eine planare / parallele Anordnung von Target und Substrat. Für das Aufdampfen muss die Probe zentrisch über der Quelle ausgerichtet werden können.

Zur Vermeidung von Quervernetzung der eingesetzten Polymerfilme und zur Reduktion thermischen Stresses muss während des Beschichtungsvorgangs die Substrattemperatur durch Kühlung auf höchstens 50 °C limitiert und muss geregelt werden können.

Für die beiden Verfahren, Sputtern und Bedampfen, sollen zwei verschiedene, auf die spezifischen Anforderungen optimierte Kammern zur Verfügung stehen, die über eine gemeinsame Schleuse miteinander verbunden sind. Damit soll es möglich sein, die Verfahren zu kombinieren ohne das Vakuum zu brechen. Die Kombination dieser Verfahren ist von Interesse, da sie komplementär zueinander eingesetzt werden können. Während sich für Lift-Off-Prozesse das Aufdampfen dank hoher Direktionalität als die vorteilhaftere Methode anbietet, stehen für das Sputtern Materialien zur Verfügung, die sich durch ihren extrem hohen Siedepunkt dem Aufdampfen entziehen (z.B. Gläser und Keramiken) oder Legierungen, deren Bestandteile unterschiedliche Dampfdrücke aufweisen und sich dementsprechend entmischen würden.

Dauer: 12 Monate
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: in den Vergabeunterlagen aufgeführt

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Auftragsausführung
Bedingungen für die Vertragserfüllung: VOL/B in der gültigen Fassung

Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 12:52
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2024-01-08 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2023-11-09 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 12:52

Öffentlicher Auftraggeber
Kontakt
Dokumente URL: https://www.deutsche-evergabe.de/dashboards/dashboard_off/02889C17-2B6E-4871-B689-F213E7CDA1F9 🌏
Internetadresse: https://www.deutsche-evergabe.de 🌏

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Regierung von Oberbayern - Vergabekammer Südbayern
Postanschrift: Maximilianstr. 39
Postort: München
Postleitzahl: 80539
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 8921762411 📞
E-Mail: vergabekammer.suedbayern@reg-ob.bayern.de 📧
Fax: +49 8921762847 📠
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

(1) Etwaige Vergabeverstöße muss der Bewerber/Bieter gemäß § 160 Abs. 3 Nr. 1 GWB innerhalb von 10 Tagen nach Kenntnisnahme rügen.

(2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, sind nach § 160 Abs. 3 Nr. 2 GWB spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Abgabe der Bewerbung oder der Angebote gegenüber dem Auftraggeber zu rügen.

(3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, sind nach § 160 Abs. 3 Nr. 3 GWB spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbungs- oder Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber zu rügen.

(4) Ein Vergabenachprüfungsantrag ist nach § 160 Abs. 3 Nr. 4 GWB innerhalb von 15 Kalendertagen nach der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, bei der Vergabekammer einzureichen.

Quelle: OJS 2023/S 195-611645 (2023-10-05)

Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2023-11-16)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Beschaffung einer hybriden Ultrahochvakuum-Beschichtungsanlage für Sputtern und Bedampfen
Referenznummer: MQV-UHV-Depo
Art des Vertrags: Lieferungen
Produkte/Dienstleistungen: Maschinen, Apparate und Geräte mit eigener Funktion 📦
Beschreibung
Interne Kennung: 0001
Beschreibung der Beschaffung:

Das Abscheiden dünner metallischer Schichten dient der Kontaktierung von gestapelten 2D-Materialien wie Graphen oder Übergangsmetall-Dichalkogeniden (TMD). Andererseits werden solche Filme als Maskenmaterial für nachfolgende Ätzprozesse verwendet. Im Rahmen der Munich Quantum Valley Initiative wird der Lehrstuhl Efetov, Ludwig-Maximilians-Universität München, Fakultät für Physik, eine Vielzahl neuartiger zweidimensionaler Materialien herstellen und diese auf ihre elektrischen, magnetischen, optischen und thermischen Eigenschaften bei tiefsten Temperaturen untersuchen. Um nanoskalige Strukturen herstellen zu können, kommt das sogenannte Lift-Off-Verfahren zum Einsatz, bei dem die Abscheidung über einen strukturierten Polymerfilm, meist PMMA, erfolgt. Anschließendes Eintauchen in ein geeignetes Lösungsmittel bewirkt das Entfernen des Polymers und das Ablösen des darauf aufgebrachten Materials. Der Teil des abgeschiedenen Materials mit Kontakt zum Substrat bleibt haften. Um diesen Prozess durchführen zu können, müssen die Beschichtungsquelle und die zu beschichtende Probe so zueinander angeordnet sein, dass die Abscheidung direktional / gerichtet erfolgt und ein Abschatten der Strukturen verhindert wird. Für den Sputter-Prozess bedeutet das eine planare / parallele Anordnung von Target und Substrat. Für das Aufdampfen muss die Probe zentrisch über der Quelle ausgerichtet werden können. Zur Vermeidung von Quervernetzung der eingesetzten Polymerfilme und zur Reduktion thermischen Stresses muss während des Beschichtungsvorgangs die Substrattemperatur durch Kühlung auf höchstens 50 °C limitiert und muss geregelt werden können. Für die beiden Verfahren, Sputtern und Bedampfen, sollen zwei verschiedene, auf die spezifischen Anforderungen optimierte Kammern zur Verfügung stehen, die über eine gemeinsame Schleuse miteinander verbunden sind. Damit soll es möglich sein, die Verfahren zu kombinieren ohne das Vakuum zu brechen. Die Kombination dieser Verfahren ist von Interesse, da sie komplementär zueinander eingesetzt werden können. Während sich für Lift-Off-Prozesse das Aufdampfen dank hoher Direktionalität als die vorteilhaftere Methode anbietet, stehen für das Sputtern Materialien zur Verfügung, die sich durch ihren extrem hohen Siedepunkt dem Aufdampfen entziehen (z.B. Gläser und Keramiken) oder Legierungen, deren Bestandteile unterschiedliche Dampfdrücke aufweisen und sich dementsprechend entmischen würden.

