E_848_219427 cl-Ols – Rasterelektronenmikroskop

Fraunhofer Gesellschaft e. V.

E_848_219427 cl-Ols – Rasterelektronenmikroskop.
Ein zu beschaffendes Dual-Beam Gerät soll zum einen durch eine FIB eine Erweiterung der präparativ-analytischen Methoden bieten und zum anderen second sorce für ein älteres Analytik-/Mess-REM sein.
— Probengrößen: Crosssections, Proben auf Stubs,150 mm Wafer und 200 mm Wafer. Vom 200-mm-Wafer soll eine möglichst große Fläche einfach erreicht werden. Maximale Probenhöhe von Sonderproben >20 mm. Probenhalter für 200-mm-Wafer und 150-mm-Wafer.
— Stage, Verfahrbereich: möglichst groß, zumindest y: ±50, x: -100; +50, der 200 mm Wafer solltegegebenenfalls unter Zuhifename von Drehungen komplett anfahrbar sein.
— Kalibriertes Messen: Es sollte möglich sein, bei bestimmten Bedingungen kalibrierte Messungen durchführen zu können, sowohl in Form von Maßpfeilen, als auch in Form halbautomatisierter Breitenmessungen von Stegen/Gräben und Pitches sowie Löcher (Vias). Lieferung mit geeignetem Kalibriernormal.
— Defektmonitoring: Es sollte möglich sein, KLARF-files zu importieren und den Wafer damit zu justieren, so dass Defekte gezielt halbautomatisch angefahren werden können.
— EDX: EDX-Gerät (ohne Flüssigstickstoffkühlung) mit allen gängigen Spektrenfunktionen sowie Mapping mit Driftkorrektur und offline-Auswertung.
— Detektoren:mindestens SE- Inlensdetektor, externer SE-Detektor, Detektor mit Materialkontrast, STEM-Detektor zur Untersuchung erzeugter Lamellen (Möglichst insitu) bildgebend und mit EDX.
— Beam-Deceleration: zur Untersuchung stark isokierender Proben.
— Emitter (REM): hochauflösend (Schottky, Feldemitter).
— Strahloptik: guter Kompromiss zwischen FIB-Funktion und hochauflösender Abbildung bei kleineren Spannungen, ggf. Immersionsoptik.
— Beschl-Spannung: 0.3…30 kV.
— Probenstrom: zumindest so hoch, dass das EDX bei Si und 3 kV mindestens 200 counts/s hat.
— Vergrößerung: Minimal <25 x, besser kleiner 10 x, Maximal >200 000.
— Schleuse: Automatisch oder manuell, auch Geräte ohne Schleuse möglich.
— FIB: Ga-Quelle, 50pA…>50nA, 1-30 kV.
— Manipulator: zur Entnahme von TEM-Lamellen.
— Gase für FIB: 5 (z.B. C, Pt, W, XeF2, SiOx-Abscheidung).
— Bauart: tauglich für Einbringung in einen Reinraum Klasse 10.
— Partikelzuwachs: <2 Partikel >5 µm und <5 Partikel 5 µm…1 µm pro Schleusung eines 200 mm Wafers.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2016-03-28. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2016-02-25.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• FEI Deutschland GmbH

Wer?

• Fraunhofer Gesellschaft e. V.

Wie?

• Elektronenmikroskope › Rasterelektronenmikroskope

Wo?

• Dresden › Dresden, Kreisfreie Stadt

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2016-02-25	Auftragsbekanntmachung
2016-07-26	Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Auftragsbekanntmachung (2016-02-25)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Rasterelektronenmikroskope
Menge oder Umfang: 1 Stück.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Rasterelektronenmikroskope 📦

Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft e. V.
Postanschrift: Hansastr. 27c
Postleitzahl: 80686
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de 🌏
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de 📧

Referenz
Daten
Absendedatum: 2016-02-25 📅
Einreichungsfrist: 2016-03-28 📅
Veröffentlichungsdatum: 2016-03-01 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2016/S 042-069006
Verweist auf Bekanntmachung: 2014/S 212-374889
ABl. S-Ausgabe: 42
Zusätzliche Informationen

Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen eVergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden. Nach §11 der Vergabeordnung haben wir uns entschieden die Vergabeunterlagen ausschließlich digital über die deutsche eVergabe anzubieten. Die Nutzung der Plattform www.deutsche-evergabe.de ist kostenpflichtig. Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebote (§22 EG VOL).

