Abscheideanlage für optische Schichtstapel
Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe
Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit einer hohen Beschichtungsrate und einer herausragenden Homogenität auf Wafern mit d=200 mm benötigt. Diese Systeme sollen als hochreflektierende Spiegel auf MOEMS-Bauelementen integriert werden.
1) Technische Anforderungen:
— Verdampfungskammer mit Fronttür und Sichtfenster,
— Substrataufnahme (Kalotte) für mindestens 8 Substrate (Wafer mit d=200 mm),
— die manuelle Beladung soll ergonomisch und möglichst einfach gestaltet sein, um auch filigrane Wafer sicher handeln zu können. (Kein Über-Kopf-Handling, Realisierung beispielsweise mit herausfahrbarer Kalotte oder segmentierter Kalotte)
— Mind. 2 Elektronenstrahlkanonen (1x für Metalle, 1x für Oxide),
— Mind. 10 Tiegel, um verschiedene Verdampfungsmaterialien nutzen zu können,
— Automatik-/Rezept-gesteuerte InSitu-Beschichtung von Schichtstapeln (z. B. Oxid1-Oxid2-Oxid1).
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2018-08-17. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2018-07-18.
AnbieterDie folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer? Wie? Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum | Dokument |
|---|---|
| 2018-07-18 | Auftragsbekanntmachung |
| 2018-12-19 | Bekanntmachung über vergebene Aufträge |
Auftragsbekanntmachung (2018-07-18)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Dampf- oder Sandstrahlmaschinen
Referenznummer: E_048_252408 cl-golame FMD
Kurze Beschreibung:
“Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit...”
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Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Dampf- oder Sandstrahlmaschinen 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Dresden 🏙️
Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot
Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe
Postanschrift: Hansastr. 27c
Postleitzahl: 80686
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de 🌏
E-Mail: fraunhofer@deutsche-evergabe.de 📧
URL der Dokumente: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
URL der Teilnahme: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Referenz
Daten
Absendedatum: 2018-07-18 📅
Einreichungsfrist: 2018-08-17 📅
Veröffentlichungsdatum: 2018-07-20 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2018/S 138-314673
ABl. S-Ausgabe: 138
Zusätzliche Informationen
“— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter...”
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Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit...”
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“1) Technische Anforderungen:”
“— Verdampfungskammer mit Fronttür und Sichtfenster,”
“— Substrataufnahme (Kalotte) für mindestens 8 Substrate (Wafer mit d=200 mm),”
“— die manuelle Beladung soll ergonomisch und möglichst einfach gestaltet sein, um auch filigrane Wafer sicher handeln zu können. (Kein Über-Kopf-Handling,...”
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“— Mind. 2 Elektronenstrahlkanonen (1x für Metalle, 1x für Oxide),”
“— Mind. 10 Tiegel, um verschiedene Verdampfungsmaterialien nutzen zu können,”
“— Automatik-/Rezept-gesteuerte InSitu-Beschichtung von Schichtstapeln (z. B. Oxid1-Oxid2-Oxid1).”
“Zu 1.:”
“— Ionenstrahlquelle für Ionenstrahlassistiertes Verdampfen,”
“— Thermische Verdampfungsquelle,”
“— Shutter für alle Verdampfungsquellen,”
“— Verteilungsblende(n) zur Optimierung der Schichtdickenhomogenität,”
“— Schichtdickenmessung mittels Schwingquarz,”
“— Optisches Monitoring System (Breitband) im Wellenlängenbereich 300 – 1 100 nm, 5 nm Auflösung zur InSitu-Monitorierung von Schichtdicken und...”
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“2) Optionale Anforderungen”
“— Automatisches Handlingssystem (Kassette-zu-Kassette), geeignet für 8” Standard SEMI Kassetten Typ „DMS 780-550000005“”
“Hier ist insbesondere vom Anbieter zu prüfen, ob das Handlingssystem auch für filigrane Wafer mit Gruben/Löchern und für den Einsatz von Schattenmasken...”
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“— Option funkgesteuerte Multi-Shutter-Kalotte für die Teil-Beschichtung von Multi-Layer-Stacks in einem Run.”
“3) Technologische Anforderungen”
“— Verdampfen von Al mit hoher und niedriger Rate,”
“— Verdampfen von SiO2, TiO2, Ta2O5 und Schichtstapeln basierend auf diesen Materialien,”
“— Gute Homogenität (<3 %) und Reproduzierbarkeit Wafer-zu-Wafer und Los-zu-Los (<1 %),”
“— Die Anlage soll prinzipiell in der Lage sein, auch weitere Metalle, Oxide (z. B. Nb2O5) und Flouride verdampfen zu können.”
