2014-07-29Lieferung und Inbetriebnahme eines Vertikalofens zur chemischen Dampfphasenabscheidung von Siliziumdioxidschichten... (AMO GmbH)
Ein Vertikalofensystem zur Deposition von Siliziumdioxidschichten soll geliefert und im Reinraum der AMO GmbH in Betrieb genommen werden, welcher auf chemischer Dampfphasenabscheidung bei Niederdruckatmosphäre basiert, kurz LPCVD-Verfahren (engl. Low Pressure Chemical Vapor Deposition). Die Schichten müssen in einem TEOS-Prozess (Tetraethylorthosilane) gewachsen werden. Ein Prozess zur Deposition von ca. 1µm dicken Siliziumdioxidschichten soll auf dem System implementiert sein. Die AMO definiert in der …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:centrotherm photovoltaics AG