Sputteranlage
Hahn-Schickard beabsichtigt die Neuanschaffung einer Cluster-Sputteranlage für das Beschichten von hauptsächlich 100 mm- und 150 mm-Substraten als Ersatz bzw. technologische Erweiterung vorhandener Gerätschaften. Die neu zu beschaffende Anlage muss das Beschichten mit unterschiedlichen Metallen wie Al, Au, TiW, Ti, Pt, Cr und Ni ermöglichen und muss in sämtlichen Punkten die in Abschnitt 6 aufgeführten Prozessanforderungen gewährleisten.
Die Anlage ist für einen 3-Schichtbetrieb auszulegen. Sie soll außerdem für einen Betrieb in einem Reinraum der Klasse 10 (ISO 4) geeignet sein.
Die Anlage stellt eine voll funktionsfähige Einheit mit allen zur Produktion erforderlichen Komponenten (Monitore, Bedienelemente, maschinenspezifische Adapter, Prozesspfade, Wartungspfade etc.) dar. Es existieren nach Übergabe/Abnahme produktionstaugliche Prozesse. Die Bedienung ist hierarchisch aufzubauen. Es ist ein Bedienermodus, ein Entwicklungsmodus und ein Servicemodus zu realisieren. Prozessdaten (Rohdaten) sind lokal auf dem System selbst zu speichern, sowie über eine Schnittstelle abzurufen. Weiterhin muss auch die Anbindung an ein lokales Netzwerk möglich sein.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2016-11-21.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2016-10-06.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2016-10-06
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Auftragsbekanntmachung
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| 2016-12-19
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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