Laseroptisches System zur großflächigen Erzeugung periodischer Nano- und Mikrostrukturen

Westsächsische Hochschule Zwickau

Laseroptisches System zur großflächigen Erzeugung periodischer Nano- und Mikrostrukturen – Nanolithographiesystem
- Einsetzbare Substratgröße/Wafergröße 100mm/4“ Durchmesser oder mehr, Dickenbreich von 0,35mm bis 3mm oder größerer Bereich
- Maskensystem passend zur einsetzbaren Wafergröße
- Manuelles oder automatisches Beladesystem
- Manueller und/oder automatischer Keilfehlerausgleich
- Laterale Auflösung von 150nm (halbe Gitterkonstante) oder kleiner bei Abbildung eines linearen periodischen Gitters
- Halbierung der Periodenlänge der Maskenstrukturen bei Abbildung auf das Substrat
- Belichtungszeit für vollständige Strukturierung eines 100mm/4“ Wafers: 2 Minuten oder kleiner
- Homogenität der Leistungsdichte im gesamten Belichtungsfeld: +/- 3% oder besser
- Nennwellenlänge der Belichtungsquelle: mindestens 360nm, höchstens 390nm
- Kamerasystem zur Kollimation und Probenausrichtung
- Computer mit Software zur Anlagensteuerung
Kamerasystem zur Probenausrichtung anhand von Passmarken (Overlay Alignment)
Messgerät zur Überwachung der UV-Leistungsdichte, Messbereich abgestimmt auf im System auftretende Wellenlänge und Leistungsdichte
Startpaket zur Geräteinbetriebnahme
- Phase-Shift-Photomaske passend zum angebotenen System mit mindestens 32 Feldern bestehend aus linearen Gittern mit Gitterkonstanten im Bereich von 500nm bis zu 2050nm (Inkrement pro Feld: 50nm) oder weiterer Bereich zur Abbildung von linearen Gittern mit Gitterkonstanten im Bereich von 250nm bis 1025nm oder weiterer Bereich
- Phase-Shift-Photomaske passend zum angebotenen System mit einem kreisrunden Feld mit einem Durchmesser von 100mm welches eine hexagonal dichtgepackte Anordnung von kreisrunden Löchern mit einer Gitterkonstante von 1000nm enthält und die Abbildung von hexagonal periodischen Nanostrukturen mit einer Gitterkostante von 500nm ermöglicht
Lieferung frei Verwendungsstelle inklusive Importgebühren/Zoll
Vor-Ort-Installation, System- und Softwareeinweisung, Abnahme und Übergabeprotokoll, Schulung

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2023-11-14. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2023-10-11.

