Anbieter: Plasma Electronic GmbH

2 archivierte Beschaffungen

Neuere Beschaffungen, bei denen der Anbieter Plasma Electronic GmbH erwähnt wird

2017-02-09   201704 – PVD Anlage (Albert-Ludwigs-Universität Freiburg)
Beschaffung einer PVD (physical vapour deposition) / PECVD-Anlage gem. den Vergabeunterlagen. Anlage zur Folienbeschichtung im Roll to Roll – Verfahren mit einer Folienbreite von bis zu 240 mm mit Metall, Metalloxid- und Nitridschichten sowie von transparenten PECVD-Topschichten mit wahlweise hydrophober Ausrichtung mit Kontaktwinkel <105° und Oberflächenspannung <15 mN/m oder hydrophiler Ausrichtung mit Kontaktwinkel <10° und Oberflächenspannung >72 mN/m auf Polymerfolien. Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: Plasma Electronic GmbH
2012-04-17   Kauf einer kombinierten PECVD/PVD - Anlage für Mehrfach- und Multilagen (PVD-PECVD) im Kombibetrieb mit definiertem... (NMI Naturwissenschaftliches und Medizinisches Institut an der Universität Tübingen)
Kauf einer kombinierten PECVD/PVD - Anlage für Mehrfach- und Multilagen (PVD-PECVD) im Kombibetrieb mit definiertem Prozess, um Mehrfach- und Multilagen im Kombibetrieb herzustellen. PECVD -Prozesse: SiOx, Diamond Like Carbon DLC. PVD - Prozesse: Metalle (Cr, Ti, Al, W) rein, Metalloxide und Metallnitride. Prozesskammer: Edelstahl, 1.4301 mit tauschbaren Verkleidungsblechen, Volumen ca. 350 l mit Sichtfenstern. PVD: 2 Sputtertargets für leit- und nichtleitfähige Targets (RF-Sputtern) Nitride - Carbide … Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: Plasma Electronic GmbH
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Beschaffende Organisationen: Albert-Ludwigs-Universität Freiburg NMI Naturwissenschaftliches und...