Beschreibung der Beschaffung

Das Abscheiden dünner metallischer Schichten dient der Kontaktierung von gestapelten 2D-Materialien wie Graphen oder Übergangsmetall-Dichalkogeniden (TMD). Andererseits werden solche Filme als Maskenmaterial für nachfolgende Ätzprozesse verwendet. Im Rahmen der Munich Quantum Valley Initiative wird der Lehrstuhl Efetov, Ludwig-Maximilians-Universität München, Fakultät für Physik, eine Vielzahl neuartiger zweidimensionaler Materialien herstellen und diese auf ihre elektrischen, magnetischen, optischen und thermischen Eigenschaften bei tiefsten Temperaturen untersuchen.
Um nanoskalige Strukturen herstellen zu können, kommt das sogenannte Lift-Off-Verfahren zum Einsatz, bei dem die Abscheidung über einen strukturierten Polymerfilm, meist PMMA, erfolgt. Anschließendes Eintauchen in ein geeignetes Lösungsmittel bewirkt das Entfernen des Polymers und das Ablösen des darauf aufgebrachten Materials. Der Teil des abgeschiedenen Materials mit Kontakt zum Substrat bleibt haften.
Um diesen Prozess durchführen zu können, müssen die Beschichtungsquelle und die zu beschichtende Probe so zueinander angeordnet sein, dass die Abscheidung direktional / gerichtet erfolgt und ein Abschatten der Strukturen verhindert wird. Für den Sputter-Prozess bedeutet das eine planare / parallele Anordnung von Target und Substrat. Für das Aufdampfen muss die Probe zentrisch über der Quelle ausgerichtet werden können.
Zur Vermeidung von Quervernetzung der eingesetzten Polymerfilme und zur Reduktion thermischen Stresses muss während des Beschichtungsvorgangs die Substrattemperatur durch Kühlung auf höchstens 50 °C limitiert und muss geregelt werden können.
Für die beiden Verfahren, Sputtern und Bedampfen, sollen zwei verschiedene, auf die spezifischen Anforderungen optimierte Kammern zur Verfügung stehen, die über eine gemeinsame Schleuse miteinander verbunden sind. Damit soll es möglich sein, die Verfahren zu kombinieren ohne das Vakuum zu brechen. Die Kombination dieser Verfahren ist von Interesse, da sie komplementär zueinander eingesetzt werden können. Während sich für Lift-Off-Prozesse das Aufdampfen dank hoher Direktionalität als die vorteilhaftere Methode anbietet, stehen für das Sputtern Materialien zur Verfügung, die sich durch ihren extrem hohen Siedepunkt dem Aufdampfen entziehen (z.B. Gläser und Keramiken) oder Legierungen, deren Bestandteile unterschiedliche Dampfdrücke aufweisen und sich dementsprechend entmischen würden.

Land: Deutschland 🇩🇪
Ort der Leistung: München, Kreisfreie Stadt 🏙️
Vergabekriterien
Preis ✅
Titel
Los-Identifikationsnummer: LOT-0001

Verfahren
Art des Verfahrens
Offenes Verfahren ✅
Rechtsgrundlage: Richtlinie 2014/24/EU

Auftragsvergabe
Ein Auftrag/Los wird vergeben ✅
Los-Identifikationsnummer: LOT-0001
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Anzahl der auf elektronischem Wege eingegangenen Angebote: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 0
Angaben zum Wert des Auftrags/der Partie (ohne MwSt.)
Gesamtwert des Auftrags/Loses: 735 000 EUR 💰
Kennung des Angebots: Hauptleistungsbereich
Kennung des Loses oder der Gruppe von Losen: LOT-0001
Name und Anschrift des Auftragnehmers
Name: BESTEC GmbH
Nationale Registrierungsnummer: DE137202757
Postleitzahl: 12489
Postort: Berlin
Region: Berlin 🏙️
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: info@bestec.de 📧
Telefon: 0306774376 📞
Größe des Wirtschaftsteilnehmers: Kleines Unternehmen

Öffentlicher Auftraggeber
Name und Adressen
Name: Ludwig-Maximilians-Universität München
Nationale Registrierungsnummer: 13316
Postanschrift: Geschwister-Scholl-Platz 1
Postleitzahl: 80539
Postort: München
Region: München, Kreisfreie Stadt 🏙️
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: philipp.altpeter@lmu.de 📧
Telefon: +49 8921803733 📞
URL: https://www.physik.lmu.de 🌏
Adresse des Käuferprofils: https://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Art des öffentlichen Auftraggebers
Einrichtung des öffentlichen Rechts
Haupttätigkeit
Bildung

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Nationale Registrierungsnummer: c3a9e2eb-9cb1-4247-8a00-77bad8c4d19e
Region: München, Kreisfreie Stadt 🏙️
Quelle: OJS 2023/S 222-701343 (2023-11-16)

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