Beschaffung eines Rasterelektronenmikroskops (DFG-GZ: A 706)

Deutsche Forschungsgemeinschaft e. V., Zentrale Beschaffungsstelle

Die an das zu beschaffende Rasterelektronenmikroskop (REM) gestellten Anforderungen ergeben sich aus dem zu bearbeiteten Aufgabenspektrum. Dies sind vor allem Abbildung von Oberflächen, Ermittlung der chemischen Zusammensetzung sowie einfache Elektronenstrahllithographie. Dabei bestehen besondere Anforderungen an die Leistungsfähigkeit des Gerätes insbesondere hinsichtlich des Auflösungsvermögens sowie bei der Untersuchung nichtleitender Proben.
— Auflösung im standard mode < 1.0 nm bei 15 kV, < 1.5 nm bei 500 V;
— Auflösung im low vacuum mode (ca 30 Pa) < 2.0 nm bei 3 kV;
— Möglichkeit isolierende Proben (z. B nicht geschlossene organische Schichten auf hochisolierenden Substraten, strukturierte Schichten auf Al2O3 Substraten) auch ohne Metallisierung bei höchster Auflösung zu untersuchen. Dies erfordert:
— Low Vakuum Mode (5 bis 500 Pa);
— Arbeiten bei kleinsten Landeenergien und kleinsten Probenströmen;
— Magnetfeldfreier Probenraum, d. h. keine magnetische Immersionslinse. Diese Forderung ist notwendig, um die uneingeschränkte Untersuchung ferromagnetischer Materialien ermöglichen;
— Hochspannung < 100V-30kV;
— motorisierte euzentrische Probenbühne Verfahrwege: x,y ≥ 50 mm, z ≥ 40 mm, Kippwinkel ≥ 70°, Rotation ≥ 360°;
— verschiedene Detektionsmöglichkeiten;
— hocheffizienter Kammer-SE-Detektor (Evenhart-Thornley);
— rückziehbarer Mehrsektoren-BSE-Detektor der Material-, Orientierungs-und Topographiekontrast ermöglicht;
— unabhängige In-Lens Detektoren für SE und BSE;
— hocheffizienter SE-Detektor für Low Vakuum Mode;
— paralleler Bildeinzug mit den verschiedenen Detektoren;
— Nach Möglichkeit Ausstattung mit einem rückziehbaren Multi-Segment-STEM-Detektor für die hochauflösende Abbildung organischer Materialien bei kleinen Beschleunigungsspannungen;
— EDX-System mit der Möglichkeit auch leichte Elemente (C, N, O, F) in einer Probe quantitativ zu analysieren;
— Auflösung ≤ 123 eV bei Mn Kα;
— Detektorfläche ≥ 30mm2;
— Möglichkeit zum Mapping einschließlich offline-Auswertung;
— Nachweis geometrisch sehr kleiner (nur in einem einzelnen Pixel des Maps vorhandener) Einschlüsse/Phasen;
— Driftkorrektur während der Aufnahme eines Maps;
— Einfacher Zusatz für Elektronenstrahllithographie, Stitching nicht erforderlich, datenkompatibel zu Proxywriter der Firma Raith;
— Kühlung gegen technisches Kühlwasser, nicht gegen Raumluft (Entlastung der Klimaanlage).

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2015-07-06. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2015-06-05.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• Carl Zeiss Microscopy GmbH

Wer?

• Deutsche Forschungsgemeinschaft e. V., Zentrale Beschaffungsstelle

Wie?

• Elektronenmikroskope › Rasterelektronenmikroskope

Wo?

• Berlin › Berlin

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2015-06-05	Auftragsbekanntmachung
2016-01-18	Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Auftragsbekanntmachung (2015-06-05)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Rasterelektronenmikroskope
Menge oder Umfang: 1 System.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Rasterelektronenmikroskope 📦

Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Deutsche Forschungsgemeinschaft e. V., Zentrale Beschaffungsstelle
Postanschrift: Kennedyallee 40
Postleitzahl: 53175
Postort: Bonn
Kontakt
Internetadresse: http://www.dfg.de 🌏
E-Mail: ute.breuer@dfg.de 📧
Telefon: +49 2288852474 📞
Fax: +49 2288853676 📠

Referenz
Daten
Absendedatum: 2015-06-05 📅
Einreichungsfrist: 2015-07-06 📅
Veröffentlichungsdatum: 2015-06-10 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2015/S 110-199370
ABl. S-Ausgabe: 110
Zusätzliche Informationen

Das Aktenzeichen entsprechend Ziff. IV.3.1) ist bei sämtlicher Korrespondenz anzugeben. Beim Schlusstermin laut Ziff. IV.3.4) handelt es sich um den Schlusstermin für den Eingang der Teilnahmeanträge (nicht für den Eingang der Angebote). Vor Ablauf des Schlusstermins gemäß Ziff. IV.3.4) werden keine Verdingungsunterlagen versendet.

