Kurze Beschreibung
Rasterkraftmikroskop mit Piezoresponse Messoption.
Die nachfolgende Spezifikation beschreibt die Anforderungen an ein Rasterkraftmikroskop zur Charakterisierung von ferroelektrischen Schichten auf Siliziumwaferstücken (“Coupons“) und ggf. auch auf kompletten 300mm/12” Siliziumwafern. Verwendungsort des nachfolgend spezifizierten Rasterkraft-mikroskops wird das Physikalische Fehleranalyselabor der Forschungseinrichtung sein.
Es wird gefordert, dass das Gerät kontinuierlich ohne Störungen oder Ausfälle die zugedachten Funktionen in Übereinstimmung zu allen in dieser EPS genannten Anforderungen ausführt. Darüber hinaus muss das Gerät mit allen nachfolgend beschriebenen Mitteln geliefert werden, die notwendig sind, damit das Gerät die vorgesehenen Funktionalitäten und Fähigkeiten in Übereinstimmung zu allen in dieser EPS aufgeführten Anforderungen erfüllt.