Dual Beam Focused Ion Beam System (FIB) und Transmissionselektronenmikroskop (TEM)

Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH

Los1: DualBeam Focused Ion Beam Systems (FIB) Gegenstand ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines DualBeam Focused Ion Beam Systems (FIB) einschließlich Einweisung/Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Die technischen Mindestanforderungen und Bewertungsaspekte ergeben sich aus den Dokumenten "Los1.25-1696.05.techn.Anforderungsprofil" und "Los1.25-1696.06.Wertungsmatrix". Los2: Transmissionselektronenmikroskop (TEM) Gegenstand ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines Transmissionselektronenmikroskops (TEM) einschließlich Einweisung/Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Die technischen Mindestanforderungen und Bewertungsaspekte ergeben sich aus den Dokumenten "Los2.25-1707.05.techn.Anforderungsprofil" und "Los2.25-1707.06.Wertungsmatrix".

Deadline

Deadline 2026-08-17

Wer? Wie? Wo?
Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2026-07-15 Auftragsbekanntmachung
Auftragsbekanntmachung (2026-07-15)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Dual Beam Focused Ion Beam System (FIB) und Transmissionselektronenmikroskop (TEM)
Referenznummer: 25-1696-1707
Kurze Beschreibung:
Los1: DualBeam Focused Ion Beam Systems (FIB) Gegenstand ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines DualBeam Focused Ion Beam Systems (FIB) einschließlich Einweisung/Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Die technischen Mindestanforderungen und Bewertungsaspekte ergeben sich aus den Dokumenten "Los1.25-1696.05.techn.Anforderungsprofil" und "Los1.25-1696.06.Wertungsmatrix". Los2: Transmissionselektronenmikroskop (TEM) Gegenstand ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines Transmissionselektronenmikroskops (TEM) einschließlich Einweisung/Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Die technischen Mindestanforderungen und Bewertungsaspekte ergeben sich aus den Dokumenten "Los2.25-1707.05.techn.Anforderungsprofil" und "Los2.25-1707.06.Wertungsmatrix".
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Art des Vertrags: Lieferungen
Produkte/Dienstleistungen: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) 📦
Informationen über Lose
Dieser Vertrag ist in Lose unterteilt
Höchstzahl der Lose, die an einen Bieter vergeben werden können: 2
Angebote können für eine maximale Anzahl von Losen eingereicht werden: 2

1️⃣
Interne Kennung: 1
Titel: Dual Beam Focused Ion Beam System (FIB)
Beschreibung der Beschaffung:
Ziel dieses Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines Dual-Beam-FIB/REM-Systems (Focused Ion Beam / Rasterelektronenmikroskop) einschließlich analytischer Detektorsysteme, Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Das System dient primär der präzisen Probenpräparation (u.a. TEM-Lamellen, APT-Spitzen, Querschnitte und Defektfreilegungen) und sekundär der hochauflösenden bildgebenden, chemischen und strukturellen Charakterisierung (SEM, EDX, STEM, EBSD) im selben System. Das Gerät wird als zentrale Präparations- und Analyseplattform für wissenschaftliche Forschungsprojekte eingesetzt. Typische Anwendungen umfassen u. a. Batterie- und Elektrodenmaterialien, Wasserstoffspeichermaterialien, katalytische Schichten, Metalle/Legierungen, keramische Werkstoffe, Halbleiter, Beschichtungen und Multilayer-Systeme. Ein besonderer Schwerpunkt liegt auf: - reproduzierbarer, möglichst automatisierter TEM-Lamellen- und APT-Präparation (Lift-Out, Thinning, Polishing) - 3D-Analytik (Serienschliff/Tomographie) mit quantitativer Auswertung - hochaufgelöster Abbildung in verschiedenen SEM-Modi incl. Ioneninduzierter Sekundärionen sowie korrelierter Bildgebung während der Bearbeitung - chemischer Analytik mittels EDX und kristallographischer Analytik mittels EBSD Darüber hinaus ist eine strukturierte Erfassung und Exportfähigkeit von Messdaten und Metadaten in gängige, nicht-proprietäre Formate erforderlich, um Anforderungen an Nachvollziehbarkeit, Langzeitverfügbarkeit und Forschungsdatenmanagement (FAIR-Prinzipien) zu erfüllen. Das System muss die präzise Probenpräparation und -strukturierung mittels Ionenstrahl sowie die begleitende und nachfolgende Abbildung und Analytik mittels SEM und anderen Detektorsystemen ermöglichen. Ziel ist die reproduzierbare Präparation von Proben für TEM und APT sowie die Durchführung von 2D/3D-Analysen (Bildgebung (SE, STEM), EDX, EBSD) einschließlich vollständiger Dokumentation der Bearbeitungs- und Messparameter. Folgende Kernfunktionen sind zwingend bereitzustellen: 1. Materialabtrag/Strukturierung (manuell und automatisiert) mit definierbaren Pattern- und Rezeptfunktionen. 2. TEM-Lamellenpräparation inkl. In-situ Lift-Out, Thinning und abschließender Feinpolitur. 3. APT-Spitzenpräparation (Needle Milling) inkl. reproduzierbarer Geometrie. 4. Korrelierte Echtzeit-Bildgebung im SEM während der FIB-Bearbeitung (Navigation/Endpunktkontrolle). 5. Chemische Analytik mittels EDX sowie kristallographische Analytik mittels EBSD (Punkt, Linie, Mapping). 6. 3D-Workflows (Serienschliff/Tomographie) mit dokumentierter Rekonstruktion bzw. Export der Datensätze. 7. Workflow und Datenmanagement: eindeutige Zuordnung von Bearbeitungs-/Messdaten, Parametern und Metadaten; Export in nicht proprietäre Formate.
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Land: Deutschland 🇩🇪
Ort der Leistung: Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt 🏙️
Vergabekriterien
Preis
Preis (Gewichtung): 50.0
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Technik (Angebote auf Einzellose bzw. Kombinationsangebote)
Qualitätskriterium (Gewichtung): 50.0
Titel
Los-Identifikationsnummer: LOT-0001

