Ionenstrahlätzanlage
Lieferung und betriebsfertige Übergabe einer Anlage zum Ionenstrahlätzen von Wafern und geträgerten Einzelsubstraten bis zu einem Durchmesser von 150 mm zur Aufstellung im Vakuumtechnologielabor des Institutes für Festkörperelektronik der TU Dresden
Schlüsselanforderungen:
— Ionenquelle: Filamentlose Ionenquelle, die langzeitstabile
IBE-, RIBE- und CAIBE-Prozesse ermöglicht. Strahlneu-tralisation mit PBN und Ionenstrommessung mit Faraday-Cup.
— Vakuum-Prozesskammer: Eine Edelstahlkammer, die alle erforderlichen Flansche besitzt, leicht gereinigt werden kann und eine problemlose Wartung der Ionenquelle ermöglicht. Vakuumpumpsystem zur effektiven Evakuierung der Kammer bis zu Drücken unter 10-6 mbar und hochauflösendes Vakuummesssystem.
— Substrathalter: Dreh- und schwenkbares System für Proben bis zu 150 mm Durchmesser, das wassergekühlt ist und eine thermische Heliumankopplung zur Substratrückseite besitzt. Manuell und automatisch über einen Beladearm mit Proben bestückbar.
— Schleuse: Bestehend aus Edelstahl mit einem Beladetransport-system für Substrate bis mindestens 170 mm Außen-durchmesser zur automatischen Bestückung des Substrathalters. Vakuumpumpsystem zur effektiven Evakuierung der Schleuse bis zu Drücken unter 10-6 mbar und Vakuummesssystem.
— Gasversorgungssystem: 5 Gaskanäle mit MFC's und pneumatischen Absperrventilen.
— Anlagensteuerung: Manuell und automatisch. Übersichtliche Darstellung des Anlagenstatus, Ablage von Prozessabläufen und umfassende Protokollfunktionen. Fehlbedienungsschutz.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2015-04-21.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2015-03-06.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2015-03-06
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Auftragsbekanntmachung
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| 2015-07-28
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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