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

— Auflösung im standard mode < 1.0 nm bei 15 kV, < 1.5 nm bei 500 V;

— Auflösung im low vacuum mode (ca 30 Pa) < 2.0 nm bei 3 kV;

— Möglichkeit isolierende Proben (z. B nicht geschlossene organische Schichten auf hochisolierenden Substraten, strukturierte Schichten auf Al2O3 Substraten) auch ohne Metallisierung bei höchster Auflösung zu untersuchen. Dies erfordert:

— Low Vakuum Mode (5 bis 500 Pa);

— Arbeiten bei kleinsten Landeenergien und kleinsten Probenströmen;

— Magnetfeldfreier Probenraum, d. h. keine magnetische Immersionslinse. Diese Forderung ist notwendig, um die uneingeschränkte Untersuchung ferromagnetischer Materialien ermöglichen;

— Hochspannung < 100V-30kV;

— motorisierte euzentrische Probenbühne Verfahrwege: x,y ≥ 50 mm, z ≥ 40 mm, Kippwinkel ≥ 70°, Rotation ≥ 360°;

— verschiedene Detektionsmöglichkeiten;

— hocheffizienter Kammer-SE-Detektor (Evenhart-Thornley);

— rückziehbarer Mehrsektoren-BSE-Detektor der Material-, Orientierungs-und Topographiekontrast ermöglicht;

— unabhängige In-Lens Detektoren für SE und BSE;

— hocheffizienter SE-Detektor für Low Vakuum Mode;

— paralleler Bildeinzug mit den verschiedenen Detektoren;

— Nach Möglichkeit Ausstattung mit einem rückziehbaren Multi-Segment-STEM-Detektor für die hochauflösende Abbildung organischer Materialien bei kleinen Beschleunigungsspannungen;

— EDX-System mit der Möglichkeit auch leichte Elemente (C, N, O, F) in einer Probe quantitativ zu analysieren;

— Auflösung ≤ 123 eV bei Mn Kα;

— Detektorfläche ≥ 30mm2;

— Möglichkeit zum Mapping einschließlich offline-Auswertung;

— Nachweis geometrisch sehr kleiner (nur in einem einzelnen Pixel des Maps vorhandener) Einschlüsse/Phasen;

— Driftkorrektur während der Aufnahme eines Maps;

— Einfacher Zusatz für Elektronenstrahllithographie, Stitching nicht erforderlich, datenkompatibel zu Proxywriter der Firma Raith;

— Kühlung gegen technisches Kühlwasser, nicht gegen Raumluft (Entlastung der Klimaanlage).

Es werden Varianten akzeptiert ✅
Referenznummer: ZUK 75/2015
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Berlin.

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Auftragsausführung
Wichtigste Finanzierungsbedingungen und Zahlungsmodalitäten und/oder Verweis auf die einschlägigen Bestimmungen, die sie regeln:

Anzahlungen bis zur Höhe von max. 50 % des Kaufpreises werden nur gegen unbefristete Bankbürgschaft nach deutschem Recht geleistet.

Verfahren
Datum der Absendung der Aufforderungen: 2015-07-13 📅
Vergabekriterien
Kriterium: 1. Technischer Wert (50)
2. Preis (50)
Sprachen
Sprache: Deutsch 🗣️

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Other
Kontakt
Kontaktperson: Frau Ute Breuer
Internetadresse: www.dfg.de 🌏

Referenz
Kennungen
Vom öffentlichen Auftraggeber vergebene Referenznummer: ZUK 75/2015
Zusätzliche Informationen

Das Aktenzeichen entsprechend Ziff. IV.3.1) ist bei sämtlicher Korrespondenz anzugeben.

Beim Schlusstermin laut Ziff. IV.3.4) handelt es sich um den Schlusstermin für den Eingang der Teilnahmeanträge (nicht für den Eingang der Angebote). Vor Ablauf des Schlusstermins gemäß Ziff. IV.3.4) werden keine Verdingungsunterlagen versendet.

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Das GWB (Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen) verpflichtet uns, Sie zu gegebener Zeit über die beabsichtigte Auftragsvergabe zu informieren. Hiergegen haben Sie die Möglichkeit, innerhalb einer festgelegten Frist vor der Vergabekammer bei der Bezirksregierung Köln, 50606, zu klagen. Im Falle einer fristgerechten Klage erbitten wir eine entsprechende Information.

Quelle: OJS 2015/S 110-199370 (2015-06-05)

Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2016-01-18)
Objekt
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Angebotsart: Entfällt

Öffentlicher Auftraggeber
Kontakt
E-Mail: ute.breuer@dfg.de 📧

Referenz
Daten
Absendedatum: 2016-01-18 📅
Veröffentlichungsdatum: 2016-01-22 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2016/S 015-021768
Verweist auf Bekanntmachung: 2015/S 110-199370
ABl. S-Ausgabe: 15

Objekt
Umfang der Beschaffung
Referenznummer: ZUK 75/2015-3013488

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2015-10-12 📅
Name: Carl Zeiss Microscopy GmbH
Postanschrift: Carl-Zeiss-Straße 22
Postort: Oberkochen
Postleitzahl: 73447
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: microscopy@zeiss.com 📧
Internetadresse: www.zeiss.com/microscopy 🌏
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 2
Quelle: OJS 2016/S 015-021768 (2016-01-18)

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