Sputteranlage
Am Lichttechnischen Institut am Karlsruher Institut für Technologie soll eine universelle Laborsputteranlage zur Deposition leitender und nichtleitender Schichten beschafft werden.
Mit dieser sollen sowohl leitende (z. B. Kontakte) als auch nichtleitende Schichten (z. B. Dielektrika für Antireflexschichten) in verschiedensten Ausführungen und für diverse Anwendungen in ausreichender Qualität kostengünstig und selbständig hergestellt werden.
Um eine möglichst vielseitige Forschung gewährleisten zu können, wird eine Anlage mit fünf verbauten Quellen angestrebt, wobei 2 dieser Quellen gleichzeitig betrieben werden können (DC/DC-, RF/RF- und DC/RF-Modus).
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2016-07-04.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2016-06-01.
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
| 2016-06-01
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Auftragsbekanntmachung
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