Das hier beschriebene Vergabeverfahren betrifft die Beschaffung einer kombinierten Anlage zum Abscheiden von dünnen Schichten mittels Magnetron-Sputtern (DC und RF) und/oder Aufdampfen (Elektronenstrahlverdampfen und thermisches Verdampfen) von unterschiedlichen Reinstmetallen, Legierungen, Halbleitern und Isolatoren in Ultrahochvakuum (Restgas-druck p < 5 x 10-9 mbar) für die Erforschung zweidimensionaler Materialien in quantenphysikalischen Experimenten.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2023-11-09.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2023-10-05.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Auftragsbekanntmachung (2023-10-05) Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Maschinen, Apparate und Geräte mit eigener Funktion
Referenznummer: MQV-UHV-Depo
Kurze Beschreibung:
“Das hier beschriebene Vergabeverfahren betrifft die Beschaffung einer kombinierten Anlage zum Abscheiden von dünnen Schichten mittels Magnetron-Sputtern (DC...”
Kurze Beschreibung
Das hier beschriebene Vergabeverfahren betrifft die Beschaffung einer kombinierten Anlage zum Abscheiden von dünnen Schichten mittels Magnetron-Sputtern (DC und RF) und/oder Aufdampfen (Elektronenstrahlverdampfen und thermisches Verdampfen) von unterschiedlichen Reinstmetallen, Legierungen, Halbleitern und Isolatoren in Ultrahochvakuum (Restgas-druck p < 5 x 10-9 mbar) für die Erforschung zweidimensionaler Materialien in quantenphysikalischen Experimenten.
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2023-11-16) Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Beschaffung einer hybriden Ultrahochvakuum-Beschichtungsanlage für Sputtern und Bedampfen
Art des Vertrags: Lieferungen
Produkte/Dienstleistungen: Maschinen, Apparate und Geräte mit eigener Funktion📦 Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung:
“Das Abscheiden dünner metallischer Schichten dient der Kontaktierung von gestapelten 2D-Materialien wie Graphen oder Übergangsmetall-Dichalkogeniden (TMD)....”
Beschreibung der Beschaffung
Das Abscheiden dünner metallischer Schichten dient der Kontaktierung von gestapelten 2D-Materialien wie Graphen oder Übergangsmetall-Dichalkogeniden (TMD). Andererseits werden solche Filme als Maskenmaterial für nachfolgende Ätzprozesse verwendet. Im Rahmen der Munich Quantum Valley Initiative wird der Lehrstuhl Efetov, Ludwig-Maximilians-Universität München, Fakultät für Physik, eine Vielzahl neuartiger zweidimensionaler Materialien herstellen und diese auf ihre elektrischen, magnetischen, optischen und thermischen Eigenschaften bei tiefsten Temperaturen untersuchen.
Um nanoskalige Strukturen herstellen zu können, kommt das sogenannte Lift-Off-Verfahren zum Einsatz, bei dem die Abscheidung über einen strukturierten Polymerfilm, meist PMMA, erfolgt. Anschließendes Eintauchen in ein geeignetes Lösungsmittel bewirkt das Entfernen des Polymers und das Ablösen des darauf aufgebrachten Materials. Der Teil des abgeschiedenen Materials mit Kontakt zum Substrat bleibt haften.
Um diesen Prozess durchführen zu können, müssen die Beschichtungsquelle und die zu beschichtende Probe so zueinander angeordnet sein, dass die Abscheidung direktional / gerichtet erfolgt und ein Abschatten der Strukturen verhindert wird. Für den Sputter-Prozess bedeutet das eine planare / parallele Anordnung von Target und Substrat. Für das Aufdampfen muss die Probe zentrisch über der Quelle ausgerichtet werden können.
Zur Vermeidung von Quervernetzung der eingesetzten Polymerfilme und zur Reduktion thermischen Stresses muss während des Beschichtungsvorgangs die Substrattemperatur durch Kühlung auf höchstens 50 °C limitiert und muss geregelt werden können.
Für die beiden Verfahren, Sputtern und Bedampfen, sollen zwei verschiedene, auf die spezifischen Anforderungen optimierte Kammern zur Verfügung stehen, die über eine gemeinsame Schleuse miteinander verbunden sind. Damit soll es möglich sein, die Verfahren zu kombinieren ohne das Vakuum zu brechen. Die Kombination dieser Verfahren ist von Interesse, da sie komplementär zueinander eingesetzt werden können. Während sich für Lift-Off-Prozesse das Aufdampfen dank hoher Direktionalität als die vorteilhaftere Methode anbietet, stehen für das Sputtern Materialien zur Verfügung, die sich durch ihren extrem hohen Siedepunkt dem Aufdampfen entziehen (z.B. Gläser und Keramiken) oder Legierungen, deren Bestandteile unterschiedliche Dampfdrücke aufweisen und sich dementsprechend entmischen würden.
Auftragsvergabe
Ein Auftrag/Los wird vergeben ✅
Los-Identifikationsnummer: LOT-0001
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Anzahl der auf elektronischem Wege eingegangenen Angebote: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 0
Angaben zum Wert des Auftrags/der Partie (ohne MwSt.)
Gesamtwert des Auftrags/Loses: 735 000 EUR 💰
Name und Anschrift des Auftragnehmers
Name: BESTEC GmbH
Nationale Registrierungsnummer: DE137202757
Postleitzahl: 12489
Postort: Berlin
Region: Berlin🏙️
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: info@bestec.de📧
Telefon: 0306774376📞
Öffentlicher Auftraggeber Name und Adressen
Name: Ludwig-Maximilians-Universität München
Nationale Registrierungsnummer: 13316
Postanschrift: Geschwister-Scholl-Platz 1
Postleitzahl: 80539
Postort: München
Region: München, Kreisfreie Stadt🏙️
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: philipp.altpeter@lmu.de📧
Telefon: +49 8921803733📞
URL: https://www.physik.lmu.de🌏
Adresse des Käuferprofils: https://www.deutsche-evergabe.de🌏 Art des öffentlichen Auftraggebers
Einrichtung des öffentlichen Rechts
Haupttätigkeit
Bildung
Ergänzende Informationen Körper überprüfen
Name: Regierung von Oberbayern - Vergabekammer Südbayern
Nationale Registrierungsnummer: c3a9e2eb-9cb1-4247-8a00-77bad8c4d19e
Postanschrift: Maximilianstr. 39
Postleitzahl: 80539
Postort: München
Region: München, Kreisfreie Stadt🏙️
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: vergabekammer.suedbayern@reg-ob.bayern.de📧
Telefon: +49 8921762411📞
Quelle: OJS 2023/S 222-701343 (2023-11-16)