Cluster-Trockenätzanlage
Hahn-Schickard beabsichtigt eine Neuanschaffung einer Cluster-Trockenätzanlage für die Strukturierung von Silizium und dielektrischen Schichten. Die Anlage muss für die Bearbeitung von 100 mm- und 150 mm-Wafern geeignet sein und soll dem 200 mm SEMI MESC Standard entsprechen. Die Anlage soll aus zwei ICP-RIE Kammern bestehen und jeweils über eine eigene Kassettenstation beladen werden. Die Anlage ist für einen 3-Schichtbetrieb auszulegen und soll für den Betrieb in einem Reinraum der Klasse 10 (ISO 4) geeignet sein.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2017-04-19.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2017-03-09.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2017-03-09
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Auftragsbekanntmachung
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| 2017-05-31
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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