Rasterelektronenmikroskop mit fokussierendem Ionenstrahl

Technische Universität Dresden

Das Ziel der Ausschreibung ist die Beschaffung eines leistungsstarken Rasterelektronenmikroskops mit fokussierendem Ionenstrahl, wobei Lieferung, Aufstellung, Inbetriebnahme und Einweisung in die Nutzung, Auswertung und Problembehebung eingeschlossen sind. Mit dem Gerätesystem sollen u.a. die Grundlagen für die Nanoana-lytik an eindimensionalen (1D) Nanostrukturen und daraus aufgebauten Bauelementen erforscht und insbesondere die Erfordernisse und die Wirksamkeit des kombinierten Einsatzes von Ionen- und Elektronen-Mikroskopie demonstriert werden. Kinetische Prozesse in diesen Materialien und Strukturen sowie die Materialkompatibilität, insbe-sondere unter dem Aspekt zuverlässigkeitslimitierender Degradationsprozesse, stellen spezielle Inhalte der am DCN geplanten Untersuchungen dar.
Insbesondere sind Forschungs- und Entwicklungsarbeiten zu zuverlässigkeitsbegrenzenden kinetischen Prozessen in 1D-Nanostrukturen und den daraus resultierenden mikroelektronischen Bauelementen mit hochauflösenden analytischen Verfahren geplant sowie das Aufstellen von Modellen für zuverlässigkeitsbegrenzende Degradationsprozesse und das Ableiten von Schlussfolgerungen für die Materialintegration. Dazu sind folgende spezielle Aufgaben zu bearbeiten:
- Erarbeitung einer Präparations- und Messstrategie für neuartige Bauelemente unter Nutzung der Fokussierender-Ionenstrahl (Focused Ion Beam)-Technik sowie Raster- und Transmissionselektronenmikroskopie (REM/TEM) und Atom Probe Tomographie (APT)
- Entwicklung einer Prozedur zur Präparation von Proben mittels Focused Ion Beam-Technik, die sowohl mittels TEM als auch mit APT analysiert werden können.
Dazu sind geringste Probenmodifikation durch FIB und beste Elektronenstrahl-Auflösung bei niedrigen Anregungsspannungen (notwendig zur Präparation nanoskaliger Proben (z. B. 1D-Elektronik-Strukturen wie Si-Nanodrähte im Exzellenzcluster „Advancing Electronics Dresden – cfaed“ für TEM und APT-Analytik und bestmögliche Auflösung bei der Elektronenstrahlabbildung der Nanostrukturen) zwingend erforderlich.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-08-13. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-06-28.

Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?

Wie?

Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2013-06-28 Auftragsbekanntmachung
2014-04-01 Bekanntmachung über vergebene Aufträge