2️⃣
Interne Kennung: 2
Titel: Transmissionselektronenmikroskop (TEM)
Beschreibung der Beschaffung:
Gegenstand des Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines aberrationskorrigierten 200 kV Transmissionselektronenmikroskops (S/TEM) einschließlich analytischer Detektorsysteme, Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Das System dient als zentrale Analyseplattform für die hochauflösende strukturelle, chemische und elektronische Charakterisierung von Materialien auf atomarer und nanometergenauer Skala. Es wird sowohl für industrielle Auftragsanalytik als auch für wissenschaftliche Forschungsprojekte eingesetzt. Im Institut werden Materialien mit stark variierenden Eigenschaften untersucht, insbesondere Metalle, Legierungen, keramische Werkstoffe, Halbleiter, Beschichtungen, funktionale Schichtsysteme sowie nanostrukturierte Materialien. Die Proben unterscheiden sich hinsichtlich Geometrie, Stabilität gegenüber Elektronenstrahlbelastung sowie analytischer Fragestellungen. Ein besonderer Schwerpunkt liegt auf: - hochauflösender Abbildung bis in den atomaren Bereich - chemischer Analytik mittels EDX und EELS - Untersuchung von Grenzflächen und Defekten - Untersuchung magnetischer und funktionaler Materialien - reproduzierbaren Messungen über Probenserien hinweg Darüber hinaus ist eine strukturierte Erfassung und Exportfähigkeit von Messdaten und Metadaten in gängige, nicht-proprietäre Formate erforderlich, um Anforderungen an Nachvollziehbarkeit, Langzeitverfügbarkeit und Forschungsdatenmanagement (FAIR-Prinzipien) zu erfüllen. Das System muss die hochauflösende strukturelle, chemische und elektronische Analyse von festen, elektronenstrahlstabilen Proben im Transmissionselektronenmikroskopie- und Raster-Transmissionselektronenmikroskopie-Modus ermöglichen. Hierzu muss es eine präzise Elektronenoptik, stabile Betriebsbedingungen sowie integrierte analytische Detektionssysteme bereitstellen. Ziel ist die Untersuchung von Materialien bis in den atomaren Maßstab sowie die quantitative und qualitative Analyse von Struktur, Zusammensetzung und elektronischen Eigenschaften. Folgende Kernfunktionen sind zwingend bereitzustellen: 1. Hochauflösende Abbildung (TEM und STEM): - Abbildung von Kristallstrukturen, Defekten, Grenzflächen und Nanostrukturen mit atomarer bzw. sub-nanometergenauer Auflösung. - Betrieb sowohl im konventionellen TEM- als auch im STEM-Modus. - Flexible Wahl geeigneter Abbildungsmodi (z. B. Bright Field, Dark Field, HAADF, ABF, Oberflächenbildgebung mit topografieabhängigem Kontrast). 2. Chemische und spektroskopische Analytik: - Elementanalytik mittels energiedispersiver Röntgenspektroskopie (EDX). - Analyse elektronischer und chemischer Zustände mittels Elektronenenergieverlustspektroskopie (EELS). - Durchführung von Punktanalysen, Linienprofilen sowie zweidimensionalem Mapping. 3. Untersuchung von Grenzflächen und Defekten: - Analyse von Phasengrenzen, Ausscheidungen, Korngrenzen und strukturellen Inhomogenitäten. - Untersuchung lokaler chemischer Variationen auf nanoskaliger Ebene. 4. Untersuchung funktionaler und magnetischer Materialien: - Möglichkeit zur magnetfeldfreien oder feldarmen Abbildung (z. B. Lorentz-Modus oder funktional gleichwertig), soweit erforderlich. 5. Automatisierter und reproduzierbarer Betrieb: - Reproduzierbare Einstellung von Messparametern und Speicherung von Messabläufen. - Unterstützung automatisierter Messreihen und Mapping-Experimente. 6. Workflow und Datenmanagement: - Eindeutige Zuordnung von Messdaten, Parametern und Metadaten. - Möglichkeit zur späteren Reproduktion von Messbedingungen. 7. Integration aller Detektoren und Betriebsmodi in eine konsistente Bedienumgebung.
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Titel
Los-Identifikationsnummer: LOT-0002

