2011-10-24Beschaffung eines Laserlithographiesystems (DFG-GZ: A 632) (Deutsche Forschungsgemeinschaft e.V., Zentrale Beschaffungsstelle)
Anforderungen an das Gerät.
1. 3D Laserlithographiesystem:
Grundanforderungen:
1.1. Es muss möglich sein, echte 3D-Strukturen im Submikrometerbereich in Photolack innerhalb eines Prozessschrittes mit Hilfe der 2-Photonenpolymerisation zu schreiben.
1.2. Der Einsatz verschiedener Photolacke muss möglich sein: SU-8, Ormocere, Acrylbasierte Photolacke.
1.3. Lateraler Schreibbereich: bis zu 100 x 100 mm².
1.4. Bereich höchster Auflösung ohne Stitching: 300 x 300 x 300 μm³.
1.5. Minimale laterale 3D …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Nanoscribe GmbH
2011-08-24Laseranlage (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Laseranlage zum Einhausen und Ansteuern zweier Jenoptik-Laserstrahlquellen(Beistellung durch Institut) mit Strahlzustellung und Scannersystem zur Bearbeitung von Siliziumsolarzellen. Die Anlage soll neben der notwendigen Software einen Bearbeitungstisch, eine Bilderkennung zur genauen Positionierung, eine Absaugung, ein automatisches Transportsystem sowie eine Handling-Automatik zum Ein- und Aushorden von Wafern aus entsprechenden Carriern aufweisen.
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:InnoLas GmbH