Anbieter: Aurion Anlagentechnik GmbH

6 archivierte Beschaffungen

Neuere Beschaffungen, bei denen der Anbieter Aurion Anlagentechnik GmbH erwähnt wird

2022-09-16   PVD-Reaktor (Leibniz-Institut f. Plasmaforschung & Technologie)
Für die Entwicklung von nanostrukturierten Oberflächen und Hoch-Entropie-Legierungen im Bereich der Energiespeicherung durch Wasserstofferzeugung, -speicherung und -rückverstromung ist ein PVD-Reaktorsystem zu beschaffen. Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: Aurion Anlagentechnik GmbH
2021-08-16   Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER - E_019_250426 (Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf und Gerätewirtschaft C2)
E_019_250426 MalOle-bla Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER (Hoch Ionisierte Plasmen zur Schichtabscheidung für Tribo-Anwendungen und Materials Engineering) Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: Aurion Anlagentechnik GmbH
2017-09-21   Lieferung einer Sputteranlage (Forschungsverbund Berlin e. V.)
Sputteranlage (Kathodenzerstäubung) für Metallische Materialien die konkrete Leistungsbeschreibung befindet sich unter dem Link: http://www.fv-berlin.de/administration/einkauf-bau-liegenschaften-1/ausschreibungen/ausschreibungen Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: Aurion Anlagentechnik GmbH
2017-08-02   Pulsed-Power-System für den SIS18 Chopper (GSI Helmholtzzentrum für Schwerionenforschung GmbH)
Der TK7-Chopper ist ein Ablenksystem zwischen dem Linearbeschleuniger (UNILAC) und dem Ringbeschleuniger (SIS18) an der GSI. Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: Aurion Anlagentechnik GmbH
2013-08-19   Beschaffung einer Sputteranlage zur Herstellung von Indium-Sulfid, Zink-Sulfid- und anderen alternativen... (Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH)
Beschaffung einer Sputteranlage zur Herstellung von Indium-Sulfid, Zink-Sulfid- und anderen alternativen Puffer-Schichten für Photovoltaic Anwendungen. Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: Aurion Anlagentechnik GmbH
2011-04-20   Clusterplattform (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Vakuum-Clusterplattform zur Handhabung von 450 mm und 300 mm Wafern in der Halbleiterfertigung: Die Clusterplattform kommt in einem Reinraum zum Einsatz und dient dem Anschluss von mindestens drei Prozessmodulen. Die Plattform besteht aus einem zentralen Transportmodul und mindestens einem Belademodul (keine Prozessmodule). Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: Aurion Anlagentechnik GmbH