Verfahren
Art des Verfahrens
Offenes Verfahren
Rechtsgrundlage: Richtlinie 2014/24/EU
Zentrale Elemente des Verfahrens:
Die Vergabe erfolgt in zwei Losen (Los 1: FIB, Los 2: TEM). Bieter, die Angebote für beide Lose abgeben, können zusätzlich ein Gesamtangebot (Kombinationsangebot) einreichen. Das Kombinationsangebot muss auf den angebotenen Einzel-Angeboten zu beiden Losen basieren; der Leistungsumfang des Kombinationsangebotes muss den Leistungsumfängen der Angebote auf die Einzellose entsprechen. Das Kombinationsangebot ist zusätzlich zu den losweisen Angeboten einzureichen und muss: - einen gesonderten Gesamtpreis für beide Lose (unter Berücksichtigung etwaiger Preisvorteile, z. B. Rabatte), sowie - eine Darstellung eines etwaigen losübergreifenden wissenschaftlichen, technischen, funktionalen oder organisatorischen Mehrwerts einer gemeinsamen Präparations- und Analytikplattform enthalten. Etwaige Preisvorteile werden ausschließlich im Zuschlagskriterium "Preis" berücksichtigt. Ein losübergreifender Mehrwert wird ausschließlich im Zuschlagskriterium "Technik" bewertet und setzt voraus, dass dieser über die Bewertung der Einzellose hinausgeht und sich aus dem Zusammenwirken beider Systeme ergibt. Die Bewertung der Kombinationsangebote erfolgt nach denselben Zuschlagskriterien. Zusätzlich werden losübergreifende Aspekte wie die vollständige wissenschaftliche Prozesskette einer Probe - von der Präparation im FIB über den qualitätserhaltenden Probentransfer und die korrelative Untersuchung im TEM bis hin zum gemeinsamen Datenmanagement und der nachvollziehbaren Dokumentation der Untersuchungsergebnisse berücksichtigt. Der Auftraggeber behält sich vor, den Zuschlag entweder losweise oder losübergreifend zu erteilen.
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Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2026-08-17 23:59:00 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Mindestzeitraum, in dem der Bieter das Angebot aufrechterhalten muss: 77 Tage
Bedingungen für die Einreichung eines Angebots
Die Bieter können mehrere Angebote einreichen
Elektronische Rechnungsstellung: Zulässig
Frist für die Anforderung zusätzlicher Informationen: 2026-08-10 23:59:59 📅
Zusätzliche Informationen:
Die Vergabestelle behält sich vor, fehlende Angaben und Erklärungen nachzufordern. Ein Anspruch der Bieter besteht nicht (§ 56 VgV). Angebote, die nicht die geforderten oder gegebenenfalls nachgeforderten Erklärungen und Nachweise enthalten, werden nach § 57 Abs. 1 Nr. 2 VgV ausgeschlossen.
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Vergabekriterien
Gewichtungsart: Gewichtung (Prozentanteil, genau)

