Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)

Helmholtz-Zentrum-Berlin für Materialien und Energie GmbH

Bezeichnung des Auftrags durch den Auftraggeber: Metallesierungsanlagen. Auf dampf / Spatteranlage. Anschaffung einer Hochvakuum-Metallisierungsanlage mit frontseitiger Tür, trockenem Pumpsystem, Elekronenstrahlverdampfer und Schichtdickenmonitor, Substrat beheizbar. Geeignet für 4 Substrate 10 x 10 cm² die ca. 30 cm von den Quellen entfernt sein sollen. Thermische Verdampfer, Substrat-Beglimmung sollen nachrüstbar sein und als Option angeboten werden. Metallisierungsanlage / PVD System. Anschaffung einer Hochvakuum-Metallisierungsanlage mit frontseitiger Tür, trockenem Pumpsystem, mit drei Schiffchen und Schichtdickenmonitor, Substrat beheizbar. Geeignet für runde Substrate (Durchmesser 8 cm) die ca. 30 cm von den Quellen entfernt sein sollen. Eine Sputterquelle (RF-Magnetron) soll nachrüstbar sein und als Option angeboten werden.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2008-11-14. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2008-10-04.

Wer? Wie? Wo?
Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2008-09-23 Auftragsbekanntmachung
Auftragsbekanntmachung (2008-09-23)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Volltext:
Bezeichnung des Auftrags durch den Auftraggeber: Metallesierungsanlagen. Auf dampf / Spatteranlage. Anschaffung einer Hochvakuum-Metallisierungsanlage mit frontseitiger Tür, trockenem Pumpsystem, Elekronenstrahlverdampfer und Schichtdickenmonitor, Substrat beheizbar. Geeignet für 4 Substrate 10 x 10 cm² die ca. 30 cm von den Quellen entfernt sein sollen. Thermische Verdampfer, Substrat-Beglimmung sollen nachrüstbar sein und als Option angeboten werden. Metallisierungsanlage / PVD System. Anschaffung einer Hochvakuum-Metallisierungsanlage mit frontseitiger Tür, trockenem Pumpsystem, mit drei Schiffchen und Schichtdickenmonitor, Substrat beheizbar. Geeignet für runde Substrate (Durchmesser 8 cm) die ca. 30 cm von den Quellen entfernt sein sollen. Eine Sputterquelle (RF-Magnetron) soll nachrüstbar sein und als Option angeboten werden.
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Ort der Leistung
Berlin 🏙️
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferauftrag
Verordnung: Europäische Gemeinschaften
Originalsprache: Deutsch 🗣️

Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot
Angebotsart: Gesamt- oder Teilangebot
Art des öffentlichen Auftraggebers: Einrichtung des öffentlichen Rechts
Haupttätigkeit: Sonstiges

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Name des öffentlichen Auftraggebers: Helmholtz-Zentrum-Berlin für Materialien und Energie GmbH
Land: Deutschland 🇩🇪

Referenz
Daten
Veröffentlichungsdatum: 2008-10-04 📅
Empfangsdatum: 2008-09-23 📅
Absendedatum: 2008-09-23 📅
Einreichungsfrist: 2008-11-14 📅
Versanddatum der Vertragsunterlagen: 2008-10-15 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer (Legacy): 255202-2008
ABl. S-Ausgabe: 193/2008

Objekt
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) 📦
Quelle: OJS 2008/S 193-255202 (2008-09-23)
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Region:
Deutschland Berlin