Wer? Wie? Wo?
Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2023-10-11 Auftragsbekanntmachung
Auftragsbekanntmachung (2023-10-11)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Laser
Referenznummer: ÖA-EU 07-23
Kurze Beschreibung:
Laseroptisches System zur großflächigen Erzeugung periodischer Nano- und Mikrostrukturen – Nanolithographiesystem - Einsetzbare Substratgröße/Wafergröße 100mm/4“ Durchmesser oder mehr, Dickenbreich von 0,35mm bis 3mm oder größerer Bereich - Maskensystem passend zur einsetzbaren Wafergröße - Manuelles oder automatisches Beladesystem - Manueller und/oder automatischer Keilfehlerausgleich - Laterale Auflösung von 150nm (halbe Gitterkonstante) oder kleiner bei Abbildung eines linearen periodischen Gitters - Halbierung der Periodenlänge der Maskenstrukturen bei Abbildung auf das Substrat - Belichtungszeit für vollständige Strukturierung eines 100mm/4“ Wafers: 2 Minuten oder kleiner - Homogenität der Leistungsdichte im gesamten Belichtungsfeld: +/- 3% oder besser - Nennwellenlänge der Belichtungsquelle: mindestens 360nm, höchstens 390nm - Kamerasystem zur Kollimation und Probenausrichtung - Computer mit Software zur Anlagensteuerung Kamerasystem zur Probenausrichtung anhand von Passmarken (Overlay Alignment) Messgerät zur Überwachung der UV-Leistungsdichte, Messbereich abgestimmt auf im System auftretende Wellenlänge und Leistungsdichte Startpaket zur Geräteinbetriebnahme - Phase-Shift-Photomaske passend zum angebotenen System mit mindestens 32 Feldern bestehend aus linearen Gittern mit Gitterkonstanten im Bereich von 500nm bis zu 2050nm (Inkrement pro Feld: 50nm) oder weiterer Bereich zur Abbildung von linearen Gittern mit Gitterkonstanten im Bereich von 250nm bis 1025nm oder weiterer Bereich - Phase-Shift-Photomaske passend zum angebotenen System mit einem kreisrunden Feld mit einem Durchmesser von 100mm welches eine hexagonal dichtgepackte Anordnung von kreisrunden Löchern mit einer Gitterkonstante von 1000nm enthält und die Abbildung von hexagonal periodischen Nanostrukturen mit einer Gitterkostante von 500nm ermöglicht Lieferung frei Verwendungsstelle inklusive Importgebühren/Zoll Vor-Ort-Installation, System- und Softwareeinweisung, Abnahme und Übergabeprotokoll, Schulung
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Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Laser 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Zwickau 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Einrichtung des öffentlichen Rechts
Name des öffentlichen Auftraggebers: Westsächsische Hochschule Zwickau
Postanschrift: Kornmarkt 1
Postleitzahl: 08056
Postort: Zwickau
Kontakt
Internetadresse: http://www.fh-zwickau.de 🌏
E-Mail: beschaffungswesen@fh-zwickau.de 📧
Telefon: +49 375-536-0 📞
URL der Dokumente: https://www.evergabe.de/unterlagen/2834522/zustellweg-auswaehlen 🌏
URL der Teilnahme: https://www.evergabe.de 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2023-10-11 📅
Einreichungsfrist: 2023-11-14 📅
Veröffentlichungsdatum: 2023-10-16 📅
Datum des Beginns: 2023-12-05 📅
Datum des Endes: 2025-06-13 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2023/S 199-624268
ABl. S-Ausgabe: 199

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Laseroptisches System zur großflächigen Erzeugung periodischer Nano- und Mikrostrukturen – Nanolithographiesystem
- Einsetzbare Substratgröße/Wafergröße 100mm/4“ Durchmesser oder mehr, Dickenbreich von 0,35mm bis 3mm oder größerer Bereich
- Maskensystem passend zur einsetzbaren Wafergröße
- Manuelles oder automatisches Beladesystem
- Manueller und/oder automatischer Keilfehlerausgleich
- Laterale Auflösung von 150nm (halbe Gitterkonstante) oder kleiner bei Abbildung eines linearen periodischen Gitters
- Halbierung der Periodenlänge der Maskenstrukturen bei Abbildung auf das Substrat
- Belichtungszeit für vollständige Strukturierung eines 100mm/4“ Wafers: 2 Minuten oder kleiner
- Homogenität der Leistungsdichte im gesamten Belichtungsfeld: +/- 3% oder besser
- Nennwellenlänge der Belichtungsquelle: mindestens 360nm, höchstens 390nm
- Kamerasystem zur Kollimation und Probenausrichtung
- Computer mit Software zur Anlagensteuerung
Kamerasystem zur Probenausrichtung anhand von Passmarken (Overlay Alignment)
Messgerät zur Überwachung der UV-Leistungsdichte, Messbereich abgestimmt auf im System auftretende Wellenlänge und Leistungsdichte
Startpaket zur Geräteinbetriebnahme
- Phase-Shift-Photomaske passend zum angebotenen System mit…
… mindestens 32 Feldern bestehend aus linearen Gittern mit Gitterkonstanten im Bereich von 500nm bis zu 2050nm (Inkrement pro Feld: 50nm) oder weiterer Bereich zur Abbildung von linearen Gittern mit Gitterkonstanten im Bereich von 250nm bis 1025nm oder weiterer Bereich
… einem kreisrunden Feld mit einem Durchmesser von 100mm welches eine hexagonal dichtgepackte Anordnung von kreisrunden Löchern mit einer Gitterkonstante von 1000nm enthält und die Abbildung von hexagonal periodischen Nanostrukturen mit einer Gitterkostante von 500nm ermöglicht
Lieferung frei Verwendungsstelle inklusive Importgebühren/Zoll
Vor-Ort-Installation, System- und Softwareeinweisung, Abnahme und Übergabeprotokoll, Schulung
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Zwickau, DE