Dauer: 6 Monate
Beschreibung der Optionen:
“Optional soll Zubehör angeboten werden.”
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:
“01109 Dresden”
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
“(1) Firmenprofil und Angabe von Mitarbeiterzahlen;”
“(2) Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre;”
“(3) Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen (s. Anlage);”
“(4) Auszug aus dem Gewerbezentralregister gemäß § 150a GewO (wird durch den Auftraggeber angefordert).”
Technische und berufliche Fähigkeiten:
“(1) Komplette Referenzen (Kontaktdaten) von vergleichbaren Anlagen, nicht älter als 3 Jahre. Sollten Sie aus datenschutzrechtlichen Gründen Ihre...”
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“(2) Bekanntgabe der Anzahl von vergleichbar gefertigten Anlagen für die Halbleiterindustrie in Europa;”
“(3) Bekanntgabe der Anzahl von vergleichbar gefertigten Anlagen für die Halbleiterindustrie weltweit.”
Auftragsausführung
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
“Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien...”
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Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Mindestzahl der Bewerber: 3
Höchstzahl der Bewerber: 5
Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Anzahl von Bewerbern:
“Gemäß Eignungskriterien, Referenzen, Anzahl der Geräte im Feld.”
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 23:59
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Englisch 🗣️
Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Forschungsgesellschaft e. V.
Kontakt
Adresse des Käuferprofils: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Dokumente URL: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Referenz
Zusätzliche Informationen
“— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter...”
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“— Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB)”
“— Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet...”
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Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
“Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen,...”
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Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postort: Bonn
Land: Deutschland 🇩🇪
Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal eVergabe
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de 📧
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de 🌏
Quelle: OJS 2018/S 138-314673 (2018-07-18)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Dampf- oder Sandstrahlmaschinen
Referenznummer: E_048_252408 cl-golame FMD
Kurze Beschreibung:
“Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit...”
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Dampf- oder Sandstrahlmaschinen 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Dresden 🏙️
Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot
Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe
Postanschrift: Hansastr. 27c
Postleitzahl: 80686
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de 🌏
E-Mail: fraunhofer@deutsche-evergabe.de 📧
URL der Dokumente: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
URL der Teilnahme: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Referenz
Daten
Absendedatum: 2018-07-18 📅
Einreichungsfrist: 2018-08-17 📅
Veröffentlichungsdatum: 2018-07-20 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2018/S 138-314673
ABl. S-Ausgabe: 138
Zusätzliche Informationen
“— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter...”
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit...”
“1) Technische Anforderungen:”
Mehr anzeigen (22)
“— Verdampfungskammer mit Fronttür und Sichtfenster,”
“— Substrataufnahme (Kalotte) für mindestens 8 Substrate (Wafer mit d=200 mm),”
“— die manuelle Beladung soll ergonomisch und möglichst einfach gestaltet sein, um auch filigrane Wafer sicher handeln zu können. (Kein Über-Kopf-Handling,...”
“— Mind. 2 Elektronenstrahlkanonen (1x für Metalle, 1x für Oxide),”
“— Mind. 10 Tiegel, um verschiedene Verdampfungsmaterialien nutzen zu können,”
“— Automatik-/Rezept-gesteuerte InSitu-Beschichtung von Schichtstapeln (z. B. Oxid1-Oxid2-Oxid1).”
“Zu 1.:”
“— Ionenstrahlquelle für Ionenstrahlassistiertes Verdampfen,”
“— Thermische Verdampfungsquelle,”
“— Shutter für alle Verdampfungsquellen,”
“— Verteilungsblende(n) zur Optimierung der Schichtdickenhomogenität,”
“— Schichtdickenmessung mittels Schwingquarz,”
“— Optisches Monitoring System (Breitband) im Wellenlängenbereich 300 – 1 100 nm, 5 nm Auflösung zur InSitu-Monitorierung von Schichtdicken und...”
“2) Optionale Anforderungen”
“— Automatisches Handlingssystem (Kassette-zu-Kassette), geeignet für 8” Standard SEMI Kassetten Typ „DMS 780-550000005“”
“Hier ist insbesondere vom Anbieter zu prüfen, ob das Handlingssystem auch für filigrane Wafer mit Gruben/Löchern und für den Einsatz von Schattenmasken...”
