Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit einer hohen Beschichtungsrate und einer herausragenden Homogenität auf Wafern mit d=200 mm benötigt. Diese Systeme sollen als hochreflektierende Spiegel auf MOEMS-Bauelementen integriert werden.
1) Technische Anforderungen:
— Verdampfungskammer mit Fronttür und Sichtfenster,
— Substrataufnahme (Kalotte) für mindestens 8 Substrate (Wafer mit d=200 mm),
— die manuelle Beladung soll ergonomisch und möglichst einfach gestaltet sein, um auch filigrane Wafer sicher handeln zu können. (Kein Über-Kopf-Handling, Realisierung beispielsweise mit herausfahrbarer Kalotte oder segmentierter Kalotte)
— Mind. 2 Elektronenstrahlkanonen (1x für Metalle, 1x für Oxide),
— Mind. 10 Tiegel, um verschiedene Verdampfungsmaterialien nutzen zu können,
— Automatik-/Rezept-gesteuerte InSitu-Beschichtung von Schichtstapeln (z. B. Oxid1-Oxid2-Oxid1).
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2018-08-17.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2018-07-18.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Abscheideanlage für optische Schichtstapel
E_048_252408 cl-golame FMD
Produkte/Dienstleistungen: Dampf- oder Sandstrahlmaschinen📦
Kurze Beschreibung:
“Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit...”
Kurze Beschreibung
Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit einer hohen Beschichtungsrate und einer herausragenden Homogenität auf Wafern mit d=200 mm benötigt. Diese Systeme sollen als hochreflektierende Spiegel auf MOEMS-Bauelementen integriert werden.
1) Technische Anforderungen:
— Verdampfungskammer mit Fronttür und Sichtfenster,
— Substrataufnahme (Kalotte) für mindestens 8 Substrate (Wafer mit d=200 mm),
— die manuelle Beladung soll ergonomisch und möglichst einfach gestaltet sein, um auch filigrane Wafer sicher handeln zu können. (Kein Über-Kopf-Handling, Realisierung beispielsweise mit herausfahrbarer Kalotte oder segmentierter Kalotte)
— Mind. 2 Elektronenstrahlkanonen (1x für Metalle, 1x für Oxide),
— Mind. 10 Tiegel, um verschiedene Verdampfungsmaterialien nutzen zu können,
— Automatik-/Rezept-gesteuerte InSitu-Beschichtung von Schichtstapeln (z. B. Oxid1-Oxid2-Oxid1).
1️⃣
Ort der Leistung: Dresden🏙️
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 01109 Dresden
Beschreibung der Beschaffung:
“Zu 1.:
— Ionenstrahlquelle für Ionenstrahlassistiertes Verdampfen,
— Thermische Verdampfungsquelle,
— Shutter für alle Verdampfungsquellen,
—...”
Beschreibung der Beschaffung
Zu 1.:
— Ionenstrahlquelle für Ionenstrahlassistiertes Verdampfen,
— Thermische Verdampfungsquelle,
— Shutter für alle Verdampfungsquellen,
— Verteilungsblende(n) zur Optimierung der Schichtdickenhomogenität,
— Schichtdickenmessung mittels Schwingquarz,
— Optisches Monitoring System (Breitband) im Wellenlängenbereich 300 – 1 100 nm, 5 nm Auflösung zur InSitu-Monitorierung von Schichtdicken und InSitu-Rezeptanpassung während der Beschichtung.
2) Optionale Anforderungen
— Automatisches Handlingssystem (Kassette-zu-Kassette), geeignet für 8” Standard SEMI Kassetten Typ „DMS 780-550000005“
Hier ist insbesondere vom Anbieter zu prüfen, ob das Handlingssystem auch für filigrane Wafer mit Gruben/Löchern und für den Einsatz von Schattenmasken geeignet ist. Manuelles Beladen der Anlage sollte trotzdem möglich sein.
