Ätzanlage
Die Ausschreibung zielt auf die Beschaffung eines reaktiven Ionen Ätzers mit induktiv eingekoppeltem Plasma (ICP-RIE), zur anisotropen Ätzung von Halblautersubstraten, insbesondere Silizium. Zum Leistungsumfang gehören Lieferung, Installation, Inbetriebnahme, Einweisung, 24 Monate Gewährleistung sowie kostenlose Software-Updates innerhalb der ersten 24 Monate nach Inbetriebnahme. Die Ätzanlage muss folgende Mindestanforderungen erfüllen:
— CE Zertifizierung,
— Strukturierung von SI Nanostrukturen,
— Ätzresultate demonstriert an Testproben,
— RIE mit Schleuse und Option für bis zu 8 Prozessgase,
— Waferhalter für 4" Wafer und Halter für 1 x 1 cm² Probenstücke, maximale Wafergröße 8",
— Heliumrückseitenkühlung für beide Probenarten,
— Pumpzeiten bei Einschleusen der Proben < 10 min.,
— Außenmaße nicht größer als 4 000 x 1 500 x 2 000 mm³ (l x b x h),
— Abgasreinigungssystem,
— Computersteuerung der Prozesse,
— Rezepte für die oben genannten Prozesse,
— Servicetechniker muss bei Störungen innerhalb von 48 h vor Ort sein,
— Software Update,
— Schulung des Laborpersonals bei Inbetriebnahme des Gerätes.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2014-06-11.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2014-04-23.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2014-04-23
|
Auftragsbekanntmachung
|
| 2014-09-10
|
Bekanntmachung über vergebene Aufträge
|