Beschaffung einer Atomic Layer Deposition Anlage

Deutsche Forschungsgemeinschaft e.V., Zentrale Beschaffungsstelle

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2018-02-05. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2018-01-04.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• Picosun Oy

Wer?

• Deutsche Forschungsgemeinschaft e.V., Zentrale Beschaffungsstelle

Wie?

• Industrielle Maschinen

Wo?

• Baden-Württemberg › Tübingen
• Köln › Bonn, Kreisfreie Stadt

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2018-01-04	Auftragsbekanntmachung
2018-07-16	Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Auftragsbekanntmachung (2018-01-04)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Industrielle Maschinen
Referenznummer: ZUK 63/2018 (A 750)
Kurze Beschreibung:

Es wird beabsichtigt, ein Atomic Layer Deposition System zu erwerben. Zur Verwendung durch mehrere Forschungsgruppen muss das System einen möglichst flexiblen Betrieb zulassen. Standardmäßig soll zunächst der abwechselnde/parallele Betrieb mit Precursoren zur thermischen Abscheidung von Al2O3, TiO2 und ZnO möglich sein, ohne Umbaumaßnahmen beim Wechsel der Precursoren. Längerfristig ist zusätzlich die Abscheidung von SiO2 (sowie der Einsatz temperaturempfindlicher Substrate) geplant. Das System muss daher, wenn nicht direkt beinhaltet, für eine zukünftige Aufrüstung mit einer remote Plasma- oder Ozon-Quelle, sowie die zusätzlich benötigten Precursoren vorbereitet sein. Das Vakuumsystem muss entsprechend mit einer Fomblin- oder Trockenpumpe für den Betrieb mit O2 ausgestattet sein. Für den flexiblen Einsatz muss die Probenkammer mind. für Substrate von 100 mm x 50 mm ausgelegt sein und einen Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 350

Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Industrielle Maschinen 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Tübingen 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Deutsche Forschungsgemeinschaft e.V., Zentrale Beschaffungsstelle
Postanschrift: Kennedyallee 40
Postleitzahl: 53175
Postort: Bonn
Kontakt
Internetadresse: http://www.dfg.de 🌏
E-Mail: boris.licker@dfg.de 📧
Telefon: +49 228885-2105 📞
Fax: +49 2288853676 📠
URL der Dokumente: http://www.dfg.de/foerderung/programme/infrastruktur/wgi/zentrale_beschaffungsstelle/index.html 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2018-01-04 📅
Einreichungsfrist: 2018-02-05 📅
Veröffentlichungsdatum: 2018-01-06 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2018/S 004-004611
ABl. S-Ausgabe: 4
Zusätzliche Informationen

Zu II.2.7): Es handelt sich um einen einmaligen Lieferauftrag OHNE Laufzeiten, das Formular erfordert in diesem Feld jedoch eine Eingabe.

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Längerfristig ist zusätzlich die Abscheidung von SiO2 (sowie der Einsatz temperaturempfindlicher Substrate) geplant. Das System muss daher, wenn nicht direkt beinhaltet, für eine zukünftige Aufrüstung mit einer remote Plasma- oder Ozon-Quelle, sowie die zusätzlich benötigten Precursoren vorbereitet sein. Das Vakuumsystem muss entsprechend mit einer Fomblin- oder Trockenpumpe für den Betrieb mit O2 ausgestattet sein.

Für den flexiblen Einsatz muss die Probenkammer mind. für Substrate von 100 mm x 50 mm ausgelegt sein und einen Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 350

Es wird beabsichtigt, ein Atomic Layer Deposition System zu erwerben. Bedingt durch die Verwendung durch mehrere Forschungsgruppen muss das System einen möglichst flexiblen Betrieb zulassen. Standardmäßig soll zunächst der abwechselnde/parallele Betrieb mit Precursoren zur thermischen Abscheidung von Al2O3, TiO2 und ZnO möglich sein, ohne Umbaumaßnahmen beim Wechsel der Precursoren.

Längerfristig ist zusätzlich die Abscheidung von SiO2 (sowie auch der Einsatz temperaturempfindlicher Substrate) geplant. Das System muss daher, wenn nicht direkt beinhaltet, für eine zukünftige Aufrüstung mit einer remote Plasma- oder Ozon-Quelle, sowie die zusätzlich benötigten Precursoren vorbereitet sein. Das Vakuumsystem muss entsprechend mit einer Fomblin- oder Trockenpumpe für den Betrieb mit O2 ausgestattet sein.

Um mögliche Einsatzbereiche nicht einzuschränken, muss die Probenkammer für Substrate von mind. 100 mm x 50 mm ausgelegt sein und mind. einen Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 350

Gefordert sind Angebote über auf dem Markt etablierte Atomic Layer Deposition Systeme mit mindestens 100 installierten Anlagen des angebotenen Typs oder von direkten Vorgängermodellen im Feld. Der Anbieter muss zudem über in Deutschland stationierte Service-Techniker verfügen. Die Anlage muss ein voll funktionsfähiges Stand-Alone System inklusive Steuerungs-PC und Software sein, Benchtop-Lösungen sind nicht erwünscht. Die Probenkammer muss für Prozesse von Raumtemperatur bis mindestens 350

Das ALD System muss über eine thermische Atomic Layer Deposition Funktionalität verfügen und mit mindestens 4 Liquid Source Lines für den dauerhaften Betrieb mit Al2O3, TiO2, ZnO Precursoren und H2O ausgelegt sein. Die entsprechenden Container müssen im Angebot enthalten sein. Die Art der ALD-Ventile ist anzugeben, es werden hochwertige, langlebige Ventile mit schnellen Schaltzeiten gefordert. Das ALD System muss zudem zur Abscheidung von SiO2 geeignet oder mindestens für eine Nachrüstung (Plasma-System oder Ozon-Generator, inklusive benötigter Gasleitungen) vorbereitet sein. Das Vakuumsystem muss dementsprechend aus Sicherheitsgründen mit einer Fomblin- oder einer Trockenpumpe ausgestattet sein. Rückströmungen in die Probenkammer müssen durch eine Foreline-Trap sicher ausgeschlossen werden.

