Rasterelektronenmikroskop
Im Bereich Mikrosystemtechnik soll zur Inspektion und Analyse von mikrotechnischen Bauelementen ein hochauflösendes Rasterelektronenmikroskop in Kombination mit einer fokussierten Ionenstrahlsäule (FIB) eingesetzt werden. Es sollen verschiedene Materialen und Materialkombinationen, wie z.B. Si, SiOx, SiNx, Ni, Au, PZT, Polymere..., hochauflösend und mit gutem Kontrast ohne weitere Beschichtung abgebildet werden. Nichtleitende Proben sollen auch ohne Bedampfung und aufladungsfrei mit genügend hohen Strömen bezüglich ihrer Zusammensetzung analysiert werden können.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2012-05-07.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2012-03-14.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2012-03-14
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Auftragsbekanntmachung
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| 2012-06-27
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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