Rasterelektronenmikroskop
Für die elektronenoptische Untersuchung von Metallen, Keramiken und Kunststoffen wird ein Rasterelektronenmikroskop benötigt, welches sowohl im Hochvakuumbereich bei Auflösungen unter 4nm arbeiten kann (z.B. für die Darstellung nanostrukturierter Oberflächenschichten), als auch bei Niedrigvakuumbedingungen, um empfindliche bzw. nicht beschichtbare Kunststoffe oder Keramiken untersuchen zu können. Vor allem für die Partikelselektierung wird ein BSE-Detektor benötigt, der parallel zur EDX-Analyse betrieben werden kann.
Da sehr häufig Proben aus der Lichtmikroskopie mit farblichen Auffälligkeiten im REM weiteruntersucht werden müssen, bzw. EDX-Analysen dieser Bereiche erstellt werden müssen, wird ein geeigneter Zusatz für die korrelative Mikroskopie benötigt. D.h. die Übernahme der Aufnahmeposition einer am vorhandenen externen Lichtmikroskop erstellten Aufnahme in entsprechend geeigneter Vergrößerung um deckungsgleiche Bilder erstellen zu können. Mit einer geeigneten Software muss die Möglichkeit gegeben sein die licht- und elektronenmikroskopischen Bilder zu überlagern bzw. mit der Überlagerung von EDX-mappings zu ergänzen.
Eine gute Tischsteuerung mittels Joystick und quasianaloge Bedieneinheiten mit Drehknöpfen sind wünschenswert. Geeignete Auswerte- und Archivierprogramme sind für die Arbeit notwendig.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2012-06-25.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2012-05-11.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2012-05-11
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Auftragsbekanntmachung
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| 2012-10-18
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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