“— Option funkgesteuerte Multi-Shutter-Kalotte für die Teil-Beschichtung von Multi-Layer-Stacks in einem Run.”
“3) Technologische Anforderungen”
“— Verdampfen von Al mit hoher und niedriger Rate,”
“— Verdampfen von SiO2, TiO2, Ta2O5 und Schichtstapeln basierend auf diesen Materialien,”
“— Gute Homogenität (<3 %) und Reproduzierbarkeit Wafer-zu-Wafer und Los-zu-Los (<1 %),”
“— Die Anlage soll prinzipiell in der Lage sein, auch weitere Metalle, Oxide (z. B. Nb2O5) und Flouride verdampfen zu können.”
Beschreibung der Optionen:
“Optional soll Zubehör angeboten werden.”
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:
“01109 Dresden”
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
“(1) Firmenprofil und Angabe von Mitarbeiterzahlen;”
“(2) Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre;”
Mehr anzeigen (2)
“(3) Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen (s. Anlage);”
“(4) Auszug aus dem Gewerbezentralregister gemäß § 150a GewO (wird durch den Auftraggeber angefordert).”
“(1) Komplette Referenzen (Kontaktdaten) von vergleichbaren Anlagen, nicht älter als 3 Jahre. Sollten Sie aus datenschutzrechtlichen Gründen Ihre...”
“(2) Bekanntgabe der Anzahl von vergleichbar gefertigten Anlagen für die Halbleiterindustrie in Europa;”
Mehr anzeigen (1)
“(3) Bekanntgabe der Anzahl von vergleichbar gefertigten Anlagen für die Halbleiterindustrie weltweit.”
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
“Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien...”
Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Mindestzahl der Bewerber: 3
Höchstzahl der Bewerber: 5
Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Anzahl von Bewerbern:
“Gemäß Eignungskriterien, Referenzen, Anzahl der Geräte im Feld.”
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 23:59
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Englisch 🗣️
Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Forschungsgesellschaft e. V.
Kontakt
Adresse des Käuferprofils: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Dokumente URL: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Referenz
Zusätzliche Informationen
“— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter...”
“— Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB)”
Mehr anzeigen (1)
“— Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet...”
Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
“Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen,...”
Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postort: Bonn
Land: Deutschland 🇩🇪
Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal eVergabe
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de 📧
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de 🌏
Quelle: OJS 2018/S 138-314673 (2018-07-18)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2018-12-19)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit...”
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Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Verfahren
Angebotsart: Entfällt
Referenz
Daten
Absendedatum: 2018-12-19 📅
Veröffentlichungsdatum: 2018-12-21 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2018/S 246-563872
Verweist auf Bekanntmachung: 2018/S 138-314673
ABl. S-Ausgabe: 246
Zusätzliche Informationen
“— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter...”
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Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit...”
Mehr anzeigen
“– Verdampfungskammer mit Fronttür und Sichtfenster,”
“– Substrataufnahme (Kalotte) für mindestens 8 Substrate (Wafer mit d= 200 mm),”
“– die manuelle Beladung soll ergonomisch und möglichst einfach gestaltet sein, um auch filigrane Wafer sicher handeln zu können. (Kein Über-Kopf-Handling,...”
Mehr anzeigen
“– Mind. 2 Elektronenstrahlkanonen (1x für Metalle, 1x für Oxide),”
“– Mind. 10 Tiegel, um verschiedene Verdampfungsmaterialien nutzen zu können,”
“– Automatik-/Rezept-gesteuerte InSitu-Beschichtung von Schichtstapeln (z. B. Oxid1-Oxid2-Oxid1).”
“– Ionenstrahlquelle für Ionenstrahl assistiertes Verdampfen,”
“– thermische Verdampfungsquelle,”
“– Shutter für alle Verdampfungsquellen,”
“– Verteilungsblende(n) zur Optimierung der Schichtdickenhomogenität,”
“– Schichtdickenmessung mittels Schwingquarz,”
“– optisches Monitoring System (Breitband) im Wellenlängenbereich 300 – 1100 nm, 5 nm Auflösung zur InSitu-Monitorierung von Schichtdicken und...”
Mehr anzeigen
“2) Optionale Anforderungen:”
“– automatisches Handlingssystem (Kassette-zu-Kassette), geeignet für 8” Standard SEMI Kassetten Typ “DMS 780-550000005”.”
“– Option funkgesteuerte Multi-Shutter-Kalotte für die Teil-Beschichtung von Multi-Layer-Stacks in einem Run.”