— Option funkgesteuerte Multi-Shutter-Kalotte für die Teil-Beschichtung von Multi-Layer-Stacks in einem Run.
3) Technologische Anforderungen
— Verdampfen von Al mit hoher und niedriger Rate,
— Verdampfen von SiO2, TiO2, Ta2O5 und Schichtstapeln basierend auf diesen Materialien,
— Gute Homogenität (<3 %) und Reproduzierbarkeit Wafer-zu-Wafer und Los-zu-Los (<1 %),
— Die Anlage soll prinzipiell in der Lage sein, auch weitere Metalle, Oxide (z. B. Nb2O5) und Flouride verdampfen zu können.
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium, und alle Kriterien werden nur in den Auftragsunterlagen genannt
Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems
Der nachstehende Zeitrahmen ist in Monaten ausgedrückt.
Beschreibung
Dauer: 6
Informationen über die Begrenzung der Zahl der einzuladenden Bewerber
Vorgesehene Mindestanzahl: 3
Maximale Anzahl: 5
Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Anzahl von Bewerbern: Gemäß Eignungskriterien, Referenzen, Anzahl der Geräte im Feld.
Informationen über Varianten
Es werden Varianten akzeptiert ✅ Informationen über Optionen
Optionen ✅
Beschreibung der Optionen: Optional soll Zubehör angeboten werden.
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“(1) Firmenprofil und Angabe von Mitarbeiterzahlen;
(2) Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre;
(3) Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von...”
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien
(1) Firmenprofil und Angabe von Mitarbeiterzahlen;
(2) Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre;
(3) Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen (s. Anlage);
(4) Auszug aus dem Gewerbezentralregister gemäß § 150a GewO (wird durch den Auftraggeber angefordert).
Mehr anzeigen Technische und berufliche Fähigkeiten
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“(1) Komplette Referenzen (Kontaktdaten) von vergleichbaren Anlagen, nicht älter als 3 Jahre. Sollten Sie aus datenschutzrechtlichen Gründen Ihre...”
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien
(1) Komplette Referenzen (Kontaktdaten) von vergleichbaren Anlagen, nicht älter als 3 Jahre. Sollten Sie aus datenschutzrechtlichen Gründen Ihre Ansprechpartner nicht benennen dürfen, so kategorisieren Sie bitte Ihren Auftraggeber (Forschung, Industrie, andere öffentliche Auftraggeber;
(2) Bekanntgabe der Anzahl von vergleichbar gefertigten Anlagen für die Halbleiterindustrie in Europa;
(3) Bekanntgabe der Anzahl von vergleichbar gefertigten Anlagen für die Halbleiterindustrie weltweit.
Mehr anzeigen Bedingungen für den Vertrag
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
“Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien...”
Bedingungen für die Vertragserfüllung
Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen, deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
Verfahren Art des Verfahrens
Wettbewerbliches Verfahren mit Verhandlung
Informationen über die Reduzierung der Anzahl von Lösungen oder Angeboten während der Verhandlungen oder des Dialogs
Rückgriff auf ein gestaffeltes Verfahren, um die Zahl der zu erörternden Lösungen oder zu verhandelnden Angebote schrittweise zu verringern
Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2018-08-17
23:59 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Englisch 🗣️
“— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter...”
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden. $
— Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB)
— Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
Mehr anzeigen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪 Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postort: Bonn
Land: Deutschland 🇩🇪 Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen,...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf 10 Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
Mehr anzeigen Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name:
“Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal eVergabe”
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de📧
URL: http://www.fraunhofer.de🌏
Quelle: OJS 2018/S 138-314673 (2018-07-18)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2018-12-19) Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit...”
Kurze Beschreibung
Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit einer hohen Beschichtungsrate und einer herausragenden Homogenität auf Wafern mit d= 200 mm benötigt. Diese Systeme sollen als hoch reflektierende Spiegel auf MOEMS-Bauelementen integriert werden.
