ALD-Anlage zur hermetischen Passivierung von photonischen III/V Komponenten
Aus einem Stück gefertigter, bis 50 °C elektrisch geheizt und temperaturgeregelter Aluminium-Reaktor (gut von oben zugänglich für eine schnelle und einfache mechanische Reaktorreinigung oder Wartung) – flache, ebene, hocheffiziente, schnell schaltbare ICP-Quelle für ein direktes (kein Remote), stabil brennendes und pulsbares Plasma – höhenverstellbare, elektrisch isolierte sowie bis 300 °C geheizt und temperaturstabilisierte Substratelektrode für Substrate und Träger bis max. 200 mm Durchmesser integrierte Gasbox für bis zu zwölf separate Gaslinien ohne Bypass oder sechs mit Bypass inklusive Abluft-Ausgang Vakuumsystem – RFC Steuerung (Field Bus Controller) – Laser-Ellipsometrie für eine Echtzeit-Prozessbeobachtung und zur Endpunktdetektion *ICPECVD* Hochleistungs-Inspektions-Mikroskop.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2017-09-18.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2017-08-10.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2017-08-10
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Auftragsbekanntmachung
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| 2017-10-23
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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