Das Angebot muss inklusive Versand und Verpackung abgegeben werden und die Installation im Reinraum sowie die Abnahme enthalten. Als Abnahmekriterium ist eine Dickenvariation von < 1 % bei einem Al2O3 beschichteten 100 mm Wafer gefordert. Für die Inbetriebnahme fordern wir zusätzlich ein Nutzer-Training für mindestens zwei teilnehmende Personen über mindestens zwei Tage.

Die Angebote werden zudem über die oben genannten, zwingend notwendigen Eigenschaften hinaus nach den folgenden optionalen Kriterien bewertet:

System:

— Probenkammer für Temperaturbereich von 350

— Vorbereitet für weitere LSL (liquid source lines).

— Precursor-Kabinett an Abluft anschließbar.

— Schleusensystem optional nachrüstbar oder bereits installiert.

Plasma-Option:

— Plasma-System bereits inklusive.

— Auswahlmöglichkeit zwischen direktem Plasma und remote Plasma.

— Gaslinien für N2, O2 und reaktives (evtl. toxisches) Gas.

— Gas-Alarm-System.

Ozon-Generator:

— Ozon-Generator optional nachrüstbar oder bereits installiert.

Substrate:

— Max. Probendurchmesser von > 100 mm prozessierbar.

— Max. Probenhöhe von > 50 mm prozessierbar.

Precursor:

— Vorab befüllte Precursor-Container oder Precursor-Materialien inklusive.

Vakuumsystem:

— Trockenpumpe bevorzugt.

— Exhaust-Filter / Dry Bed Absorber.

Installation:

— Trainingstage.

— Anzahl der Teilnehmer.

— Abnahmekriterien.

— Ersatzteile inklusive.

Dauer: 3 Monate
Zusätzliche Informationen:

Zu II.2.7): Es handelt sich um einen einmaligen Lieferauftrag OHNE Laufzeiten, das Formular erfordert in diesem Feld jedoch eine Eingabe.

Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Universität Tübingen

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Auftragsausführung
Bedingungen für die Vertragserfüllung:

Anzahlungen bis zur Höhe von max. 50 % des Kaufpreises werden nur gegen unbefristete Bankbürgschaft nach deutschem Recht geleistet.

Verfahren
Datum der Absendung der Aufforderungen: 2018-02-16 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Technischer Wert
Qualitätskriterium (Gewichtung): 50
Gewichtung des Preises: 50

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: e.V.
Kontakt
Kontaktperson: Deutsche Forschungsgemeinschaft
Internetadresse: www.dfg.de 🌏
Dokumente URL: http://www.dfg.de/foerderung/programme/infrastruktur/wgi/zentrale_beschaffungsstelle/index.html 🌏

Referenz
Zusätzliche Informationen

Das Aktenzeichen entsprechend Ziff. II.1.1) ist bei sämtlicher Korrespondenz anzugeben.

Die vollständigen Unterlagen für den Teilnahmewettbewerb sind hier veröffentlicht. Weitergehende Auftragsunterlagen werden mit der Angebotsaufforderung nach dem Schlusstermin für Teilnahmeanträge versendet.

Beim Schlusstermin laut Ziff. IV.2.2) handelt es sich um den Schlusstermin für den Eingang der Teilnahmeanträge (nicht für den Eingang der Angebote). Vor Ablauf des Schlusstermins gemäß Ziff. IV.2.2) werden keine Verdingungsunterlagen versendet.

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes
Postanschrift: Villemomber Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Das GWB (Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen) verpflichtet uns, Sie zu gegebener Zeit über die beabsichtigte Auftragsvergabe zu informieren. Hiergegen haben Sie die Möglichkeit, innerhalb einer festgelegten Frist vor der Vergabekammer des Bundes zu klagen. Im Falle einer fristgerechten Klage erbitten wir eine entsprechende Information.

Quelle: OJS 2018/S 004-004611 (2018-01-04)

Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2018-07-16)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Referenznummer: ZUK 63/2016 (A 750)
Kurze Beschreibung: Beschaffung einer Atomic Layer Deposition Anlage
Gesamtwert des Auftrags: 169 000 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Angebotsart: Entfällt

Referenz
Daten
Absendedatum: 2018-07-16 📅
Veröffentlichungsdatum: 2018-07-18 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2018/S 136-310670
Verweist auf Bekanntmachung: 2018/S 004-004611
ABl. S-Ausgabe: 136

Verfahren
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): technischer Wert
Preis (Gewichtung): 50

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2018-07-16 📅
Name: Picosun Oy
Postort: Espoo
Land: Finnland 🇫🇮
Gesamtwert des Auftrags: 169 000 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 4
Quelle: OJS 2018/S 136-310670 (2018-07-16)

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