1) Technische Anforderungen:
– Verdampfungskammer mit Fronttür und Sichtfenster,
– Substrataufnahme (Kalotte) für mindestens 8 Substrate (Wafer mit d= 200 mm),
– die manuelle Beladung soll ergonomisch und möglichst einfach gestaltet sein, um auch filigrane Wafer sicher handeln zu können. (Kein Über-Kopf-Handling, Realisierung beispielsweise mit heraus fahrbarer Kalotte oder segmentierter Kalotte),
– Mind. 2 Elektronenstrahlkanonen (1x für Metalle, 1x für Oxide),
– Mind. 10 Tiegel, um verschiedene Verdampfungsmaterialien nutzen zu können,
– Automatik-/Rezept-gesteuerte InSitu-Beschichtung von Schichtstapeln (z. B. Oxid1-Oxid2-Oxid1).
Mehr anzeigen
Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.): EUR 0.01 💰
Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung:
“Zu 1.:
– Ionenstrahlquelle für Ionenstrahl assistiertes Verdampfen,
– thermische Verdampfungsquelle,
– Shutter für alle Verdampfungsquellen,
–...”
Beschreibung der Beschaffung
Zu 1.:
– Ionenstrahlquelle für Ionenstrahl assistiertes Verdampfen,
– thermische Verdampfungsquelle,
– Shutter für alle Verdampfungsquellen,
– Verteilungsblende(n) zur Optimierung der Schichtdickenhomogenität,
– Schichtdickenmessung mittels Schwingquarz,
– optisches Monitoring System (Breitband) im Wellenlängenbereich 300 – 1100 nm, 5 nm Auflösung zur InSitu-Monitorierung von Schichtdicken und InSitu-Rezeptanpassung während der Beschichtung.
2) Optionale Anforderungen:
– automatisches Handlingssystem (Kassette-zu-Kassette), geeignet für 8” Standard SEMI Kassetten Typ “DMS 780-550000005”.
Hier ist insbesondere vom Anbieter zu prüfen, ob das Handlingssystem auch für filigrane Wafer mit Gruben/Löchern und für den Einsatz von Schattenmasken geeignet ist. Manuelles Beladen der Anlage sollte trotzdem möglich sein.
– Option funkgesteuerte Multi-Shutter-Kalotte für die Teil-Beschichtung von Multi-Layer-Stacks in einem Run.
3) Technologische Anforderungen:
– Verdampfen von Al mit hoher und niedriger Rate,
– Verdampfen von SiO2, TiO2, Ta2O5 und Schichtstapeln basierend auf diesen Materialien,
– Gute Homogenität (<3 %) und Reproduzierbarkeit Wafer-zu-Wafer und Los-zu-Los (<1 %),
– die Anlage soll prinzipiell in der Lage sein, auch weitere Metalle, Oxide (z. B. Nb2O5) und Flouride verdampfen zu können.
Verfahren Administrative Informationen
Frühere Veröffentlichungen zu diesem Verfahren: 2018/S 138-314673
Auftragsvergabe
1️⃣
Titel: Abscheideanlage für optische Schichtstapel
Datum des Vertragsabschlusses: 2018-12-13 📅
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Name und Anschrift des Auftragnehmers
Name: Evatec Europe GmbH
Postanschrift: Karl-Hammerschmidt-Str. 34
Postort: Aschheim
Postleitzahl: 85609
Land: Deutschland 🇩🇪
Region: München, Landkreis🏙️
Der Auftragnehmer ist ein KMU
Angaben zum Wert des Auftrags/der Partie (ohne MwSt.)
Gesamtwert des Auftrags/Loses: EUR 0.01 💰
“— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter...”
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden. – Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB) – Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
Mehr anzeigen Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen,...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
Mehr anzeigen Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name:
“Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe”
Quelle: OJS 2018/S 246-563872 (2018-12-19)