2022-06-03UHV-Depositionsanlage / Sputtercluster (Karlsruher Institut für Technologie)
Gegenstand dieser Ausschreibung ist die Lieferung, Montage, Inbetriebsetzung, Abnahme sowie Übergabe der Dokumentation einer UHV Depositionsanlage / Sputter -Cluster für das Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS) gemäß der beigefügten Technischen
Spezifikation (Anlage 02).
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2019-07-04Vollautomatisierte Großflächen-Magnetronsputteranlage (Helmholtz-Zentrum Dresden – Rossendorf e.V.)
Lieferung einer vollautomatisierten Großflächen-Magnetronsputteranlage für die Präparation von GMR-basierten Dünnschichtstapeln mit Einzelschichtdicken von jeweils 1 nm inklusive Werkabnahme, Installation, Inbetriebnahme, Vor-Ort-Abnahme sowie Training. Die konkreten Leistungsparameter sind der Anlage A – Leistungsverzeichnis mit Angebotsschreiben aufgeführt.
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2013-09-19Ultrahochvakuum-Sputteranlage mit konfokaler Depositionsgeometrie (Universität Bielefeld, Dez. F, Abt. F 3)
Für die Herstellung von ultradünnen komplexen Legierungsschichten wird eine UHV-Sputteranlage benötigt, die das Co-Sputtern von bis zu vier verschiedenen Materialien in konfokaler Geometrie ermöglicht. Die Sputterquellen müssen sowohl für DC- als auch RF- Betrieb geeignet sein. Das Substrat muss während der Abscheidung auf bis zu 1 000 °C geheizt und kontinuierlich rotiert werden können. Es ist ein Substratshutter vorzusehen. Jede Quelle muss mit eigenem Shutter und eigener Gasversorgung ausgestattet …
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