2012-03-07Zwei-Photonen 3D-Laser Lithographiesystem (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Anlagentechnik zum Erzeugen dreidimensionaler Strukturen mit Submikrometerauflösung. Beispiele dafür sind Mikrooptike, Beugungsgitter, Lab-On-Chip-Systeme und Photonische Kristalle. Die im direkten Schreibvorgang zu erzeugenden Strukturen sollen eine Höhe von 1 mm haben und müssen mit dem System in einem Arbeitsgang herstellbar sein, d.h. ohne zusätzliche Ätzvorgänge oder Maskenwechsel. Das System soll höchste Flexibilität besitzen und eine Fläche von 100 x 100 mm2 strukturieren können. Damit sollen auch …
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2011-10-24Beschaffung eines Laserlithographiesystems (DFG-GZ: A 632) (Deutsche Forschungsgemeinschaft e.V., Zentrale Beschaffungsstelle)
Anforderungen an das Gerät.
1. 3D Laserlithographiesystem:
Grundanforderungen:
1.1. Es muss möglich sein, echte 3D-Strukturen im Submikrometerbereich in Photolack innerhalb eines Prozessschrittes mit Hilfe der 2-Photonenpolymerisation zu schreiben.
1.2. Der Einsatz verschiedener Photolacke muss möglich sein: SU-8, Ormocere, Acrylbasierte Photolacke.
1.3. Lateraler Schreibbereich: bis zu 100 x 100 mm².
1.4. Bereich höchster Auflösung ohne Stitching: 300 x 300 x 300 μm³.
1.5. Minimale laterale 3D …
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