Rasterelektronenmikroskop
Rasterelektronenmikroskop
Das Fraunhofer ENAS arbeitet und forscht auf den Gebieten Nanoelektronik und MEMS/NEMS.
Für die Erforschung, Entwicklung und Anwendung von neuen Funktionsprinzipien, Prozessen und Devices ist die Anschaffung einer Ausrüstung geplant, die es ermöglicht, Strukturen bis unter 20 nm, insbesondere auch Resiststrukturen ohne störende Aufladungen zu inspizieren und effizient zu bewerten. Besonders wichtig ist, dass unterschiedliche Substratdimensionierungen (Waferdicke, Durchmesser) und Substratmaterialien zerstörungsfrei charakterisiert werden können. Dieses Rasterelektronmikroskop soll es erlauben, die Strukturbreiten, auch im Resist automatisiert zu vermessen. Das setzt eine sehr anspruchsvolle Technik voraus, da es um sehr kleine Strukturen geht, organischer Resist beim Messen möglichst nicht deformiert werden darf und die statistischen Untersuchungen eine stabile, hochautomatisierte Lösung erfordern.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2014-03-17.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2014-01-30.
Wer?
Wie?
Geschichte der Beschaffung
Datum |
Dokument |
2014-01-30
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Auftragsbekanntmachung
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