“3) Technologische Anforderungen:”
“– Verdampfen von Al mit hoher und niedriger Rate,”
“– Verdampfen von SiO2, TiO2, Ta2O5 und Schichtstapeln basierend auf diesen Materialien,”
“– Gute Homogenität (<3 %) und Reproduzierbarkeit Wafer-zu-Wafer und Los-zu-Los (<1 %),”
“– die Anlage soll prinzipiell in der Lage sein, auch weitere Metalle, Oxide (z. B. Nb2O5) und Flouride verdampfen zu können.”
Verfahren
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Technische Ausführung incl. angebotener Optionen (EPS)
Qualitätskriterium (Gewichtung): 45
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Footprint Reinraum
Qualitätskriterium (Gewichtung): 10
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Service, Cost of Ownership
Preis (Gewichtung): 35
Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2018-12-13 📅
Name: Evatec Europe GmbH
Postanschrift: Karl-Hammerschmidt-Str. 34
Postort: Aschheim
Postleitzahl: 85609
Land: Deutschland 🇩🇪
München, Landkreis 🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
“Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen,...”
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Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe
Quelle: OJS 2018/S 246-563872 (2018-12-19)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit...”
Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Verfahren
Angebotsart: Entfällt
Referenz
Daten
Absendedatum: 2018-12-19 📅
Veröffentlichungsdatum: 2018-12-21 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2018/S 246-563872
Verweist auf Bekanntmachung: 2018/S 138-314673
ABl. S-Ausgabe: 246
Zusätzliche Informationen
“— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter...”
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR- Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen Schichte mit...”
“– Verdampfungskammer mit Fronttür und Sichtfenster,”
Mehr anzeigen (19)
“– Substrataufnahme (Kalotte) für mindestens 8 Substrate (Wafer mit d= 200 mm),”
“– die manuelle Beladung soll ergonomisch und möglichst einfach gestaltet sein, um auch filigrane Wafer sicher handeln zu können. (Kein Über-Kopf-Handling,...”
“– Mind. 2 Elektronenstrahlkanonen (1x für Metalle, 1x für Oxide),”
“– Mind. 10 Tiegel, um verschiedene Verdampfungsmaterialien nutzen zu können,”
“– Automatik-/Rezept-gesteuerte InSitu-Beschichtung von Schichtstapeln (z. B. Oxid1-Oxid2-Oxid1).”
“– Ionenstrahlquelle für Ionenstrahl assistiertes Verdampfen,”
“– thermische Verdampfungsquelle,”
“– Shutter für alle Verdampfungsquellen,”
“– Verteilungsblende(n) zur Optimierung der Schichtdickenhomogenität,”
“– Schichtdickenmessung mittels Schwingquarz,”
“– optisches Monitoring System (Breitband) im Wellenlängenbereich 300 – 1100 nm, 5 nm Auflösung zur InSitu-Monitorierung von Schichtdicken und...”
“2) Optionale Anforderungen:”
“– automatisches Handlingssystem (Kassette-zu-Kassette), geeignet für 8” Standard SEMI Kassetten Typ “DMS 780-550000005”.”
“– Option funkgesteuerte Multi-Shutter-Kalotte für die Teil-Beschichtung von Multi-Layer-Stacks in einem Run.”
“3) Technologische Anforderungen:”
“– Verdampfen von Al mit hoher und niedriger Rate,”
“– Verdampfen von SiO2, TiO2, Ta2O5 und Schichtstapeln basierend auf diesen Materialien,”
“– Gute Homogenität (<3 %) und Reproduzierbarkeit Wafer-zu-Wafer und Los-zu-Los (<1 %),”
“– die Anlage soll prinzipiell in der Lage sein, auch weitere Metalle, Oxide (z. B. Nb2O5) und Flouride verdampfen zu können.”
Verfahren
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Technische Ausführung incl. angebotener Optionen (EPS)
Qualitätskriterium (Gewichtung): 45
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Footprint Reinraum
Qualitätskriterium (Gewichtung): 10
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Service, Cost of Ownership
Preis (Gewichtung): 35
Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2018-12-13 📅
Name: Evatec Europe GmbH
Postanschrift: Karl-Hammerschmidt-Str. 34
Postort: Aschheim
Postleitzahl: 85609
Land: Deutschland 🇩🇪
München, Landkreis 🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
“Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen,...”
Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe
Quelle: OJS 2018/S 246-563872 (2018-12-19)
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