Nassprozesslinie zur Prozessierung von Mikroprozessoren und Komponenten (NaPro)
Das HSG-IMIT plant die Beschaffung einer nasschemischen Prozesslinie für 4“/6“-Substrate für seinen MEMS-Reinraum als Ersatz und technologische Erweiterung für die bisherige Prozesslinie. Die neue Prozesslinie besteht aus 9 Modulen mit integrierten Prozess- und Spülbecken sowie Ver- und Entsorgungsstationen:
— Modul 1: Reinigungsbank für Carosche/ RCA-Reinigung,
— Modul 2: Reinigungsbank für Carosche Reinigung,
— Modul 3: Reinigungsbank für organische Reinigung und Entlackung,
— Modul 4: Ätzbank für Siliziumverbindungen,
— Modul 5: Ätzbank für Metalle bzw. Totalstrukturierung,
— Modul 6: Ätzbank für anisotropes Ätzen (Siliziumätzen, KOH),
— Modul 7: Galvanik Bank,
— Modul 8: Digestorium,
— Modul 9: Spin Rinse Dryer (2 Stück),
— Modul 10: Spin-Ätzer.
Die Prozesslinie dient in einer Fertigung von MEMS-Bauteilen dazu, sämtliche nasschemischen Prozessschritte und Reinigungsschritte zu prozessieren. Die Anlage ist für einen 3-Schichtbetrieb auszulegen. Die Prozesslinie ist für einen Betrieb in einem Reinraum Klasse 10 (ISO 4) auszulegen.
Bei der Prozesslinie handelt es sich um eine voll funktionsfähige Einheit mit allen zur Produktion erforderlichen Komponenten (Monitore, maschinenspezifische Adapter, Prozesspfade, Wartungspfade usw.). Es existieren nach Übergabe/ Abnahme produktionstaugliche Prozesse. Die Bedienung ist hierarchisch aufzubauen. Es ist ein Operatormode, ein Entwicklungsmode und ein Servicemode zu realisieren. Prozessdaten (Rohdaten) sind lokal auf dem System selbst zu speichern, sowie über eine ASCII-Schnittstelle abrufbar.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2012-11-21.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2012-10-12.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2012-10-12
|
Auftragsbekanntmachung
|
| 2012-12-18
|
Bekanntmachung über vergebene Aufträge
|