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

E_848_219427 cl-Ols – Rasterelektronenmikroskop.

Ein zu beschaffendes Dual-Beam Gerät soll zum einen durch eine FIB eine Erweiterung der präparativ-analytischen Methoden bieten und zum anderen second sorce für ein älteres Analytik-/Mess-REM sein.

— Probengrößen: Crosssections, Proben auf Stubs,150 mm Wafer und 200 mm Wafer. Vom 200-mm-Wafer soll eine möglichst große Fläche einfach erreicht werden. Maximale Probenhöhe von Sonderproben >20 mm. Probenhalter für 200-mm-Wafer und 150-mm-Wafer.

— Stage, Verfahrbereich: möglichst groß, zumindest y: ±50, x: -100; +50, der 200 mm Wafer solltegegebenenfalls unter Zuhifename von Drehungen komplett anfahrbar sein.

— Kalibriertes Messen: Es sollte möglich sein, bei bestimmten Bedingungen kalibrierte Messungen durchführen zu können, sowohl in Form von Maßpfeilen, als auch in Form halbautomatisierter Breitenmessungen von Stegen/Gräben und Pitches sowie Löcher (Vias). Lieferung mit geeignetem Kalibriernormal.

— Defektmonitoring: Es sollte möglich sein, KLARF-files zu importieren und den Wafer damit zu justieren, so dass Defekte gezielt halbautomatisch angefahren werden können.

— EDX: EDX-Gerät (ohne Flüssigstickstoffkühlung) mit allen gängigen Spektrenfunktionen sowie Mapping mit Driftkorrektur und offline-Auswertung.

— Detektoren:mindestens SE- Inlensdetektor, externer SE-Detektor, Detektor mit Materialkontrast, STEM-Detektor zur Untersuchung erzeugter Lamellen (Möglichst insitu) bildgebend und mit EDX.

— Beam-Deceleration: zur Untersuchung stark isokierender Proben.

— Emitter (REM): hochauflösend (Schottky, Feldemitter).

— Strahloptik: guter Kompromiss zwischen FIB-Funktion und hochauflösender Abbildung bei kleineren Spannungen, ggf. Immersionsoptik.

— Beschl-Spannung: 0.3…30 kV.

— Probenstrom: zumindest so hoch, dass das EDX bei Si und 3 kV mindestens 200 counts/s hat.

— Vergrößerung: Minimal <25 x, besser kleiner 10 x, Maximal >200 000.

— Schleuse: Automatisch oder manuell, auch Geräte ohne Schleuse möglich.

— FIB: Ga-Quelle, 50pA…>50nA, 1-30 kV.

— Manipulator: zur Entnahme von TEM-Lamellen.

— Gase für FIB: 5 (z.B. C, Pt, W, XeF2, SiOx-Abscheidung).

— Bauart: tauglich für Einbringung in einen Reinraum Klasse 10.

— Partikelzuwachs: <2 Partikel >5 µm und <5 Partikel 5 µm…1 µm pro Schleusung eines 200 mm Wafers.

Es werden Varianten akzeptiert ✅
Dauer: 5 Monate
Referenznummer: E_848_219427 cl-Ols
Bezeichnung des von der EU finanzierten Projekts oder Programms: EFRE-Mittel.
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Dresden.

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung: — Firmenprofil.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:

— Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre;

— Eigenerklärung über das ordnungsgemäße Abführen von Steuern und Abgaben sowie der Beiträge zur gesetzlichen Sozialversicherung;

— Eigenerklärung, dass weder ein Insolvenzverfahren in Eröffnung ist, eröffnet wurde oder mangels Masse abgelehnt wurde noch das sich das Unternehmen in Liquidation befindet;

— Eigenerklärung, dass nachweislich keine schweren Verfehlungen begangen wurden, die die Zuverlässigkeit als Bewerber in Frage stellen;

— Auszug aus dem Gewerbezentralregister gem. §150a GewO (wird durch den Auftraggeber angefordert).