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:
Einen aktuellen (nicht älter als 6 Monate) Nachweis der Eintragung in das Handelsregister oder ein vergleichbares Register nach Maßgabe der Rechtsvorschriften des EU-Mitgliedstaates, in dem das Unternehmen ansässig ist. Sollte der Bewerber gemäß den Rechtsvorschriften des Landes, in dem er ansässig ist, nicht in einem Berufs- oder Handelsregister eingetragen sein, ist dieser Umstand mittels einer unterschriebenen schriftlichen Eigenerklärung zu erklären und diese Erklärung anstelle des Nachweises einzureichen.
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- Einheitliche Europäische Eigenerklärungen (EEE) werden ebenfalls akzeptiert. Der Auftraggeber behält sich vor Bescheinigungen zum Beleg der Angaben nachzufordern.
Im Rahmen einer Nachunternehmerschaft oder Bietergemeinschaft sind sämtliche Bedingungen auch für diese nachzuweisen.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
- Unternehmensdarstellung:
-- allgemeine Unternehmensdarstellung;
-- Firmenname, Rechtsform, Umsatzsteuerident-Nr;
-- Anschrift (Hauptsitz/Niederlassungen/Sitz der Niederlassung, die den Auftraggeber betreuen würde);
-- Telefon-/Faxnummer und E-Mail-Adresse;
-- Organisationsstruktur des Unternehmens, Geschäftsfelder/-zweige;
-- Leistungsspektrum, Gründungsdatum, Unternehmenshistorie etc.;
-- Angaben zu den Umsätzen der letzte 3 Jahre (ersatzweise Geschäftsberichte der letzten 3 Jahre) sowie den Umsätzen des im Rahmen der Ausschreibung maßgeblichen Geschäftsbereiches.
- Bescheinigung/Nachweis über eine bestehende Betriebshaftpflichtversicherung einschließlich der Angabe der Deckungssummen;
- Erklärung des Bieters zum Ausschreibungsverfahren (Anlage 3);
-- Nichtbestehen eines Insolvenzverfahrens oder eines vergleichbaren gesetzlichen Verfahrens;
-- dass sich das Unternehmen nicht in Liquidation befindet;
-- dass die Beiträge an die Berufsgenossenschaft ordnungsgemäß bezahlt werden;
-- dass die Steuern ordnungsgemäß bezahlt werden;
-- dass die Sozialversicherungsbeiträge für die Arbeitnehmer/innen ordnungsgemäß bezahlt werden;
-- dass keine schweren Verfehlungen begangen wurden, die meine/unsere Zuverlässigkeit als Bieter/in in Frage stellen;
-- dass keine Person, deren Verhalten unserem Unternehmen zuzurechnen ist, rechtskräftig verurteilt ist wegen § 129 des Strafgesetzbuches (Bildung krimineller Vereinigungen), §129a des Strafgesetzbuches (Bildung terroristischer Vereinigungen) oder § 129b des Strafgesetzbuches (kriminelle und terroristische Vereinigungen im Ausland), § 89c des Strafgesetzbuches (Terrorismusfinanzierung) oder wegen der Teilnahme an einer solchen Tat oder wegen der Bereitstellung oder Sammlung finanzieller Mittel in Kenntnis dessen, dass diese finanziellen Mittel ganz oder teilweise dazu verwendet werden sollen, eine Tat nach § 89a Absatz 2 Nummer 2 des Strafgesetzbuches zu begehen, § 261 des Strafgesetzbuches (Geldwäsche, Verschleierung unrechtmäßig erlangterVermögenswerte), § 263 des Strafgesetzbuches (Betrug), soweit sich die Straftat gegen den Haushalt der Europäischen Union oder gegen Haushalte richtet, die von der Europäischen Union oder in deren Auftrag verwaltet werden, § 264 des Strafgesetzbuches (Subventionsbetrug), soweit sich die Straftat gegen den Haushalt der Europäischen Union oder gegen Haushalte richtet, die von der Europäischen Union oder in deren Auftrag verwaltet werden, § 