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Eignungskriterium: Referenzen zu bestimmten Lieferungen
Liste und kurze Beschreibung der Regeln und Kriterien:
Eignungskriterium ist die Vorlage von 3 Referenzen zu vergleichbaren Installationen. Bei Angeboten für ein Los sind Referenzen für vergleichbare Systeme des jeweiligen Loses vorzulegen. Bei Angeboten für beide Lose können Referenzen für beide Systemtypen oder vergleichbare integrierte Systeme eingereicht werden. Als vergleichbare Referenzen gelten erfolgreich durchgeführte Liefer-, Installations- und Inbetriebnahmeprojekte von Systemen, die in Art, Funktion und Komplexität dem jeweils angebotenen Los entsprechen (Los 1: DualBeam FIB bzw. vergleichbare FIB/SEM-Systeme; Los 2: TEM bzw. vergleichbare Elektronenmikroskope). Die Referenzen müssen den vollständigen Leistungsumfang (Lieferung, Installation, Inbetriebnahme, betriebsbereite Übergabe sowie Einweisung) umfassen und in einem wissenschaftlichen oder industriellen High-Tech-Umfeld erbracht worden sein. Sie dürfen zum Zeitpunkt des Ablaufs der Angebotsfrist nicht älter als drei Jahre sein.
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Ausschlussgrund:
Beteiligung an einer kriminellen Vereinigung
Betrug
Der Zahlungsunfähigkeit vergleichbare Lage gemäß nationaler Rechtsvorschriften
+ 19 weitere
Direkte oder indirekte Beteiligung an der Vorbereitung des Vergabeverfahrens
Einstellung der gewerblichen Tätigkeit
Geldwäsche oder Terrorismusfinanzierung
Interessenkonflikt aufgrund seiner Teilnahme an dem Vergabeverfahren
Kinderarbeit und andere Formen des Menschenhandels
Korruption
Schwerwiegendes berufliches Fehlverhalten
Terroristische Straftaten oder Straftaten im Zusammenhang mit terroristischen Aktivitäten
Täuschung, Zurückhaltung von Informationen, Unfähigkeit zur Vorlage erforderlicher Unterlagen oder Erlangung vertraulicher Informationen zu dem Verfahren
Vereinbarungen mit anderen Wirtschaftsteilnehmern zur Verzerrung des Wettbewerbs
Verstoß gegen arbeitsrechtliche Verpflichtungen
Verstoß gegen die in den rein innerstaatlichen Ausschlussgründen verankerten Verpflichtungen
Verstoß gegen die Verpflichtung zur Entrichtung von Sozialversicherungsbeiträgen
Verstoß gegen die Verpflichtung zur Entrichtung von Steuern
Verstoß gegen sozialrechtliche Verpflichtungen
Verstoß gegen umweltrechtliche Verpflichtungen
Verwaltung der Vermögenswerte durch einen Insolvenzverwalter
Vorzeitige Beendigung, Schadensersatz oder andere vergleichbare Sanktionen
Zahlungsunfähigkeit

Öffentlicher Auftraggeber
Name und Adressen
Name: Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH
Nationale Registrierungsnummer: UStID DE148647541
Postanschrift: Trippstadter Straße 120
Postleitzahl: 67663
Postort: Kaiserslautern
Region: Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt 🏙️
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: wahl@ifos.uni-kl.de 📧
Telefon: +49 631205730 📞
Art des öffentlichen Auftraggebers
Einrichtung des öffentlichen Rechts
Haupttätigkeit
Bildung
Kommunikation
Dokumente URL: https://www.dtvp.de/Satellite/notice/CXP4DNMMUBY/documents 🌏
Teilnahme-URL: https://www.dtvp.de/Satellite/notice/CXP4DNMMUBY 🌏
URL des Beschaffungsinstruments: https://www.dtvp.de/Satellite/notice/CXP4DNMMUBY 🌏
Elektronische Einreichung: Erforderlich

Ergänzende Informationen
Zusätzliche Informationen
#Bekanntmachungs-ID: CXP4DNMMUBY#
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer Rheinland-Pfalz, c/o Ministerium für Wirtschaft, Tourismus, Energie und Klima
Nationale Registrierungsnummer: 07-0001801100000-05
Postanschrift: Stiftsstraße 9
Postleitzahl: 55116
Postort: Mainz
Region: Mainz, Kreisfreie Stadt 🏙️
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: vergabekammer.rlp@mwvlw.rlp.de 📧
Telefon: +49 6131162234 📞
Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein. Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse an dem öffentlichen Auftrag oder der Konzession hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Abs. 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht. Der Antrag ist unzulässig, soweit - der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von zehn Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Abs. 2 GWB bleibt unberührt, - Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden, - Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden, - mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind. Satz 1 gilt nicht bei einem Antrag auf Feststellung der Unwirksamkeit des Vertrags nach § 135 Abs. 1 Nr. 2 GWB. § 134 Abs. 1 Satz 2 GWB bleibt unberührt.
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Informationen über elektronische Arbeitsabläufe
Die elektronische Rechnungsstellung wird akzeptiert
Bekanntmachungsangaben
Bevorzugtes Datum der Veröffentlichung: 2026-07-15+02:00 📅
Quelle: OJS 2026/S 136-497413 (2026-07-15)