Technische und berufliche Fähigkeiten:

— Komplette Referenzen (Kontaktdaten, Ansprechpartner) von vergleichbaren Systemen in der Mikroelektronik bzw. mikroelektroniknahen Umgebung, nicht älter als 3 Jahre;

— Nennung der Anzahl der gelieferten vergleichbaren Systeme…

… in Europa;

… weltweit.

Auftragsausführung
Wichtigste Finanzierungsbedingungen und Zahlungsmodalitäten und/oder Verweis auf die einschlägigen Bestimmungen, die sie regeln: Nach VOL und Vergabeunterlagen.
Rechtsform der Gruppe von Wirtschaftsteilnehmern, an die der Auftrag vergeben werden soll: Gesamtschuldnerisch haftend mit bevollmächtigtem Vertreter.
Sonstige besondere Bedingungen:

Bei evtl. Einsatz von Subunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der aufgeführten Eignungskriterien unter III.2) nachzuweisen. Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen, deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.

Verfahren
Voraussichtliche Anzahl von Bewerbern: 3
Objektive Auswahlkriterien: Gemäß Eignungskriterien, Umsatz, Referenzen, Anzahl der installierten Geräte.
Sprachen
Sprache: Deutsch 🗣️
Englisch 🗣️

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Other
Kontakt
Kontaktperson: C2 – Einkauf
URL der Teilnahme: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Name: Fraunhofer Gesellschaft e. V. über Vergabeportal deutsche-eVergabe
Telefon: +49 6119491060 📞
E-Mail: fraunhofer@deutsche-evergabe.de 📧
URL für weitere Informationen: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
URL der Dokumente: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏

Referenz
Daten
Veröffentlichungsdatum: 2014-11-04 📅
Kennungen
Vom öffentlichen Auftraggeber vergebene Referenznummer: E_848_219427 cl-Ols
Nummer der Bekanntmachung im Amtsblatt S: 2014/S 212-374889
Zusätzliche Informationen

Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen eVergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden.

Nach §11 der Vergabeordnung haben wir uns entschieden die Vergabeunterlagen ausschließlich digital über die deutsche eVergabe anzubieten.

Die Nutzung der Plattform www.deutsche-evergabe.de ist kostenpflichtig.

Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebote (§22 EG VOL).

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemomblerstr. 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI.4.1) genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1) genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des §107 Abs. 3 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin.

Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden soll, werden vor dem Zuschlag gem. §101a GWB informiert.

Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Vergabestelle siehe I.1)
Quelle: OJS 2016/S 042-069006 (2016-02-25)

Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2016-07-26)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

E_848_219427 cl-Ols; Rasterelektronenmikroskop.

Gesamtwert des Auftrags: 1 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Ort der Leistung
NUTS-Region: Dresden, Kreisfreie Stadt 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Entfällt

Öffentlicher Auftraggeber
Kontakt
Telefon: +49 891205-3229 📞
Fax: +49 891205-7547 📠

Referenz
Daten
Absendedatum: 2016-07-26 📅
Veröffentlichungsdatum: 2016-07-30 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2016/S 146-263424
Verweist auf Bekanntmachung: 2016/S 042-069006
ABl. S-Ausgabe: 146

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

E_848_219427 cl-Ols;

Rasterelektronenmikroskop.

— Defektmonitoring: Es sollte möglich sein, KLARF-files zu importieren und den Wafer dami.

Bezeichnung des von der EU finanzierten Projekts oder Programms: EFRE-Mittel.

Verfahren
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Funktionalität Waferanwendungen
Qualitätskriterium (Gewichtung): 30
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Arbeitskomfort/Automatisierung
Qualitätskriterium (Gewichtung): 15
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Funktionalität über Spec hinaus (Kontrastverb., Sonderdetektoren)
Gewichtung des Preises: 40

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2016-07-11 📅

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Forschungsgesellschaft e. V.
Kontakt
Kontaktperson: Carla Lönz

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI.4.1) genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1) genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des § 107 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin. Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden sollen, werden vor dem Zuschlag gem. §101a GWB informiert.

Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Name: Vergabeprüfstelle des BMBF Referat Z 23
Postanschrift: Heinemannstraße 2
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53175
Land: Deutschland 🇩🇪
Quelle: OJS 2016/S 146-263424 (2016-07-26)

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