299 des Strafgesetzbuches (Bestechlichkeit und Bestechung im geschäftlichen Verkehr), § 108e des Strafgesetzbuches (Bestechlichkeit und Bestechung von Mandatsträgern, §§ 333 und 334 des Strafgesetzbuches (Vorteilsgewährung und Bestechung), jeweils auch in Verbindung mit § 335a des Strafgesetzbuches (Ausländische und internationale Bedienstete), Artikel 2 § 2 des Gesetzes zur Bekämpfung internationaler Bestechung (Bestechung ausländischer Abgeordneter im Zusammenhang mit internationalem Geschäftsverkehr) oder §§ 232 und 233 des Strafgesetzbuches (Menschenhandel) oder § 233a des Strafgesetzbuches (Förderung des Menschenhandels).
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Einer Verurteilung nach diesen Vorschriften steht eine Verurteilung nach vergleichbaren Vorschriften anderer Staaten gleich. Das Verhalten einer rechtskräftig verurteilten Person ist einem Unternehmen zuzurechnen, wenn diese Person als für die Leitung des Unternehmens Verantwortlicher gehandelt hat; dazu gehört auch die Überwachung der Geschäftsführung oder die sonstige Ausübung von Kontrollbefugnissen in leitender Stellung.
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Im Rahmen einer Nachunternehmerschaft oder Bietergemeinschaft sind die Erklärungen nach den §§ 123 und 124 GWB auch für diese zu erklären.
Technische und berufliche Fähigkeiten:
- Nachweis von mindestens 3 Referenzen in vergleichbarer Art und Größenordnung in den vergangenen 3 Jahren innerhalb der EU mit Kurzbeschreibung und Kontaktdaten des Auftraggebers als Bestätigung für hohe Qualität und Zuverlässigkeit des Gerätes (die Referenzen dürfen nicht das Recht des Auftragsgebers ausschließen oder einschränken weitere Informationen bei den Auftraggebern einzuholen).
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Auftragsausführung
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
Der Bewerber erklärt, dass sein Unternehmen die:
- Verpflichtung zu Tariftreue, Mindestentgelt und Entgeltgleichheit
- Verpflichtung zur Beachtung der ILO-Kernarbeitsnormen
- sowie ggf. Verpflichtung des Nachunternehmers zu Tariftreue, Mindestentgelt und Entgeltgleichheit und die Verpflichtung des Nachunternehmers zur Beachtung der ILO-Kernarbeitsnormen erfüllt.
Die entsprechenden Formulare sind als Anlagen dieser Ausschreibung beigefügt.
Im Falle einer beabsichtigten Zuschlagserteilung sind von dem Bestbieter diese Erklärungen und Nachweise nach Aufforderung innerhalb von 3 Werktagen über die e-Vergabeplattform („Nachrichten“) vollständig ausgefüllt einzureichen.
Liegen die Erklärungen und Nachweise innerhalb der benannten Frist nicht vollständig vor, wird das Angebot ausgeschlossen.

Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 11:00
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2023-12-15 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2023-11-14 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 12:00

Öffentlicher Auftraggeber
Kontakt
Internetadresse: www.fh-zwickau.de 🌏
Dokumente URL: https://www.evergabe.de/unterlagen/2834522/zustellweg-auswaehlen 🌏

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Freistaates Sachsen bei der Landesdirektion Sachsen
Postanschrift: Postfach 101364
Postort: Leipzig
Postleitzahl: 04013
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: post@lds.sachsen.de 📧
Quelle: OJS 2023/S 199-624268 (2023-10-11)
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