Instrumente zum Prüfen von physikalischen Eigenschaften

Helmholtz-Zentrum-Berlin für Materialien und Energie GmbH

Sputteranlagen. Sputteranlage zur Herstellung von Rückkontakten für Dünnschicht Si-Solarmodule. Eine voll funktionsfähige Sputteranlage mit 3 Katodenplätzen für die Deposition von Rückkontakten für Dünnschicht Si-Solarmodule. Die Anlage wird integriert in eine Referenzlinie zur Herstellung von Solarmodulen einer Größe von 30 x 30 cm2 am PVcomB. Der Aufbau muss folgende Eigenschaften aufweisen: — Geeignet zur Beschichtung von Glassubstraten einer Größe von bis zu 30 x 30 cm2 mit einer Dicke von bis zu 4 mm, — 2 planare Sputterkatoden für DC-Prozesse (Metalle), — 1 Rohrkatode mit der Möglichkeit einer Reaktivgaszugabe zur Deposition von Zinkoxid, — Schichtdickenhomogenität besser 5 % für alle Einzelprozesse auf 30 x 30 cm2 Substraten, — Durchsatz von mindestens 10 Substraten (30 x 30 cm2) in 200 Minuten bei der Beschichtung mit 70 nm ZnO und 250 nm Metall. Sputteranlage zur Herstellung von Precursorschichten. Eine voll funktionsfähige Sputteranlage mit 6 Katodenplätzen für die Deposition von Barriere- und Metallschichten für CIGSe-Solarmodule. Die Anlage wird integriert in eine Referenzlinie zur Herstellung von Solarmodulen einer Größe von 30 x 30 cm2 am PVcomB. Der Aufbau muss folgende Eigenschaften aufweisen: — Geeignet zur Beschichtung von Glassubstraten einer Größe von bis zu 30 x 30 cm2 mit einer Dicke von bis zu 4 mm, — 1 Doppelkatode zur Herstellung von Barriereschichten (Oxynitride) mittels reaktivem Magnetronsputtern, — 2 planare Sputterkatoden mit der Möglichkeit zur Reaktivgaszugabe zur Deposition von Molybdän, — 2 planare Sputterkatoden mit Gasseparation zur restlichen Anlage und Schutz vor gegenseitiger Beschichtung zur Deposition von Kupfer-Gallium und Indium, — Schichtdickenhomogenität besser 5 % für alle Einzelprozesse auf 30 x 30 cm2 Substraten, — Vertikale Anordnung von Katoden und Substrat, — Durchsatz von mindestens 8 Substraten (30 x 30 cm2) bei der Beschichtung mit 200 nm SiOxNy und 500 nm Mo sowie 8 Substraten (30 x 30 cm2) bei der Beschichtung mit 500 nm CuGa und 300 nm In in 8 Stunden.

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2010-12-01. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2010-11-16.

• • Helmholtz-Zentrum-Berlin für Materialien und Energie GmbH

• • Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) › Instrumente zum Prüfen von physikalischen Eigenschaften

• • Berlin › Berlin